C01B3/00	水素；水素を含有する混合ガス；それを含む混合物からの水素の分離（物理的手段によるガスの分離Ｂ０１Ｄ）；水素の精製（固体炭素質物質からの水性ガスまたは合成ガスの合成Ｃ１０Ｊ；一酸化炭素含有可燃性特殊ガスの精製または化学的組成の変性Ｃ１０Ｋ）<br><br><u>｛注</u><br><br>このグループにおいては，インデキシングコードを付与することが望ましい。　?グループＣ０１Ｂ２２０３／００の，水素または合成ガスの生成プロセスに関係する観点のため；　?グループＢ０１Ｊ２２０８／００およびＢ０１Ｊ２２１９／００の，水素または合成ガスの生成に使用される反応機に関する細部構造のため。｝
C01B3/0005	｛適当な媒体による水素の可逆的吸着，すなわち物理的または化学的吸着現象または可逆的化学反応に基づくもの，例．水素貯蔵目的のため（水素の精製Ｃ０１Ｂ３／５０８）；水素の可逆的吸着；電極による水素の可逆的吸着｝
C01B3/001	｛吸着媒体を特徴とするもの；それらの処理｝
C01B3/0015	｛有機化合物；その溶液｝
C01B3/0018	
C01B3/0021	｛炭素，例．活性炭，カーボンナノチューブ，フラーレン，その処理｝
C01B3/0026	｛単一金属または希土類金属；その処理｝．．．<br><br><u>｛注</u><br><br>．１．すべてのグループＣ０１Ｂ３／００２６からＣ０１Ｂ３／００８４において，金属性貯蔵物質は，ほう素，炭素，酸素，いおう，セレン，けい素等の微量の非金属を含む。；例．Ｃ０１Ｂ３／００３６鉄およびチタンのみを含むは，非金属からなるＦｅ−Ｔｉ組成物を含む。．．．２．グループＣ０１Ｂ３／００２６およびＣ０１Ｂ３／００４７からＣ０１Ｂ３／００６８において，希土類金属は，ランタニド，スカンジウム，またはイットリウムから選ばれた単一金属または金属の組み合わせを意味する。｝
C01B3/0031	｛金属間化合物；金属合金；その処理｝
C01B3/0036	｛鉄およびチタンのみを含む:その処理｝
C01B3/0042	｛マグネシウムおよびニッケルのみを含む；その処理｝
C01B3/0047	｛希土類金属を含む；その処理｝
C01B3/0057	｛ニッケルも含む｝
C01B3/0073	｛スラリー，縣濁物｝
C01B3/0078	｛複合固体貯蔵媒体，すなわち異なった固体成分の凝集したまたはルーズな混合物，化学的にまたは構造的に不均一な固体，被覆された固体または化学的に変性された表面領域を持つ固体｝
C01B3/0084	｛その形態に特徴のある固体貯蔵媒体，例．ペレット，焼結成形物，シート，多孔性成形物，スポンジ状金属，中空状粒子，空洞を持った固体，積層固体｝
C01B3/0089	｛オルト−パラ変換｝
C01B3/0094	｛原子状水素｝
C01B3/02	水素または以下のものを含むガス状混合物の製造　｛実質的な割合の｝水素
C01B3/025	｛アンモニア合成のためのガス混合物の製造または精製｝
C01B3/04	無機化合物，例．アンモニア，の分解によるもの　｛（Ｃ０１Ｂ３／０００５　が優先）｝　
C01B3/042	｛水の分解｝
C01B3/045	｛ガス層で｝
C01B3/046	
C01B3/047	｛アンモニアの分解｝
C01B3/06	エレクトロポジティブに結合された水素を含む無機化合物，例．水，酸，塩基，アンモニア，と無機還元剤との反応によるもの（水の電気分解によるものＣ２５Ｂ１／０４）
C01B3/061	｛水と金属酸化物の反応によるもの｝
C01B3/063	｛循環方法｝
C01B3/065	
C01B3/066	｛水とりんの反応によるもの｝
