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ホーム > 資料・統計 > 刊行物・報告書 > 標準技術集 > 質量分析技術(マススペクトロメトリー)

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質量分析技術(マススペクトロメトリー)

1 質量分析関連機器

1-1 試料導入部

1-1-1 脱離

1-1-2 スプレー

1-1-3 その他の試料導入法

1-2 イオン源

1-2-1 電子相互作用

1-2-2 化学反応

1-2-3 スプレー

1-2-4 粒子衝撃

1-2-5 レーザー照射

1-2-6 電場

1-2-7 イオン付着

1-2-8 放射線

1-3 イオン導入部

1-3-1 脱溶媒

1-3-2 イオン流制御系

1-4 質量分離部

1-4-1 基本型

1-4-2 連結型

1-5 イオン検出器

1-5-1 写真乾板

1-5-2 ファラデーカップ

1-5-3 二次電子増倍管

1-5-4 超伝導検出器

1-6 その他の装置

1-6-1 真空・排気系

1-6-2 衝突・反応部

1-6-3 加速器

1-6-4 装置制御

1-7 データ処理

1-7-1 ネットワーク接続

1-8 ハイフネーテッド技術

1-8-1 クロマトグラフィー

1-8-2 電気泳動

1-8-3 熱分析

1-8-4 イオン移動度測定

2 質量分析全般技術

2-1 マトリックスの取り扱い

2-1-1 スポッティング

2-1-2 マトリックスの種類

2-1-3 プレートの種類

2-2 イオン種

2-2-1 両極性測定

2-2-2 同位体比

2-2-3 帰属、同定

2-3 フラグメンテーション

2-3-1 フラグメント方法

2-3-2 フラグメント予測

2-4 データ処理

2-4-1 スペクトル処理

2-5 測定方法

2-5-1 MSモード

2-5-2 MS/MS(MSn)モード

2-6 定量分析

2-6-1 検量線法

2-6-2 同位体希釈法

2-7 帯電補正

2-7-1 絶縁体分析

2-8 分布測定

2-8-1 一次元

2-8-2 二次元

2-8-3 三次元

2-9 ユーザビリティ

2-9-1 自動化

2-9-2 小型化

3 試料・目的別技術

3-1 有害物質(公定法による分析方法)

3-1-1 大気

3-1-2 水質

3-1-3 土壌

3-1-4 食品

3-2 金属・セラミックス・半導体・工業材料

3-2-1 金属材料

3-2-2 半導体

3-2-3 有機合成高分子

3-2-4 ファインセラミックス

3-2-5 表面分析

3-3 地球化学・宇宙化学試料

3-3-1 気体試料

3-3-2 固体試料

3-4 セキュリティ

3-4-1 薬物、毒物の鑑識

3-4-2 爆薬、危険物

3-5 医薬

3-5-1 医薬品

3-5-2 診断

3-6 生体試料

3-6-1 ゲノム

3-6-2 プロテオーム

3-6-3 メタボローム

※「Invader」:サード・ウェーブ・テクノロジーズ・インクの登録商標
※「ICAT」:ユニバーシティ・オブ・ワシントンの登録商標
※「ITRAQ」:アプレラ コーポレイションの登録商標

お問い合わせ

特許庁総務部企画調査課技術動向班
電話:03-3581-1101 内線2155
FAX:03-3580-5741
E-mail:PA0930@jpo.go.jp

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