,（参考）特許料等の減免措置一覧（２００４年４月現在）,,,,,
,,,,措　　置　　内　　容,,
,,,出願日,,,
,対　象,,,〜Ｈ１６．３．３１,Ｈ１６．４．１〜Ｈ１９．３．３１,Ｈ１９．４．１〜
,,,,,,
,国,,,免除,,
,,,,（特許法第１０７条、１９５条）,,
,国立大学法人,,,,免除,審査請求料：半額軽減
,大学共同利用機関法人,,,,（産業技術力強化法附則第３条）,特許料１〜３年分：半額軽減
,（独）高等専門学校,,,,,（産業技術力強化法第１６条）
,国立大学,,,免除,,
,認定ＴＬＯ,,,（改正法附則第８条）,,
,国立大学法人,,,,免除,審査請求料：半額軽減
,承認ＴＬＯ,,,,（ＴＬＯ法附則第３条）,特許料１〜３年分：半額軽減
,,,,,,（産業再生法第３２条、３３条）
,大学等,,,審査請求料：半額軽減,,
,承認ＴＬＯ,,,特許料１〜３年分：半額軽減,,
,,,,（産業再生法第３２条、３３条）,,
,試験研究型独立行政法人,,,免除,審査請求料：半額軽減,
,認定ＴＬＯ,,,（改正法附則第８条）,特許料１〜３年分：半額軽減,
,,,,,（ＴＬＯ法第１３条）,
,国立試験研究機関,,,免除,免除,
,認定ＴＬＯ,,,（ＴＬＯ法第１３条）,（ＴＬＯ法第１２条）,
,独立行政法人,,,免除,,
,（H16.3.31時点で特許法施行令に指定されているもの）,,,（改正法附則第２条４項）,,
,,,,,,
,独立行政法人,,,,審査請求料：半額軽減,
,（産業技術力強化法施行令に指定されているもの）,,,,特許料１〜３年分：半額軽減,
,,,,,（産業技術力強化法第１６条）,
,,,,審査請求料：免除、半額軽減，実用新案技術評価請求料：免除、半額軽減,,
,資力に乏しい個人,,,特許料１〜３年分：免除、３年間猶予，実用新案登録料１〜３年分：免除、３年間猶予,,
,,,,（特許法第１０９条、１９５条の２），（実用新案法第３２条の２、５４条）,,
,,,,審査請求料：半額軽減,,
,資力に乏しい法人,,,特許料１〜３年分：３年間猶予,,
,,,,（特許法第１０９条、１９５条の２）,,
,アカデミック・ディスカウント,,,審査請求料：半額軽減,,
,（大学等、大学等の研究者）,,,特許料１〜３年分：半額軽減,,
,,,,（産業技術力強化法第１６条）,,
,,,,審査請求料：半額軽減,,
,研究開発型中小企業,,,特許料１〜３年分：半額軽減,,
,,,,（産業技術力強化法第１７条）,,
,,,,,審査請求料：半額軽減,
,公設試験研究機関等,,,,特許料１〜３年分：半額軽減,
,,,,,（産業技術力強化法第１６条）,
,,,,,,
,（注）,,ＴＬＯ法：大学等における技術に関する研究成果の民間事業者への移転の促進に関する法律,,,
,,,改正法：特許法等の一部を改正する法律（平成１５年法律第４７号）,,,
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