C01B3/08	金属によるもの
C01B3/10	金属と水蒸気との反応によるもの
C01B3/103	
C01B3/12	一酸化炭素と水蒸気との反応によるもの
C01B3/14	熱および蒸気の運用
C01B3/16	触媒を使用するもの
C01B3/18	移動固体粒子を使用するもの
C01B3/20	金属水酸化物と一酸化炭素との反応によるもの
C01B3/22	気体または液体有機化合物の分解によるもの　（｛Ｃ０１Ｂ３／０００５が優先｝；液体炭素質物質のコークス化Ｃ１０Ｂ５５／００）
C01B3/24	炭化水素の
C01B3/26	触媒を使用するもの
C01B3/28	移動固体粒子を使用するもの
C01B3/32	ガス化剤，例．水，二酸化炭素，空気，と気体または液体有機化合物との反応によるもの
C01B3/323	｛炭化水素以外の気体または液体有機化合物とガス化剤との触媒反応｝
C01B3/3231	
C01B3/326	｛触媒を特徴とするもの｝
C01B3/34	ガス化剤と炭化水素との反応によるもの
C01B3/342	｛電気的手段，電磁気的または機械的振動または粒子線照射の補助によるもの｝
C01B3/344	｛非触媒固体粒子を用いるもの｝
C01B3/36	ガス化剤として酸素または酸素含有混合物を用いるもの
C01B3/363	｛用いられるバーナーに特徴を持つもの｝
C01B3/366	｛内燃機関での部分燃焼｝
C01B3/38	触媒を用いるもの
C01B3/382	｛多段階工程｝
C01B3/384	｛触媒が継続的に外部から加熱されるもの｝
C01B3/386	｛触媒による部分燃焼｝
C01B3/40	触媒を特徴とするもの
C01B3/42	移動固体粒子を用いるもの
C01B3/46	不連続的に予熱された非移動固体材料を用いるもの，例．ブラストとラン
C01B3/48	一酸化炭素と水蒸気との反応にしたがうもの
C01B3/50	混合ガスからの水素または水素含有ガスの分離，例．精製（Ｃ０１Ｂ３／１４が優先）
C01B3/501	｛拡散によるもの｝
C01B3/503	｛膜に特徴があるもの｝　
C01B3/505	｛パラジウムを含有する膜｝
C01B3/506	｛低温で｝
C01B3/508	｛適当な媒体による選択的および可逆的吸着，すなわち，物理的または化学的吸着現象または可逆的化学反応に基づく吸着（適当な媒体そのものＣ０１Ｂ３／０００５）｝
C01B3/52	液体との接触によるもの；用いた液体の再生　｛（Ｃ０１Ｂ３／５０８が優先）｝
C01B3/54	接触反応を含むもの
C01B3/56	固体との接触によるもの；使用固体の再生　｛（Ｃ０１Ｂ３／５０８が優先）｝
C01B3/58	接触反応を含むもの
C01B3/583	｛反応が選択的な一酸化炭素の酸化であるもの｝
C01B3/586	｛反応がメタン化反応であるもの｝
C01B4/00	水素同位元素；同位元素交換により製造されるその無機化合物，例．ＮＨ３＋Ｄ２　→　ＮＨ２Ｄ＋ＨＤ，（同位元素の分離Ｂ０１Ｄ５９／００；他の水素同位元素化合物の製造のための化学反応についてはクラスＣ０１の水素化合物の関連するグループを参照）
C01B5/00	水
C01B5/02	重水；水素同位元素またはその化合物の化学反応による製造，例．４ＮＤ３＋７Ｏ２　→　４ＮＯ２＋６Ｄ２Ｏ，２Ｄ２＋Ｏ２　→　２Ｄ２Ｏ
C01B6/00	金属水素化物　｛完全なまたは部分的な水素化金属，合金または金属間化合物を含むもの（水素の可逆的吸着のためのそれらの使用Ｃ０１Ｂ３／０００５，Ｃ０１Ｂ３／５０８）；少なくともひとつの金属ー水素結合を有する化合物，例．（ＧｅＨ３）２Ｓ，ＳｉＨ　ＧｅＨ｝；モノボランまたはジボラン；それらの付加錯化合物（ほう素の高級水素化物，ほう素の置換水素化物Ｃ０１Ｂ３５／００）
