C10G1/00	油頁（けつ）岩，油砂，非溶融性固形炭素質原料または類似の原料，例．木材，石炭，からの液体炭化水素混合物の製造（油頁岩，油砂またはその類似物からの油の機械的な取得Ｂ０３Ｂ）
C10G1/002	｛油変換または精製プロセスと組み合わせたもの｝
C10G1/004	｛腐食の防止｝
C10G1/006	｛グループＣ１０Ｇ１／０２からＣ１０Ｇ１／０８に含まれる工程の組み合わせ｝
C10G1/008	｛液化工程の制御および調整（制御および調整一般　Ｇ０５）｝
C10G1/02	蒸留による製造（油頁岩の分解蒸留Ｃ１０Ｂ５３／０６）
C10G1/04	抽出によるもの
C10G1/042	｛水素供与性溶剤の使用｝
C10G1/045	｛不溶物の分離｝
C10G1/047	｛温水または冷水抽出工程｝
C10G1/06	分解水添によるもの
C10G1/065	｛溶媒の存在下で｝
C10G1/08	移動触媒によるもの
C10G1/083	｛溶媒の存在下で｝
C10G1/086	｛用いる触媒に特徴があるもの｝
C10G1/10	ゴムまたはゴム廃物からの製造
C10G2/00	炭素の酸化物からの組成の不明確な液体炭化水素混合物の製造
C10G2/30	
C10G2/31	
C10G2/32	
C10G2/33	
C10G2/331	
C10G2/332	
C10G2/333	
C10G2/334	
C10G2/34	
C10G2/341	
C10G2/342	
C10G2/343	
C10G2/344	
C10G2/35	
C10G2/40	
C10G2/50	
C10G3/00	酸素含有原料または有機原料，例．脂肪油，脂肪酸，からの液体炭化水素混合物の製造（非溶融性固形酸素含有炭素質原料からの製造Ｃ１０Ｇ１／００；確定付加量または特定付加量の個々の炭化水素またはその混合物の製造Ｃ０７Ｃ）
C10G3/40	
C10G3/42	
C10G3/44	
C10G3/45	
C10G3/46	
C10G3/47	
C10G3/48	
C10G3/49	
C10G3/50	
C10G3/52	
C10G3/54	
C10G3/55	
C10G3/56	
C10G3/57	
C10G3/60	
C10G3/62	
C10G5/00	ガス，例．天然ガス，からの液体炭化水素混合物の回収
C10G5/02	固体吸着剤による回収
C10G5/04	液体吸収剤による回収
C10G5/06	冷却または圧縮による回収
C10G7/00	炭化水素油の蒸留（一般の蒸留Ｂ０１Ｄ）
C10G7/003	｛潤滑油の蒸留｝
C10G7/006	｛潤滑油以外の廃油の，例．ＰＣＢ含有油｝　
C10G7/02	分留によるガスの除去でガソリンをスタビライズするもの
C10G7/04	脱水
C10G7/06	減圧蒸留
C10G7/08	共沸または抽出蒸留（水素の不存在下，選択溶剤を用いた抽出による炭化水素油の精製Ｃ１０Ｇ２１／００）
C10G7/10	蒸留の際の腐食の防止
C10G7/12	制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）
C10G9/00	炭化水素油の水素の不存在下における非接触的熱分解
C10G9/002	｛分解ガスの冷却｝
C10G9/005	｛コークス化　（主として液体製品の製造のために）｝
C10G9/007	｛ビスブレーキング｝
C10G9/02	レトルト中におけるもの
C10G9/04	レトルト
C10G9/06	加圧蒸留によるもの
C10G9/08	そのための装置
C10G9/12	着あかの除去
C10G9/14	補助装置，例．ディジェスター，ソーキング・ドラム，膨張装置のあるまたはこれらのないパイプまたはコイルによるもの
C10G9/16	着あかの防止または除去
C10G9/18	装置
C10G9/20	チューブ炉
C10G9/203	｛チューブの化学組成｝
C10G9/206	｛チューブ炉の制御または調整｝
C10G9/24	電気的手段で加熱するもの
C10G9/26	不連続的に予熱された固定式固体材料，例．通気と運転，によるもの
C10G9/28	予熱された移動する固体材料によるもの
C10G9/30	移動床技術によるもの
C10G9/32	流動床技術によるもの
C10G9/34	不活性の予熱された流体，例．溶融金属または塩，との直接接触によるもの
C10G9/36	加熱されたガスまたは蒸気との直接接触によるもの
C10G9/38	分解される材料の部分燃焼または他の炭化水素の燃焼によって製造されるもの
C10G9/40	熱い燃焼ガス以外の予熱された流体との間接の接触によるもの
C10G9/42	分解される材料を薄い流れまたはスプレーにして連続的に加熱された表面の上にまたはその近くに通すもの
