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ホーム > 資料・統計 > 刊行物・報告書 > 標準技術集 > 光触媒(基本原理)

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光触媒(基本原理)

1 酸化チタン光触媒の原理、特性

1-A 酸化チタンの物性と光活性

1-A-1 触媒の結晶構造

1-A-2 正孔、電荷・電子移動

1-A-3 光利用効率

1-A-4 吸光度

1-A-5 光透過性

1-A-6 酸化・還元活性

1-B 酸化チタン光触媒の基礎反応

1-B-1 酸化還元反応

1-B-2 超親水性

1-B-3 光触媒機能の制御

1-B-4 光触媒電極

1-B-5 電気化学的特性

1-B-6 超音波効果

1-B-7 CO2、N2等の光還元

2 光触媒用酸化チタンの製法

2-A 粉体触媒の製造

2-A-1 微粒子光触媒の製造(湿式法)

2-A-2 微粒子光触媒の製造(乾式法)

2-A-3 微粒子光触媒の製造(その他)

2-A-4 ゾル状光触媒の製造

2-A-5 層状酸化チタン

2-A-6 高次構造化酸化チタン触媒

2-A-7 加熱処理・焼成

2-A-8 光触媒用担体

2-A-9 光触媒担持方法

2-B 薄膜触媒の製造

2-B-1 液体コーティング法

2-B-2 蒸着

2-B-3 光触媒の修飾

2-B-4 光触媒の接着法、バインダー

2-B-5 陽極酸化

2-C 光触媒の複合化

2-C-1 吸着機能剤との複合化

2-C-2 親水材との複合化

2-C-3 抗菌性成分との複合化

2-C-4 分離膜、分離膜機能との複合化

2-C-5 その他

3 高活性化・可視光化

3-A 比表面積の拡大

3-A-1 触媒担体を用いた比表面積の拡大

3-A-2 二次処理による比表面積の拡大

3-B 有効波長領域とその拡大

3-B-1 高温脱気・還元処理による可視光化

3-B-2 湿式金属導入法

3-B-3 気相金属イオン導入法

3-B-4 その他異原子導入(TiO2-xNxなど)

3-B-5 高エネルギー光、電磁波照射法

3-B-6 触媒効率(量子収率)の変化

3-B-7 複層化、パターン化

3-B-8 異種半導体との複合化

3-C 第2触媒機能導入、光吸収機能改善による高活性化

3-C-1 蓄光型光触媒

3-C-2 増感剤、色素、金属錯体の併用

3-C-3 光散乱、反射率の抑制

3-C-4 金属、金属化合物触媒の導入

4 評価技術

4-A 光半導体特性の評価法

4-A-1 分光学的特性(キャラクタリゼーション)

4-A-2 物性、耐熱性の新しい評価法

4-A-3 計算化学による評価法

4-B 光触媒活性評価法

4-B-1 標準活性評価法

4-B-2 ハイスループット法

4-B-3 ニュ-ラルネットワーク法

4-B-4 イメージング

[更新日 2003年3月28日]

お問い合わせ

特許庁総務部企画調査課技術動向班
電話:03-3581-1101 内線2155
FAX:03-3580-5741
E-mail:PA0930@jpo.go.jp

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