第9回商標五庁（TM5）年次会合が開催されました

2020年10月29日

10月26日から28日に、日米欧中韓による商標五庁（TM5）年次会合が米国ホストによりテレビ会議形式で開催され、日本国特許庁（JPO）からは西垣審査業務部長等が出席しました。

会合では、各庁におけるCOVID-19の影響とその対応や、増加傾向にある出願に関して情報交換を行いました。
また、JPOが主導する「悪意の商標プロジェクト※1」、「イメージサーチプロジェクト※2」、「ユーザー参画プロジェクト※3」を含む計15の協力プロジェクトなどについて、成果を含む進捗状況及び今後の進め方に関する活発な議論を行いました。「悪意の商標プロジェクト」では、悪意の商標出願が世界的な問題となっていることを踏まえ、TM5以外をこのプロジェクトに招待することなどの合意を得ました。
さらに、ユーザーセッションでは、業界団体・代理人団体など約150名のユーザーが参加しました。各庁からの最新動向の紹介の後、ユーザーからの質問に答える形で活発な意見交換を行いました。
JPOはTM5やその他の知財庁との協力をさらに進め、日本企業の知財が海外で適切に保護、活用しやすい環境の実現を目指します。

• ※1 悪意の商標出願（正当な権利者以外の者による出願・登録）について、各庁が制度・運用の情報交換を行うとともに、ユーザーに対してこれらの情報提供を行うことを目的としている。
• ※2 当初は、図形商標審査に利用可能なイメージサーチを、各庁が独自に開発促進するための情報交換などを目的としていたが、プロジェクトの対象を審査の効率化に繋がるITシステム全般に拡大した。本会合にて、今後の情報交換のテーマを、AI等の最新技術、テレワークなどに設定すること、及び来夏開催予定の専門家会合に向けたスケジュールについて合意を得た。
• ※3 EUIPOとの共同プロジェクト。JPOパートでは、一般ユーザーへの情報発信のため、アメリカのユーザー団体である国際商標協会（INTA）と連携して行うジョイントワークショップの開催を主導している。本会合では、2021年5月に開催予定の次回のジョイントワークショップのテーマについて、「あらかじめ拒絶理由を回避する出願方法」を提案し合意を得た。

高野課長と西垣部長

［更新日　2020年10月29日］