C10G11/00	炭化水素油の水素の不存在下における接触分解（溶融金属または塩との直接接触による分解Ｃ１０Ｇ９／３４）
C10G11/02	使用する触媒によって特徴づけられるもの
C10G11/04	酸化物
C10G11/05	結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい
C10G11/06	硫化物
C10G11/08	ハロゲン化物
C10G11/10	固定触媒床によるもの
C10G11/12	不連続的に予熱された固定式固体触媒，例．通気と運転，によるもの
C10G11/14	予熱された移動する固体触媒によるもの
C10G11/16	移動床技術によるもの
C10G11/18	流動床技術によるもの
C10G11/182	｛再生｝
C10G11/185	｛蓄熱室の流出ガスからのエネルギー回収　（蒸気タービンの使用はＦ０１Ｋ２３／０６４を参照；　ガスタービンの使用はＦ０１Ｋ２５／１４を参照；　ガスタービンと蒸気タービンの併用は　Ｆ０１Ｋ３／１８５を参照）｝
C10G11/187	｛制御または調整　（制御または調整一般は　Ｇ０５）｝
C10G11/20	不活性の加熱されたガスまたは蒸気との直接接触によるもの
C10G11/22	分解される材料の部分燃焼により製造されるもの
C10G15/00	電気的方法，電磁的または機械的振動，粒子の放射または電弧中で過熱されたガスによる炭化水素油の分解
C10G15/08	電気的方法または電磁的または機械的振動によるもの
C10G15/10	粒子の放射によるもの
C10G15/12	電弧，例．プラズマ，中で過熱されたガスによるもの
C10G17/00	酸，酸生成化合物または酸含有液体，例．酸スラッジ，を用いる水素の不存在下における炭化水素油の精製
C10G17/02	酸または酸含有液体，例．酸スラッジ，を用いるもの
C10G17/04	不混和の２相を形成する液―液処理
C10G17/06	いおうまたはいおうの酸スラッジから誘導される酸を使用するもの
C10G17/07	ハロゲン酸またはハロゲンのオキシ酸を用いるもの（ハロゲンを生成する酸Ｃ１０Ｇ２７／０２）
C10G17/08	酸生成酸化物を用いるもの（選択的溶剤としてＣＯ２またはＳＯ２を用いる精製Ｃ１０Ｇ２１／０６）
C10G17/085	発煙硫酸を用いるもの
C10G17/09	酸塩を用いるもの
C10G17/095	固体酸，例．担体上に沈積したりん酸，を用いるもの
C10G17/10	使用した精製薬剤の回収
C10G19/00	アルカリ処理による，水素の不存在下における炭化水素油の精製
C10G19/02	アルカリ性水溶液を用いるもの
C10G19/04	溶解化剤，例．溶質化剤，を含有する溶液
C10G19/06	亜鉛酸塩または鉛酸塩によるもの
C10G19/067	溶融したアルカリ物質を用いるもの
C10G19/073	固体のアルカリ物質を用いるもの
C10G19/08	使用した精製薬剤の回収
C10G21/00	選択溶剤を用いる抽出による，水素の不存在下における炭化水素油の精製（Ｃ１０Ｇ１７／００，Ｃ１０Ｇ１９／００が優先；油の脱ろうＣ１０Ｇ７３／０２）
C10G21/003	｛溶剤脱アスファルト｝
C10G21/006	｛廃油の，例．ＰＣＢ含有油｝　
C10G21/02	別々に導入されるまたは除去される２種またはそれ以上の溶剤によるもの
C10G21/04	少なくとも２種の混和しない溶剤を互いに向流で同時に導入することによるもの
C10G21/06	使用する溶剤によって特徴づけられるもの
C10G21/08	無機化合物のみ
C10G21/10	二酸化いおう
C10G21/12	有機化合物のみ
C10G21/14	炭化水素
C10G21/16	酸素含有化合物
C10G21/18	ハロゲン含有化合物
C10G21/20	窒素含有化合物
C10G21/22	いおう，セレン，またはテルルを含有する化合物
C10G21/24	りん含有化合物
C10G21/26	けい素含有化合物
C10G21/27	グループＣ１０Ｇ２１／１４〜Ｃ１０Ｇ２１／２６の単一のグループに分類されない有機化合物
C10G21/28	使用ずみ溶剤の回収
C10G21/30	制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）
C10G25/00	固体の収着剤を用いる水素の不存在下における炭化水素油の精製<br><br><u>注</u><br><br>｛ＩＰＣ８｝このグループに分類する場合は、クロマトグラフィに関連する一般的な主題事項に関する限りグループＢ０１Ｄ１５／０８にも分類する。
C10G25/003	｛Ｃ１０Ｇ２５／０２またはＣ１０Ｇ２５／０３に含まれない特定の溶剤｝
