| ２−５−１ 化学吸着式処理装置（１） |
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| 【技術分類】 |
| ２−５ 排ガス処理装置 |
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| 【技術の名称】 |
| ２−５−１ 化学吸着式処理装置（１） |
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| 【技術内容】 |
| 本技術では半導体産業・カラー液晶産業・太陽電池産業などで使用される、毒性や腐食性のある特殊材料ガスに薬剤を使用することにより、ガスを最終的に接触酸化または化学吸着させ、安全に低コストで、許容濃度（TLV-TWA）以下まで処理するものである。 |
| ガスの種類に合わせて多くの化学吸着排ガス処理装置が存在する。図１にイナート系処理タイプのフローシートを示す。 |
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| 【図】 |
| 図１ イナート系処理タイプのフローシート |
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| 出典（引用情報）：著者の名前：大陽東洋酸素株式会社、表題：「吸着式排ガス処理装置 TOXOCLEAN」PDFファイル、関連箇所：３頁、図、「online」、掲載年月日：2001年８月９日、掲載者：大陽東洋酸素株式会社、掲載場所：大陽東洋酸素株式会社ホームページ、製品総覧、半導体関連事業部、「吸着式排ガス処理装置 TOXOCLEAN」：2003年10月30日、情報源およびアドレス：http://www.saan.co.jp/seihin/f_seihin3.htm |
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| 図２ 外観 |
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| 出典（引用情報）：著者の名前：大陽東洋酸素株式会社、表題：「吸着式排ガス処理装置 TOXOCLEAN」PDFファイル、関連箇所：１頁、写真、「online」、掲載年月日：2001年８月９日、掲載者：大陽東洋酸素株式会社、掲載場所：大陽東洋酸素株式会社ホームページ、製品総覧、半導体関連事業部、「吸着式排ガス処理装置 TOXOCLEAN」：2003年10月30日、情報源およびアドレス：http://www.saan.co.jp/seihin/f_seihin3.htm |
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| 図３ 主な化学吸着式排ガス処理装置の種類と用途 |
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| 出典（引用情報）：著者の名前：大陽東洋酸素株式会社、表題：「吸着式排ガス処理装置 TOXOCLEAN」PDFファイル、関連箇所：１頁、図、「online」、掲載年月日：2001年８月９日、掲載者：大陽東洋酸素株式会社、掲載場所：大陽東洋酸素株式会社ホームページ、製品総覧、半導体関連事業部、「吸着式排ガス処理装置 TOXOCLEAN」：2003年10月30日、情報源およびアドレス：http://www.saan.co.jp/seihin/f_seihin3.htm |
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| 【出典／参考資料】 |
| 出典（引用情報）：著者の名前：大陽東洋酸素株式会社、表題：「吸着式排ガス処理装置 TOXOCLEAN」PDFファイル、関連箇所：１頁〜４頁、「online」、掲載年月日：2001年８月９日、掲載者：大陽東洋酸素株式会社、掲載場所：大陽東洋酸素株式会社ホームページ、製品総覧、半導体関連事業部、「吸着式排ガス処理装置 TOXOCLEAN」：2003年10月30日、情報源およびアドレス：http://www.saan.co.jp/seihin/f_seihin3.htm |
