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日 程 |
2006年12月4日(月)
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場 所 |
中国・北京 中国国家知識産権局内会議室
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出席者 |
日本国特許庁: 中嶋長官 他
中国国家知識産権局: 田 力普 局長 他
韓国特許庁: 全 湘雨 特許庁長 他
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日中韓特許庁長官会合とは
日中韓特許庁長官会合は、2001年より、日本国特許庁(Japan Patent Office: JPO)、中国国家知識産権局(State Intellectual Property Office of P. R. China: SIPO)及び韓国特許庁(Korean Intellectual Property Office: KIPO)との間で、両庁間の協力や政策対話等を目的として、毎年持ち回りで開催されています。
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今次会合の概要
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左より、JPO中嶋長官、SIPO田(ティエン)局長、KIPO全(ジョン)庁長
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審査協力の推進
日中韓の出願人が、3国間でより迅速・適切かつ容易に国際的な特許保護を得られるよう、特許庁間の審査協力を強化することで一致し、サーチ・審査結果の相互利用を推進していくためのロードマップを作成することで合意しました。
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ユーザーサービスの充実
ユーザーへのサービスの充実のための一般的な協力を進める基本方向でも一致し、今回の会合では、下記の個別プロジェクトの推進に合意しました。
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| (a) |
優先権書類の電子的交換: 外国出願の際に必要な「優先権書類」の提出負担の軽減のため、特許庁間で電子的にデータ交換するプロジェクト。(日韓間は実施済み)
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| (b) |
英語での特許情報の発信: ユーザーによる特許情報へのアクセスを容易にするため、機械翻訳等により英語で特許情報を提供するプロジェクト。
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| (c) |
統計データ交換の充実: 3国間での統計データの交換の充実をはかるプロジェクト。
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| (d) |
中小企業支援シンポジウムの開催: 中国側の要望により、3国における知財保護意識の啓発のため、知財分野の中小企業支援施策に関する3庁共催のシンポジウムを日本で開催。
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