C10G25/006	｛廃油の，例．ＰＣＢ含有油｝　
C10G25/02	イオン交換物質を用いるもの
C10G25/03	結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を用いるもの
C10G25/05	非炭化水素化合物，例．いおう化合物，の除去
C10G25/06	移動する収着剤または油中に分散した収着剤を用いるもの
C10G25/08	移動床技術によるもの
C10G25/09	流動床技術によるもの
C10G25/11	移動する収着剤の存在下における蒸留
C10G25/12	使用ずみ吸着剤の回収
C10G27/00	酸化による水素の不存在下における炭化水素油の精製
C10G27/02	ハロゲンまたはハロゲン発生化合物によるもの；次亜塩素酸またはその塩
C10G27/04	酸素または酸素発生化合物によるもの
C10G27/06	アルカリ溶液の存在下に行なうもの
C10G27/08	塩化銅の存在下に行なうもの
C10G27/10	金属含有有機錯体，例．キレート，または陽イオン交換樹脂の存在下に行うもの
C10G27/12	酸素発生化合物，例．過化合物，クロム酸，クロム酸塩を用いるもの（亜鉛酸塩または鉛酸塩Ｃ１０Ｇ１９／０６）
C10G27/14	オゾン含有ガスを用いるもの
C10G29/00	他の化学薬品を用いる水素の不存在下における炭化水素油の精製
C10G29/02	非金属
C10G29/04	金属，または担体上に沈積した金属
C10G29/06	金属塩，または担体上に沈積した金属塩
C10G29/08	低原子価における金属を含有するもの
C10G29/10	硫化物
C10G29/12	ハロゲン化物
C10G29/16	金属酸化物
C10G29/20	金属原子を含有しない有機化合物
C10G29/205	｛炭化水素油に添加した炭化水素との反応によるもの｝
C10G29/22	唯一のヘテロ原子として酸素を含有するもの
C10G29/24	アルデヒドまたはケトン
C10G29/26	ハロゲン化炭化水素
C10G29/28	唯一のヘテロ原子としていおうを含有するもの，例．メルカプタン，または唯一のヘテロ原子としていおうおよび酸素を含有するもの
C10G31/00	他に分類されない方法による水素の不存在下における炭化水素油の精製（蒸留によるものＣ１０Ｇ７／００）
C10G31/06	加熱，冷却または圧力処理によるもの
C10G31/08	水で処理するもの
C10G31/09	ろ過によるもの
C10G31/10	遠心力の助けによるもの
C10G31/11	透析によるもの
C10G32/00	電気的または磁気的方法，照射または微生物を用いることによる炭化水素油の精製
C10G32/02	電気的または磁気的方法によるもの
C10G32/04	粒子の放射によるもの
C10G33/00	炭化水素油の脱水または抗乳化（蒸留によるものＣ１０Ｇ７／０４）
C10G33/02	電気的または磁気的方法によるもの
C10G33/04	化学的方法によるもの
C10G33/06	機械的方法によるもの，例．ろ過によるもの
C10G33/08	制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）
C10G35/00	ナフサのリホーミング<br><br><u>注</u><br><br>　リフォーミングとはオクタン価またはその芳香族含量を改良するためのナフサの処理を意味する。
C10G35/02	熱リホーミング
C10G35/04	接触リホーミング
C10G35/06	使用する触媒によって特徴づけられるもの
C10G35/065	｛アルミノけい酸塩以外の結晶性ゼオライト分子ふるいを含有するもの｝
C10G35/085	白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの
C10G35/09	金属の少なくとも１つが白金族金属である２元金属触媒
C10G35/095	結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を含有するもの　｛（Ｃ１０Ｇ３５／０６５が優先）｝
C10G35/10	移動する触媒を使用するもの
C10G35/12	移動床技術によるもの
C10G35/14	流動床技術によるもの
C10G35/16	電気的，電磁的，または機械的振動によるもの；粒子の放射によるもの
C10G35/22	リホーミング操作の開始
C10G35/24	リホーミング操作の制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）
