1.日程 2009年12月21日(月)
2.場所 中国・西安
3.出席者日本国特許庁(JPO)： 細野長官 他
韓国特許庁(KIPO)： ゴ・ジョンシク 庁長 他
中国国家知識産権局(SIPO)： 田力普 局長 他
4.会合の経緯
日中韓特許庁長官会合は、地理的に近接し、非アルファベット圏であるという共通性を有している日中韓の特許庁が、既存の二庁間会合に加えて、三庁間における意見交換や共同プロジェクトを通じた協力を行うという方針で、2001年より開催しており、今回が第9回目の会合となります。
5.会合の概要
(1) 各庁の最新状況紹介
日中韓特許庁長官会合では、まず、各庁の最新の統計情報や近況を報告しあい、情報交換を行いました。今回はSIPOより、知的財産戦略要綱、改正専利法、エンフォースメント状況(権利保護センターの紹介)、新庁舎の建設などについて、またKIPOからはグリーン早期審査、知的財産基本法の制定予定等の紹介がありました。JPOからはグリーン早期審査・審理、審査請求料の納付繰延などについて紹介を行いました。
(2)IT化に関する協力の推進
日中韓三庁は機械化協力の重要性を認識し、日中韓機械化専門家会合(JEGA)に関して、今後も日中韓特許協力ロードマップに掲げられた協力事項や、その他のIT化に関する協力事項について、議論を継続していくことを確認しました。
(3) 特許審査協力の推進
前回の日中韓特許庁長官会合において設置が合意された特許審査専門家部会(JEGPE)において、日中韓三庁の審査結果の相互利用に向け、進歩性の比較研究を行なうことに合意しました。
(4) 人材育成協力
日中韓三庁は、アジア太平洋地域における人材育成協力の重要性を認識し、今年インドネシアで開催するIPアカデミー・ワークショップや、日中韓人材育成機関長会合、日中韓意匠セミナー等で協力を行うことに合意しました。
〈左からKIPOゴ庁長、JPO細野長官、SIPO田局長〉
［更新日 2010.1.27］
