International Initiatives 国際的取組Part2 2018 Policy Outcomes第2部 2018年の施策成果JPO STATUS REPORT 2019835） 商標五庁（TM5）会合TM5会合は、日米欧中韓の知財庁が、商標分野における国際的な協力を推進するために、2011年に創設された枠組みである。（i） 2018年TM5中間会合（2018年6月、韓国）• 日本国特許庁がリードする「悪意の商標プロジェクト」「イメージサーチプロジェクト」「品質管理プロジェクト」の進捗状況の報告とともに、5月にシアトルで開催した第2回INTA-TM5ジョイント・ワークショップの成果を報告。（ii） 第7回TM5年次会合（2018年11月、韓国）• 2019年の年次会合で、事例を拡充した悪意の商標出願事例集を公表することで合意。• 第3回ジョイント・ワークショップを2019年5月にボストンで開催されるINTA年次総会で実施すること、テーマを「悪意の商標出願」とすることで合意。• イメージサーチに関する各庁の取組について、今後、TM5ウェブサイト及びFace to Faceの会合を通じて情報交換を加速していくことで合意。• 2019年の年次会合と同時期に、品質管理専門家会合を開催することで合意。• 2019年の年次会合は、日本国特許庁がホストとなり、日本で開催されることで合意。 [写真8]6） 中国・韓国との会合日中では1994年以降、日韓では1983年以降、日中韓では2001年以降、長官会合を継続して開催し、特許、意匠、商標制度分野で協力を行っている。（i） 第25回日中特許庁長官会合（2018年11月、日本）• 中国国家知識産権局（CNIPA）が新たに商標も担当するようになったことを受けての商標分野での協力の推進、及び、PPH試行プログラムの期間延長に合意。（ii） 第18回日中韓特許庁長官会合及び第6回日中韓特許庁シンポジウム（2018年12月、中国）• 日中韓特許庁長官会合では、新たに商標分野での協力を推進することとし、具体的な協力内容は今後検討することに合意。• 次回会合は日本で開催することとし、併せて、バイ会合を開催することに合意。• 日中韓特許庁長官会合に併せて、日中韓特許庁シンポジウムを開催し、「新たな時代、より強力な知的財産保護」をテーマに、日中韓各国の政府関係者や企業等実務者による講演を実施。 [写真9]From left to right: Commissioner Munakata (JPO), Commissioner Shen (CNIPA), Commissioner Park (KIPO)左から、宗像長官、申CNIPA局長、パクKIPO庁長Picture 9 写真9
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