C10G45/00	水素または水素発生化合物を用いる炭化水素油の精製<br><br><u>注</u><br><br>　グループ　Ｃ１０Ｇ４３／０２(ＥＣＬＡ)，　Ｃ１０Ｇ４５／３２，　Ｃ１０Ｇ４５／４４またはＣ１０Ｇ４５／５８の単一のグループに分類されない水素発生化合物の存在下における炭化水素油の処理はグループＣ１０Ｇ４９／００に包含される。
C10G45/02	含有炭化水素の骨格を変えることなく，かつ低沸点炭化水素に分解することなく，ヘテロ原子を除去するためのもの；ハイドロフィニッシング
C10G45/04	使用する触媒によって特徴づけられるもの
C10G45/06	ニッケルまたはコバルト金属，またはそれらの化合物を含有するもの
C10G45/08	クロム，モリブデン，またはタングステン金属，またはそれらの化合物と結合したもの
C10G45/10	白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの
C10G45/12	結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を含有するもの
C10G45/14	移動する固体粒子を用いるもの
C10G45/16	油中に懸濁したもの，例．スラリー
C10G45/18	移動床技術によるもの
C10G45/20	流動床技術によるもの
C10G45/22	油中に溶解または懸濁した水素を用いるもの
C10G45/24	水素発生化合物を用いるもの
C10G45/26	水蒸気または水
C10G45/28	有機化合物；オートファイニング
C10G45/30	使用する触媒によって特徴づけられるもの
C10G45/32	ジオレフィンまたはアセチレン化合物の選択的水添
C10G45/34	使用する触媒によって特徴づけられるもの
C10G45/36	ニッケルまたはコバルト金属，またはそれらの化合物を含有するもの
C10G45/38	クロム，モリブデンまたはタングステン金属，またはそれらの化合物と結合したもの
C10G45/40	白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの
C10G45/42	移動する固体粒子を用いるもの
C10G45/44	芳香族炭化水素の水添
C10G45/46	使用する触媒によって特徴づけられるもの
C10G45/48	ニッケルまたはコバルト金属，またはそれらの化合物を含有するもの
C10G45/50	クロム，モリブデンまたはタングステン金属，またはそれらの化合物と結合したもの
C10G45/52	白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの
C10G45/54	結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を含有するもの
C10G45/56	移動する固体粒子を用いるもの
C10G45/58	存在する他の炭化水素を分解することなくある炭化水素成分の骨格構造を変化させるためのもの，例．流動点の低下；ノルマルパラフィンの選択的水素化分解（Ｃ１０Ｇ３２／００が優先；ナフサのオクタン価または芳香族含量の改良または向上Ｃ１０Ｇ３５／００）
C10G45/60	使用する触媒によって特徴づけられるもの
C10G45/62	白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの
C10G45/64	結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を含有するもの
C10G45/66	移動する固体粒子を用いるもの
C10G45/68	炭化水素油留分の芳香族化（ナフサの芳香族化Ｃ１０Ｇ３５／００）
C10G45/70	白金族金属またはそれらの化合物を含有する触媒を用いるもの
C10G45/72	制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）
C10G47/00	低沸点の留分を得るための水素または水素発生化合物の存在下における炭化水素油の分解（Ｃ１０Ｇ１５／００が優先；非溶融性固体炭素質または類似物質の分解水添Ｃ１０Ｇ１／０６）
C10G47/02	使用する触媒によって特徴づけられたもの
C10G47/04	酸化物
C10G47/06	硫化物
C10G47/08	ハロゲン化物
C10G47/10	担体上に沈積した触媒を用いるもの
C10G47/12	無機担体
C10G47/14	白金族金属またはそれらの化合物を含有する触媒
C10G47/16	結晶性アルミノけい酸塩坦体
C10G47/18	白金族金属またはそれらの化合物を含有する触媒
C10G47/20	他の金属またはそれらの化合物を含有する触媒