C01B6/003	｛ただ一種の金属および一種またはいくつかの非金属を含む水素化物｝
C01B6/006	｛ただ一種の金属と一種または複数のハロゲン｝
C01B6/02	遷移元素の水素化物；その付加錯化合物
C01B6/04	アルカリ金属，アルカリ土類金属，ベリリウムまたはマグネシウムの水素化物；その付加錯化合物
C01B6/06	アルミニウム，ガリウム，インジウム，タリウム，ゲルマニウム，錫，鉛，ひ素，アンチモン，ビスマスまたはポロニウムの水素化物；モノボラン；ジボラン；その付加錯化合物
C01B6/065	｛ひ素またはアンチモンの水素化物｝
C01B6/10	モノボラン；ジボラン；その付加錯化合物
C01B6/11	ほう素またはほう素と酸素を含有する無機化合物からの製造
C01B6/13	モノボランまたはジボランの付加錯化合物，例．ホスフイン，アルシンまたはヒドラジンとの
C01B6/15	金属ほう水素化物；その付加錯化合物
C01B6/17	ほう素またはほう素と酸素とを含有する無機化合物からの製造
C01B6/19	他のほう素化合物からの製造
C01B6/21	アルカリ金属，アルカリ土類金属，マグネシウムまたはベリウムのほう水素化物の製造；それらの付加錯化合物，例．ＬｉＢＨ４．２Ｎ２Ｈ４，　ＮａＢ２Ｈ７
C01B6/23	他の金属のほう水素化物の製造，例．アルミニウムほう水素化物；その付加錯化合物，例．Ｌｉ[Ａｌ（ＢＨ４）３Ｈ｝
C01B6/24	少なくとも二種の金属を含む水素化物；その付加錯化合物（Ｃ０１Ｂ６／１３ないしＣ０１Ｂ６／２３が優先）
C01B6/243	｛水素，アルミニウムおよびアルカリ金属のみを含有する，例．Ｌｉ（ＡｌＨ４）｝
C01B6/246	｛水素以外の非金属も含有するもの｝
C01B6/26	最高イオン価を有する金属またはその酸化物またはそのオキソ酸の塩からの製造
C01B6/34	精製；安定化
C01B7/00	ハロゲン；ハロゲン化水素酸（オキソ酸Ｃ０１Ｂ１１／００）
C01B7/01	塩素；塩化水素
C01B7/012	｛元素からの塩化水素の製造｝
C01B7/015	｛塩素水和物；それからの塩素の取得｝
C01B7/017	｛塩素，水および炭素または一酸化炭素の反応による塩化水素の製造（炭素は触媒としてのみ作用）｝
C01B7/03	塩化物からの製造
C01B7/035	｛塩化物からの塩化水素の製造｝
C01B7/04	塩化水素からの塩素の製造
C01B7/05	塩化アンモニウムからの製造
C01B7/055	｛塩化アンモニウムからの塩化水素の製造｝
C01B7/07	精製；　｛分離（Ｃ０１Ｂ７／０１５が優先）｝
C01B7/0706	｛塩化水素の｝
C01B7/0712	｛蒸留による｝
C01B7/0718	｛吸着による｝
C01B7/0725	｛活性炭による｝
C01B7/0731	｛抽出による｝
C01B7/0737	｛抽出された塩化水素｝
C01B7/0743	｛ガス状または溶解された塩素｝
C01B7/075	液体塩素の
C01B7/09	臭素；臭化水素
C01B7/093	｛臭化水素｝
C01B7/096	｛臭素｝
C01B7/13	よう素；よう化水素
C01B7/135	｛よう化水素｝
C01B7/14	よう素
C01B7/16	海草からの製造
C01B7/19	ふっ素；ふっ化水素
C01B7/191	｛ふっ化水素｝
C01B7/192	｛蛍石からの製造｝
