
- 概要
日時:平成25年10月22日(火)10:00-17:00 (9:30受付開始)
場所:一橋講堂(東京都千代田区一ツ橋2-1-2 学術総合センター2F)

- プログラム
| 10:00~10:10 | 開会挨拶 | 特許庁 |
| 10:10~10:40 | 基調講演 | 日本大学大学院知的財産研究科教授 土肥 一史氏 |
| 10:40~11:20 | 特別講演 | 中国商標法改正状況等 講演者未定 |
| 11:20~12:00 | 特別講演 | 調整中(決定次第HPにてお知らせします。) |
| 12:00~13:30 | 休憩 |
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| 13:30~15:30 | パネルディスカッション | モデレーター: 特許庁審査業務部長 國友 宏俊 パネリスト: 日米欧中韓から各1名 |
| 15:30~15:40 | 休憩 |
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| 15:40~16:50 | 各庁の制度/運用に関するユーザーからの質疑応答 | |
| 16:50~17:00 | 閉会 | 特許庁 |
※プログラム内容等は、都合により変更される場合もございます。予めご了承ください。

- パネルディスカッションのテーマ
日米欧中韓の悪意の商標出願に関する制度・運用の実践や取り組み
