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第1回意匠五庁(ID5)年次会合が開催されました

2015年12月7日

2015年12月3日から4日に、日米欧中韓による、初めての意匠五庁会合をアメリカ・アレクサンドリアで開催しました。

日本国特許庁(JPO)、米国特許商標庁(USPTO)、欧州共同体商標意匠庁(OHIM)、中国国家知識産権局(SIPO)、韓国特許庁(KIPO)の世界の意匠出願の約9割を占める五庁により、今回初めて第1回意匠五庁年次会合(ID5)を開催し、意匠制度の国際的な協力を確認するとともに、今後五庁間で意匠分野での協力を推進していくことについて合意しました。

新たなID5の枠組において、各庁の意匠出願やファーストアクション等の統計情報を取りまとめること、及び意匠分類の整備し情報共有することに合意しました。その他、ID5ウェブサイトの開発、優先権書類の電子的交換(DAS)、アニメーションや3Dイメージデータによる出願やGUI(グラフィカル・ユーザー・インターフェイス)の保護等について検討がなされました。

第1回意匠五庁(ID5)年次会合の様子
ネグラオ 国際協力・法務部長(OHIM)、小林審査第一部長(JPO)、リー長官(USPTO)、チェ庁長(KIPO)、何副局長(SIPO)

[更新日 2015年12月8日]