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第2回意匠五庁(ID5)会合開催―意匠分野の国際協力が始動します

2016年11月4日

11月1日から2日に、意匠分野において日米欧中韓の協力を推進する第2回意匠五庁(ID5)会合を、中国・北京で開催しました。

今次会合では、世界の意匠出願の約9割を占める五庁間の制度相互理解の促進とユーザーの利便性の向上を目的とする各種プロジェクトに、今後ID5間で協力して取り組む旨の共同声明が採択されました。

また、ID5の意匠制度・審査実務の研究、情報技術支援システム、意匠分類、統計等をテーマとする、計12 の協力プロジェクトを立ち上げることが承認され、意匠分野の国際協力が始動します。日本国特許庁は、意匠制度ユーザーとID5、双方にとって有益な成果をもたらすと考えられる「意匠統計の取りまとめ」、「意匠分類に関する協定および実務の研究」、「意匠出願へのグレースピリオドの適用に関する比較研究」及び「意匠イノベーションのための効果的な保護手段としての部分意匠の比較研究」の4つのプロジェクトをリード庁として主導してまいります。

プレスリリース:「意匠分野の国際協力が始動します~日米欧中韓の意匠五庁が協力プロジェクトに合意しました~」(外部サイトへリンク)

(写真)韓国特許庁(KIPO) チェ商標デザイン審査局長、欧州連合知的財産庁(EUIPO) アルシャンボー副長官、中国国家知識産権局(SIPO) 申局長、澤井審査第一部長、米国特許商標庁(USPTO) ガーク特許弁護士
(写真)韓国特許庁(KIPO) チェ商標デザイン審査局長、欧州連合知的財産庁(EUIPO) アルシャンボー副長官、中国国家知識産権局(SIPO) 申局長、澤井審査第一部長、米国特許商標庁(USPTO) ガーク特許弁護士

[更新日 2016年11月4日]