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途上国研修「商標審査実務(基礎)コース」を行いました

2018年2月16日

特許庁では、知的財産権の保護強化の観点から、途上国における産業財産権制度に携わる人材の育成を支援するために、アジア太平洋地域、ラテンアメリカ及びアフリカ地域の途上国等から研修生を招へいし、日本において研修を実施しています。

本年2月6日から16日にかけて、「商標審査実務(基礎)コース」を実施し、8か国から15名の商標審査官等が参加しました。本コースでは、商標権に関する法令や審査基準、審査実務等の講義を通じて、商標審査官としてのスキルを高めました。

研修生の帰国後の活躍が期待されます。

(写真01)「商標審査実務(基礎)コース」研修生
「商標審査実務(基礎)コース」研修生

(写真02)研修風景
研修風景

(バナー)途上国人材育成協力

[更新日 2018年2月20日]