C10G47/22	水素の存在下における非接触的分解
C10G47/24	移動する固体粒子を用いるもの
C10G47/26	油中に懸濁したもの，例．スラリー
C10G47/28	移動床技術によるもの
C10G47/30	流動床技術によるもの
C10G47/32	水素発生化合物の存在下におけるもの
C10G47/34	有機化合物，例．水添した炭化水素
C10G47/36	制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）
C10G49/00	グループ　Ｃ１０Ｇ４５／０２，　Ｃ１０Ｇ４５／３２，　Ｃ１０Ｇ４５／４４，　Ｃ１０Ｇ４５／５８またはＣ１０Ｇ４７／００の単一のグループに分類されない水素または水素発生化合物の存在下における炭化水素油の処理
C10G49/002	｛固定床水素化処理のための装置｝
C10G49/005	｛水素化処理において腐食を防止するもの｝
C10G49/007	｛特別な供給源からの水素，特別な組成の水素または特別な処理によって精製された水素の存在下で｝
C10G49/02	使用する触媒によって特徴づけられるもの
C10G49/04	ニッケル，コバルト，クロム，モリブデン，またはタングステン金属，またはそれらの化合物を含有するもの
C10G49/06	白金族金属またはそれらの化合物を含有するもの
C10G49/08	結晶性アルミノけい酸塩，例．分子ふるい，を含有するもの
C10G49/10	移動する固体粒子を用いるもの
C10G49/12	油中に懸濁したもの，例．スラリー
C10G49/14	移動床技術によるもの
C10G49/16	流動床技術によるもの
C10G49/18	水素発生化合物，例．アンモニア，水，硫化水素，の存在下に行うもの
C10G49/20	有機化合物
C10G49/22	流出物の分離
C10G49/24	水素化処理操作の開始
C10G49/26	制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）
C10G50/00	炭素数がより少ない炭化水素からの液体炭化水素混合物の製造，例．オリゴメリゼーションによる（明確なまたは特定の組成の個々の炭化水素またはその混合物の製造Ｃ０７Ｃ）
C10G50/02	潤滑用炭化水素油の
C10G51/00	２以上の分解工程のみによる水素の不存在下における炭化水素油の処理
C10G51/02	連続工程のみによるもの
C10G51/023	｛熱分解工程のみによるもの｝
C10G51/026	｛接触分解工程のみによるもの｝
C10G51/04	熱分解および接触分解工程のみを包含するもの
C10G51/06	並行工程のみによるもの
C10G53/00	２以上の精製工程による水素の不存在下における炭化水素油の処理
C10G53/02	連続工程のみによるもの
C10G53/04	少なくとも１つの抽出工程を包含するもの
C10G53/06	抽出工程のみを包含するもの，例．溶剤処理による脱アスファルトにひき続く芳香族成分の抽出（別々に導入されるまたは引き出される２以上の溶剤を用いる１工程での精製Ｃ１０Ｇ２１／０２）
C10G53/08	少なくとも１つの収着工程を包含するもの
C10G53/10	少なくとも１つの酸処理工程を包含するもの
C10G53/12	少なくとも１つのアルカリ処理工程を包含するもの
C10G53/14	少なくとも１つの酸化工程を包含するもの
C10G53/16	並行工程のみによるもの
C10G55/00	少なくとも１つの精製工程と少なくとも１つの分解工程とによる水素の不存在下における炭化水素油の処理
C10G55/02	連続工程のみによるもの
C10G55/04	少なくとも１つの熱分解工程を包含するもの
C10G55/06	少なくとも１つの接触分解工程を包含するもの
C10G55/08	並行工程のみによるもの
C10G57/00	少なくとも１つの分解工程または精製工程と少なくとも１つの他の変換工程とによる水素の不存在下における炭化水素油の処理
C10G57/005	｛アルキル化を伴うもの｝
C10G57/02	重合を伴うもの
C10G59/00	２以上のリホーミング工程のみまたは少なくとも１つのリホーミング工程とナフサの沸点範囲を実質的に変化させない少なくとも１つの工程とによるナフサの処理
C10G59/02	連続工程のみによるもの
C10G59/04	少なくとも１つの接触的および少なくとも１つの非接触的リホーミング工程を包含するもの
C10G59/06	並行工程のみによるもの
C10G61/00	少なくとも１つのリホーミング工程と少なくとも１つの水素の不存在下における精製工程とによるナフサの処理
C10G61/02	連続工程のみによるもの
