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双方の最近の状況報告 |
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中国側より、商標出願が急増しており、我が国の処理促進の経験を参考にしたい旨発言があり、我が国が講じた処理促進策（サーチ外注、機械化の促進、審査官の増員）について紹介し、その結果、処理期間を大幅に短縮化したことを説明しました。 |
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周知商標の保護 |
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我が方より、我が国における周知商標の保護状況・保護規定等を説明し、併せて特許電子図書館（IPDL）で公表している（我が国の数多くある周知商標のごく一部である）日本国周知・著名商標を紹介し、その活用を求めました。中国よりは、近年改正された周知商標の保護に関する各種規定・手続等について説明がありました。 |
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人材育成 |
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J我が方より、これまでの日中間の人材交流の実績を紹介したところ、中国より、研修生受入に対する謝辞と、今後の受入について要請がありました。 |
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商標「青森」 |
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我が方より、現在、中国商標局において異議係属中の商標「青森」について、公正かつ適正な裁定が行われるよう注意を払っていただきたい旨、安局長に要請しました。 |
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その他 |
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我が方より、デッドコピー（形態模倣）規制に関する規定の必要性及び中国における日本企業の商標審判等遅延案件に関する迅速な処理について理解を求めました。また、双方は、実務者レベルの交流の必要性を再確認しました。 |
