五大特許庁会合の結果概要について

【会合概要】

日米欧韓中の5か国・地域の特許庁は、5月11日、12日にハワイ・ホノルルにて長官会合を初めて開催しました。日米欧、日中韓のそれぞれ三極長官会合は開催されていましたが、これらを繋ぐ五庁間での開催は初の試みとなります。

【会合の意義】

日米欧韓中の出願人による特許出願は世界全体の84％を占めています。また、五大特許庁は世界の出願総数160万件の73％を受け付けており、そのうち五庁への出願の約30％がお互いの間での重複出願となっております。

企業のグローバルな活動が加速する中で国際出願の増加に対応するためには、審査結果の相互利用、手続の簡素化、審査の質の維持・向上等の課題について、五庁間の協力が不可欠となります。また、五庁間の協力に向けた合意は、世界的な協力促進に向けた強いメッセージとなります。

特に、中国が特許の権利付与の面で国際的な協力の枠組みに積極的に参加することで、今後の中国における知的財産制度・運用の改善が期待でき、中国での知的財産保護を求める各国の出願人にとっても大きな利益となります。

【五庁長官】

左よりポンピドゥー欧州特許庁長官、中嶋日本国特許庁長官、デュダス米国特許商標庁長官、田(ティエン)中国国家知識産権局局長、全(ジョン)韓国特許庁庁長

【会議場での様子】

【会合の結果概要】

大規模特許庁が直面する共通の課題や解決方法について、各庁長官間で自由な意見交換に基づく政策対話を行った結果、五庁が世界で果たすべき役割の重要性について意見が一致いたしました。具体的には、以下のテーマ毎に各庁の提案や取組み状況についての更なる情報共有を、合意されたスケジュールに沿って実施することで合意しました。

①世界的に急増中の特許出願への対応策(審査処理の質と量)

②複数国に跨る重複的出願に係る手続の簡素化(サーチ・審査結果の相互利用、出願様式の統一)

③特許審査実務の比較研究

④特許情報の一層の普及と利用策

⑤特許手続への情報技術の導入による効率化

⑥統計情報の交換など特許行政の透明性の確保

［更新日　2007.6.5］