C10G61/04	精製工程が抽出であるもの
C10G61/06	精製工程が収着であるもの
C10G61/08	並行工程のみによるもの
C10G61/10	他の変換工程を包含する工程によるもの
C10G63/00	少なくとも１つのリフォーミング工程と少なくとも１つの他の変換工程とによるナフサの処理（Ｃ１０Ｇ５９／００，　Ｃ１０Ｇ６１／００が優先）
C10G63/02	連続工程のみによるもの
C10G63/04	少なくとも１つの分解工程を包含するもの
C10G63/06	並行工程のみによるもの
C10G63/08	少なくとも１つの分解工程を包含するもの
C10G65/00	２以上の水素化処理のみによる炭化水素油の処理
C10G65/02	連続工程のみによるもの
C10G65/04	精製工程のみを包含するもの
C10G65/043	｛少なくとも１つの工程が骨格構造の変化であるもの｝
C10G65/046	｛少なくとも１つの工程が芳香族化であるもの｝
C10G65/06	少なくとも１つの工程がジオレフィンの選択的水添であるもの
C10G65/08	少なくとも１つの工程が芳香族炭化水素の水添であるもの
C10G65/10	分解工程のみを包含するもの
C10G65/12	分解工程および他の水素化処理工程を包含するもの
C10G65/14	並行工程のみによるもの
C10G65/16	精製工程のみを包含するもの
C10G65/18	分解工程のみを包含するもの
C10G67/00	少なくとも１つの水素化処理工程と少なくとも１つの水素の不存在下のみにおける精製工程とによる炭化水素油の処理
C10G67/02	連続工程のみによるもの
C10G67/04	水素の不存在下における精製工程として溶剤抽出を包含するもの
C10G67/0409	｛不飽和炭化水素の抽出｝
C10G67/0418	｛水素化処理が水素化精製であるもの｝
C10G67/0427	｛水素化処理がジオレフィンまたはアセチレンの選択的水添であるもの｝
C10G67/0436	｛水素化処理が芳香族飽和化であるもの｝
C10G67/0445	｛水素化処理が水素化分解であるもの｝
C10G67/0454	｛溶剤脱アスファルト｝
C10G67/0463	｛水素化処理が水素化精製であるもの｝
C10G67/0472	｛水素化処理がジオレフィンまたはアセチレンの選択的水添であるもの｝
C10G67/0481	｛水素化処理が芳香族飽和化であるもの｝
C10G67/049	｛水素化処理が水素化分解であるもの｝
C10G67/06	水素の不存在下における精製工程として収着工程を包含するもの
C10G67/08	水素の不存在下における精製工程として酸処理を包含するもの
C10G67/10	水素の不存在下における精製工程としてアルカリ処理を包含するもの
C10G67/12	水素の不存在下における精製工程として酸化を包含するもの
C10G67/14	水素の不存在下における少なくとも２つの異なる精製工程を包含するもの
C10G67/16	並行工程のみによるもの
C10G69/00	少なくとも１つの水素化処理工程と少なくとも１つの他の変換工程とによる炭化水素油の処理（Ｃ１０Ｇ６７／００が優先）
C10G69/02	連続工程のみによるもの
C10G69/04	少なくとも１つの水素の不存在下における接触分解を包含するもの
C10G69/06	少なくとも１つの水素の不存在下における熱分解を包含するもの
C10G69/08	少なくとも１つのナフサのリホーミング工程を包含するもの
C10G69/10	高沸点留分のナフサへの水素化分解および得られたナフサのリホーミング
C10G69/12	少なくとも１つの重合またはアルキル化工程を包含するもの
C10G69/123	｛アルキル化｝
C10G69/126	｛重合，例．オリゴメリゼーション｝
C10G69/14	並行工程のみによるもの
C10G70/00	グループＣ１０Ｇ９／００，　Ｃ１０Ｇ１１／００，　Ｃ１０Ｇ１５／００，　Ｃ１０Ｇ４７／００，　Ｃ１０Ｇ５１／００に包含される工程により得られた組成の不明確な通常ガス状の混合物の仕上げ処理加工
C10G70/002	｛付加物または錯体の形成によるもの｝
C10G70/004	｛銅塩の溶液によるもの｝
C10G70/006	｛酸または硫黄酸化物の使用によるもの｝
C10G70/008	｛有機金属化合物の使用によるもの｝
C10G70/02	水素添加によるもの
C10G70/04	物理的工程によるもの
C10G70/041	｛蒸留によるもの｝
C10G70/042	｛補助化合物の使用によるもの｝
C10G70/043	｛分別凝縮によるもの｝
C10G70/044	｛結晶化によるもの｝
C10G70/045	｛薄膜を使用するもの，例．選択的透過｝
