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第６回商標三極会合及び日中商標長官級会合について |
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| １．結果概要 | ||
| 本年10月15日〜16日に、日本国特許庁（JPO）がホスト国となり、欧州共同体商標意匠庁（OHIM）、米国特許商標庁（USPTO）とJPOの三庁による商標三極会合が、東京のJPOで開催されました。
OHIM、USPTO及びJPOのハイレベルで行う商標三極会合は、商標制度・運用に関する幅広い政策的・実務的な課題について意見交換を行うことを目的として、2001年から昨年までほぼ毎年開催しており、この会合で6回目（内、JPOホストは2回目）です。 今回のハイライトは、会合2日目の運用関連のセッションに中国商標局（CTMO）がゲストとして初めて参加したことです。これは、昨年OHIM(スペイン・アリカンテ)で開催された第5回会合における三極の合意（中国への協力が重要であることから、商標制度の運用関連事項に関し、第6回会合で三極とCTMOとの会合を開催する）に基づくものです。 17日は、現在CTMOにおいて検討されている中国商標法改正に関してCTMOと三極間で意見交換会合及び2003年以来4年ぶりとなる第6回日中商標長官級会合を開催し、CTMOとの間で商標関係の率直な意見交換等を実施しました。 また、18日には中国の商標制度についての産業界とCTMOとの意見交換会合をJPOにて開催しました。 |
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| ２．第6回商標三極会合について | ||
| JPOからは、肥塚特許庁長官、武濤審査業務部長他が出席し、OHIMからはデ・ボア長官等9名、USPTOからはベレスフォード商標担当局長等3名が出席し、熱心な議論が行われました。
初日は、三極としての将来的な中国協力や、三極が相互に受け入れられる商品・役務表示のリストの更なる活用について、また現在、世界知的所有権機関（WIPO）において議論されているマドリッド制度の将来構想に関する意見交換及び商標検索システムに関する情報交換などが行われました。初日の議論については、三極間で共同声明を作成しました（※共同声明の概要は以下のとおり）。 二日目は、安商標局長等CTMOからの3名を交え、出願状況や電子化状況、審査処理迅速化の施策等の運用関連事項についての情報交換を行いました。三極は、次回会合（2008年に米国で開催予定）においてもCTMOが運用関連のセッションにゲストとして参加することに合意し、CTMOも参加することを表明しました。 |
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| ３．第6回日中商標長官級会合 | ||
| JPOからは、肥塚特許庁長官、武濤審査業務部長他が出席し、CTMOからは安局長等3名が出席して、CTMOにおける審査処理の迅速化や商標法改正等の課題について意見交換を行いました。
両庁間で、審判に係る業務効率化やITにおける協力、両国での商標審査基準・出願手続等をまとめたマニュアルを利用した出願人への情報提供等、今後も定期的な実務レベル及びハイレベルでの協力関係を継続することに合意しました。 なお、中国商標法改正については、相対的な拒絶理由の審査を廃止することへの懸念、外国の周知商標についての保護強化の必要性、類似商標に係る商標権侵害の刑事罰化の必要性、異議申立人の資格制限への懸念など、我が国産業界からの関心が高い旨を伝えました。今後も中国商標法改正の検討過程において、引き続き両国間で意見交換をしていくこととしました。 |
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| ※【共同声明】（ポイントのみ） | ||
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| 共同声明の原文はこちら。 （PDF:11KB） | ||
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| ［更新日 2007.11.15］ |
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