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途上国研修「商標専門実務者コース」を行いました

2016年12月21日

特許庁では、途上国において産業財産権制度に携わる人材の育成を支援するために、アジア太平洋地域、ラテンアメリカ及びアフリカ地域の途上国・新興国等から研修生を招へいし、日本において研修を実施しています。

12月8日から12月21日にかけて、アジアの国々の法律事務所や企業等における商標実務者を対象として、「商標専門実務者コース」を実施しました。

本研修に参加した26名の研修生は、我が国の商標関連施策の現状や商標審査基準、商標出願実務、商標権侵害訴訟のケーススタディなどの講義を受講し、商標実務についての理解を深めました。また、企業訪問や講義を通じて、企業のブランド戦略や知財管理を学びました。

研修生の帰国後の活躍が期待されます。

(写真01)「商標専門実務者コース」研修生(2016年度)
「商標専門実務者コース」研修生(2016年度)

(写真02)研修風景
研修風景

途上国人材育成協力

[更新日 2016年12月21日]