C10G70/046	｛吸着によるもの，すなわち，固体の使用によるもの｝
C10G70/047	｛分子ふるい技術によるもの｝
C10G70/048	｛液−液抽出によるもの｝
C10G70/06	気体―液体接触によるもの
C10G71/00	潤滑特性を改善するための炭化水素油または脂肪油の，他に分類されない方法による処理　（フィッシャートロプシュによるもの　Ｃ０７Ｃ１／００；　潤滑組成物　Ｃ１０Ｍ）
C10G71/02	ボルトール油化することによる増稠（ボルトール油化による乾性油の化学的改質Ｃ０９Ｆ７／０４）
C10G73/00	鉱ろう，例．モンタンろう，の回収または精製（本質的にろうを基剤とした組成物Ｃ０８Ｌ９１／００）
C10G73/02	炭化水素油からの石油ろうの回収；炭化水素油の脱ろう
C10G73/025	｛ろ過によるもの｝
C10G73/04	ろ過器を使用するもの
C10G73/06	溶媒を使用するもの
C10G73/08	有機化合物
C10G73/10	炭化水素
C10G73/12	酸素含有化合物
C10G73/14	ハロゲン含有化合物
C10G73/16	窒素含有化合物
C10G73/18	いおう，セレンまたはテルルを含有するもの
C10G73/20	りんを含有するもの
C10G73/22	有機化合物の混合物
C10G73/24	付加物の生成によるもの
C10G73/26	浮遊選別によるもの
C10G73/28	遠心力によるもの
C10G73/30	電気的方法によるもの
C10G73/32	脱ろうの間に冷却する方法
C10G73/34	制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）
C10G73/36	少量の油を含有する他の組成物，濃縮物または残渣からの石油ろうの回収；脱油，発汗
C10G73/38	石油の化学的改質
C10G73/40	ろうまたは改質ろうの物理的処理，例．造粒，分散，乳化，照射
C10G73/42	石油ろうの精製
C10G73/44	水素または水素発生化合物の存在下で行なうもの
C10G75/00	炭化水素油の処理または変換用装置における腐食や汚れの防止一般（Ｃ１０Ｇ７／１０，　Ｃ１０Ｇ９／１６が優先；腐食または湯あかに対する管の保護Ｆ１６Ｌ５８／００）
C10G75/02	腐食防止剤の添加によるもの
C10G75/04	汚れ止め剤の添加によるもの
C10G99/00	このサブクラスの他のグループに分類されない主題事項
C10G2300/00	
C10G2300/10	
C10G2300/1003	
C10G2300/1007	
C10G2300/1011	
C10G2300/1014	
C10G2300/1018	
C10G2300/1022	
C10G2300/1025	
C10G2300/1029	
C10G2300/1033	
C10G2300/1037	
C10G2300/104	
C10G2300/1044	
C10G2300/1048	
C10G2300/1051	
C10G2300/1055	
C10G2300/1059	
C10G2300/1062	
C10G2300/1066	
C10G2300/107	
C10G2300/1074	
C10G2300/1077	
C10G2300/1081	
C10G2300/1085	
C10G2300/1088	
C10G2300/1092	
C10G2300/1096	
C10G2300/20	
C10G2300/201	
C10G2300/202	
C10G2300/203	
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C10G2300/206	
C10G2300/207	
C10G2300/208	
C10G2300/30	
C10G2300/301	
C10G2300/302	
C10G2300/304	
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C10G2300/307	
C10G2300/308	
C10G2300/40	
C10G2300/4006	
C10G2300/4012	
C10G2300/4018	
C10G2300/4025	
C10G2300/4031	
C10G2300/4037	
C10G2300/4043	
C10G2300/405	
C10G2300/4056	
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C10G2400/28	
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