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ホーム > 特許庁について > 最近の動き > フォトギャラリー > 途上国研修「商標実体審査コース」を行いました。

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途上国研修「商標実体審査コース」を行いました。

2016年11月30日

特許庁では、途上国において産業財産権制度に携わる人材の育成を支援するために、アジア太平洋地域、ラテンアメリカ及びアフリカ地域の途上国・新興国等から研修生を招へいし、日本において研修を実施しています。

11月17日から30日にかけて、商標審査官を対象とした「商標実体審査コース」を実施しました。

本研修に参加した8名の商標審査官は、商標及び商品・役務の類否判断、色彩のみからなる商標や音商標などの非伝統的商標、品質管理等に関する講義に加え、特許庁職員からのOJTや、実際の出願例を用いたケーススタディなどを通して、商標審査実務を学びました。

各国における商標審査能力の向上に向けて、研修生の帰国後の活躍が期待されます。

「商標実体審査コース」研修生(2016年度)
「商標実体審査コース」研修生(2016年度)

研修風景
研修風景

途上国人材育成協力

[更新日 2016年12月1日]