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途上国研修「意匠実体審査(初級)コース」を行いました。

2015年8月17日

特許庁では、知的財産権の保護強化の観点から、途上国における産業財産権制度に携わる人材の育成を支援するために、アジア太平洋地域、ラテンアメリカ及びアフリカ地域の途上国・新興国から研修生を招へいし、日本において研修を開催しています。

7月23日から8月5日にかけて、「意匠実体審査(初級)コース」を今年度初めて実施しました。この研修は、ASEANを中心とした意匠審査官が迅速かつ的確に審査を行うための専門能力を高めることを目的としています。本研修に参加した15名の研修生は、我が国の意匠に関する関係法令、審査基準、審査実務に関する専門知識について講義を受講するとともに、意匠権侵害訴訟に関する事例研究を行いました。また、特許庁の意匠審査室を見学し、意匠審査の流れや意匠分類について学ぶとともに、企業訪問を通じて、企業における知財管理を学びました。研修生の帰国後の活躍が期待されます。

途上国研修「意匠実体審査(初級)コース」研修生(2015年度)
途上国研修「意匠実体審査(初級)コース」研修生(2015年度)

研修風景
研修風景

審査室見学
審査室見学

  

本年度の研修プログラム一覧は、こちらより御覧いただけます。

[更新日 2015年8月17日]