International Initiatives 国際的取組Part2 2018 Policy Outcomes第2部 2018年の施策成果JPO STATUS REPORT 2019813） 五庁（IP5）会合五庁（IP5）会合は、日米欧中韓の知財庁によって2007年に創設された枠組みであり、特許分野における制度運用調和・審査結果の相互利用・審査の質の向上・特許情報サービスの改善等の課題について、幅広い協力を行っている。（i） 第11回五庁長官会合（2018年6月、米国）• これまで五庁の枠組みで取り組んできた各プロジェクトの進捗及び成果を整理・評価し、今後リソースを集中するプロジェクトを明確化。• ユーザーによる審査関連情報（ドシエ情報）の利活用促進に向けて、グローバルドシエ（各国特許庁のシステムを連携し、ドシエ情報の一般ユーザーとの共有等を目指す構想）に関連する優先的な取組みについて、今後2-3年間の作業方針に合意し、具体的な作業計画を策定。• PCT協働調査について、2018年7月1日からの試行開始に合意。• また、本会合前日のユーザーとの会合では、「品質」及び「五庁の進化（Evolution of the IP5）」の2つの戦略的トピック等について、意見交換を実施。 [写真6]4） 意匠五庁（ID5）会合意匠五庁（ID5）は、世界の意匠登録出願の8割以上を取り扱う日米欧中韓の知財庁が、意匠分野における国際的な協力を推進するために、2015年に創設された枠組みである。（i） 第4回ID5年次会合（2018年11月、韓国）• 第四次産業革命の進展を背景に、グラフィカル・ユーザー・インターフェイス（GUI）に代表されるデジタル技術由来の新しいデザイン（新技術意匠）の保護強化を五庁が共に目指すことについてまとめた「ID5共同声明」を採択。• 既存の協力プロジェクトのうち、新技術意匠保護の現行実務、意匠の保護要件（保護対象・主体）、部分意匠、グレースピリオドについて、五庁の制度比較調査結果を取りまとめた報告書を承認。これらの報告書は、ID5ウェブサイト＊3上で公表予定。• 新規テーマとして、3Dプリンティングと意匠保護、意匠データ資源（非特許文献）、品質管理、新規性審査におけるインターネット情報の証拠性、侵害時の救済手段、ID5推奨意匠実務に関する6つの協力プロジェクトを採択。• ID5ユーザーセッションでは、今次会合で承認された五庁の制度比較結果及び新規プロジェクトの概要について情報共有を行うとともに、新技術意匠の保護や制度運用の国際協調の必要性等について議論。• 2019年のID5会合は、事務局をJPOとし、日本で開催することが決定。 [写真7]＊3http://id-ve.orgFrom left to right: Director Bisson (The Hague Registry, WIPO), Director Kuhl (EUIPO), Deputy Director General Dong (CNIPA), Vice Commissioner Kim (KIPO), Chief Policy Oicer/Director Perlmutter (USPTO), Director-General Sawai (JPO), Director-General Lee (KIPO)左から、ビソンWIPOハーグ登録部長、クールEUIPO業務部長、ドンCNIPA国際合作司副司長、キムKIPO次長、パールムッターUSPTO最高政策責任者兼国際部長、澤井審査第一部長、リKIPO商標デザイン審査局長Picture 7 写真7
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