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第6回商標五庁(TM5)年次会合に参加しました

2017年12月1日

11月30日及び12月1日に、日米欧中韓による商標五庁(TM5)年次会合が、スペイン・アリカンテで開催されました。

会合では、日本国特許庁(JPO)が担当する「悪意の商標出願プロジェクト※1」「イメージサーチプロジェクト※2」や、欧州連合知的財産庁(EUIPO)と共同で担当している「ユーザー参画プロジェクト※3」等を含め、計13の協力プロジェクトについて、各担当庁から進捗状況の報告及び今後の進め方に関する提案が行われ、活発な議論が交わされました。

また、JPOがEUIPOと共同で提案した「品質管理プロジェクト※4」等、3つの新たなプロジェクトについて、今後協力を進めていくことが合意されました。

さらに、12月1日には、業界団体・代理人団体等のユーザー代表者を対象に、「悪意の商標」「審査の品質管理」等をテーマとしたユーザーセッションの時間が設けられ、ユーザー代表者と活発な意見交換を行いました。

なお、来年の第7回TM5年次会合は、韓国特許庁(KIPO)が主催することで合意されました。


  • ※1 悪意の商標出願に関し各庁の制度・運用の情報交換を行うとともに、ユーザーに対してこれらの情報提供を行うことを目的としている。
  • ※2 図形サーチシステムの開発及び実施における問題及び可能な解決策を定義し、現在及び将来、各庁が独自にイメージサーチを導入する際に参考となるような成果物の作成・共有を目的としている。
  • ※3 TM5の各協力プロジェクトにユーザー団体を参画させること及び一般ユーザーへの情報発信のためのワークショップを開催することを目的としている。
  • ※4 TM5各庁の商標審査の実施体制や審査の質の向上のための取組等に関する情報収集・共有を行うことを目的としている。

 

(写真)各庁代表者
花木審査業務部長と各庁代表者

[更新日 2017年12月1日]