日シンガポール特許審査ハイウェイ試行プログラムについて

特許庁調整課

平成21年7月1日より試行プログラムを実施中

日本国特許庁とシンガポール知的財産庁は、平成21年6月16日にシンガポールで開催された日シンガポール特許庁長官会合での合意を受けて、特許審査ハイウェイ試行プログラムを平成21年7月1日より実施しています。

(平成21年6月の合意時の写真：リュー長官と鈴木長官)

各庁における申出手続については、以下の各資料をご参照下さい。

☆日本国特許庁(JPO)への申出について

・要件と申込手続の詳細

(日本語<PDF 239KB>)　(英語<PDF 240KB>)

・記入様式

「早期審査に関する事情説明書」の記入について

☆シンガポール知財庁(IPOS)への申出について

・要件と申込手続の詳細

(日本語<PDF 204KB>)　(英語<PDF 45KB>)

※上記文書中には「PPH試行プログラムは2009年7月1日から始まり、2010年7月1日までの1年間の期間で終わる。この期間はPPHプログラムの実現性を充分に評価するために必要に応じて1年を限度に延長することができる。」との記載がありますが、本試行プログラムは延長されており現在も行われております。

☆リンク

・IPOSの特許審査ハイウェイのページ

☆プレスリリース

・平成21年6月の試行合意時のプレスリリース(経済産業省Webサイト)

☆English Page

PDFファイルを初めてお使いになる方は、Adobe Readerダウンロードページへ

［更新日　2013.2.13］