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途上国研修「商標審査実務(基礎)コース」を行いました

2017年1月19日

特許庁では、途上国において産業財産権制度に携わる人材の育成を支援するために、アジア太平洋地域、ラテンアメリカ及びアフリカ地域の途上国・新興国等から研修生を招へいし、日本において研修を実施しています。

1月10日から1月19日にかけて、商標審査官を対象とした「商標審査実務(基礎)コース」を実施しました。

本研修に参加した16名の研修生は、日本の商標制度、審査施策、サーチ及び審査実務について学ぶとともに、事例を用いた演習やディスカッションを行いました。

研修生の帰国後の活躍が期待されます。

「商標審査実務(基礎)コース」研修生(2016年度)
「商標審査実務(基礎)コース」研修生(2016年度)

研修風景
研修風景

途上国人材育成協力

[更新日 2017年1月19日]