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平成29年度知的財産に関する日中共同研究報告書

表紙(PDF:36KB)

日中共同研究参加者一覧(PDF:45KB)

目次(PDF:105KB)

第1章 平成29年度 知的財産保護包括協力推進事業の概要(PDF:244KB)

  • 第1節 共同研究の背景と目的
  • 第2節 共同研究の概要
  • 第3節 研究者会議、ワークショップ、意見交換の概要

第2章 知財専門裁判所の在り方に関する研究(PDF:651KB)

  • 第1節 研究内容の要約
  • 第2節 知的財産高等裁判所の設立以来
    1. 「知的財産高等裁判所の大合議制度の評価と課題」
      中山 一郎 教授(國學院大學)
    2. 「知的財産分野における近時の最高裁判決の傾向について」
      宮脇 正晴 教授(立命館大学)
  • 第3節 知識産権専門法院の在り方
    1. 「中国における知識産権法院建設の理論と実践」
      呉 漢東 教授(中南財経政法大学)
    2. 「中国における知識産権法院の設置及び発展」
      李 明徳 教授(中国社会科学院)

第3章 悪意の商標に関する研究(PDF:799KB)

  • 第1節 研究内容の要約
  • 第2節 中国の制度現状から
    1. 「商標の抜け駆け登録抑制問題における商品化権―中日の学説と制度の比較」
      彭 学龍 教授(中南財経政法大学)
    2. 「商標の悪意ある冒認出願規制の日中比較研究」
      張 鵬 助理研究員(中国社会科学院)
  • 第3節 日本の制度現状から
    1. 「悪意の商標出願と商標法の基本理念」
      小塚 荘一郎 教授(学習院大学)
    2. 「国内外の地名等を含む商標の商標登録出願の取扱いに関する研究」
      今村 哲也 准教授(明治大学)

第4章 部分意匠の保護に関する研究(PDF:1,264KB)

  • 第1節 研究内容の要約
  • 第2節 日本の制度現状
    1. 「部分意匠の類否判断について」
      茶園 成樹 教授(大阪大学)
    2. 「部分意匠と全体意匠―その関係について」
      青木 大也 准教授(大阪大学)
  • 第3節 中国における部分外観設計の保護
    1. 「中国における部分外観設計保護の追加に関する研究」
      曹 新明 教授(中南財経政法大学)
    2. 「外観設計制度における「部分要素」が全体判断原則に及ぼす影響」
      顧 昕 助理研究員(国家知識産権局知識産権発展研究センター)
    3. 「部分外観設計の侵害判断に関する研究」
      管 育鷹 教授(中国社会科学院)

第5章 基礎調査概要

  1. 中国知的財産法院と非知的財産法院の比較調査(PDF:289KB)
  2. 中国悪意の商標調査(PDF:438KB)
  3. 中国商標侵害訴訟調査(PDF:321KB)

奥付(PDF:36KB)

全体版一括ダウンロード(PDF:2,544KB)

基礎資料 I. 中国知的財産法院と非知的財産法院の比較調査(PDF:485KB)

基礎資料 II. 中国悪意の商標調査(PDF:288KB)

基礎資料 III. 中国商標侵害訴訟調査(PDF:490KB)

[更新日 2018年4月13日]

お問い合わせ

特許庁総務部国際政策課  多国間政策第二班

電話:03-3581-1101  内線2564

FAX:03-3581-0762

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