C01B7/193	｛ふっ素四けい素，フルオロけい酸またはフルオロけい酸塩からの製造｝
C01B7/194	｛ふっ化アンモニウムからの製造｝
C01B7/195	｛分離；精製｝
C01B7/196	｛蒸留による｝
C01B7/197	｛吸着による｝
C01B7/198	｛固体イオン交換体による｝
C01B7/20	ふっ素
C01B7/24	ハロゲン間化合物
C01B9/00	ハロゲン化物の一般的製造（個々のハロゲン化物は，ハロゲンと結合している元素に従ってＣ０１ＢからＣ０１Ｇの関連するグループを参照。無機化合物の電解製造Ｃ２５Ｂ）
C01B9/02	塩化物
C01B9/04	臭化物
C01B9/06	よう化物
C01B9/08	ふっ化物
C01B11/00	ハロゲンの酸化物またはオキシ酸；その塩
C01B11/02	塩素の酸化物
C01B11/021	｛一酸化二塩素（Ｃｌ２Ｏ）｝
C01B11/022	｛二酸化塩素（ＣｌＯ２）｝
C01B11/023	｛亜塩素酸塩または塩素酸塩からの製造｝
C01B11/024	｛亜塩素酸塩から｝
C01B11/025	｛塩化物イオン以外の還元剤なしで亜塩素酸塩から｝
C01B11/026	｛過酸化物，例．過酸化水素，オゾン，ペルオキシ硫酸塩，の存在下での塩素酸塩イオンから｝
C01B11/027	｛二酸化窒素，硝酸塩または亜硝酸イオン，塩化ニトロシル，ヒドラジンまたはヒドラジン化合物から選ばれた窒素化合物の存在下で，塩素酸イオンから｝
C01B11/028	｛分離；精製｝
C01B11/029	｛三酸化塩素（ＣｌＯ３）；六酸化二塩素（Ｃｌ２Ｏ６）；七酸化二塩素（Ｃｌ２Ｏ７）｝
C01B11/04	次亜塩素酸
C01B11/06	次亜塩素酸塩
C01B11/062	｛アルカリ金属の次亜塩素酸塩｝
C01B11/064	｛アルカリ土類金属の次亜塩素酸塩｝
C01B11/066	｛次亜塩素酸マグネシウム｝
C01B11/068	｛酸化物，水酸化物，アルカリ金属またはアルカリ土類金属炭酸塩以外の添加剤による安定化；粒子の被覆；成形；造粒｝
C01B11/08	亜塩素酸
C01B11/10	亜塩素酸塩
C01B11/12	塩素酸
C01B11/14	塩素酸塩
C01B11/145	｛分離；結晶化；精製，後処理；添加剤による安定化｝
C01B11/16	過塩素酸
C01B11/18	過塩素酸塩
C01B11/185	｛過塩素酸アンモニウム塩｝
C01B11/20	臭素の酸素化合物
C01B11/22	よう素の酸素化合物
C01B11/24	ふっ素の酸素化合物
C01B13/00	酸素；オゾン；酸化物または水酸化物一般
C01B13/02	酸素の製造　（｛特定の空気中または酸素中での混合ガスの濃縮，または吸収工程による混合ガスからの酸素の分離Ｂ０１Ｄ６３／０３(ＥＣＬＡ)｝；液化によるものＦ２５Ｊ）
C01B13/0203	｛無機化合物から｝
C01B13/0207	｛水｝
C01B13/0211	｛パーオキシ化合物｝
C01B13/0214	｛過酸化水素｝
C01B13/0218	｛塩素酸塩｝
C01B13/0222	｛有機化合物から｝
C01B13/0225	｛パーオキシ化合物｝
C01B13/0229	｛精製または分離工程｝
C01B13/0233	｛化学的処理のみ｝
C01B13/0237	｛酸化によるもの｝
C01B13/024	｛還元によるもの｝
C01B13/0244	｛錯体生成によるもの｝
C01B13/0248	｛物理的処理のみ｝
C01B13/0251	｛膜の利用によるもの｝
C01B13/0255	｛膜のタイプに特徴があるもの｝
C01B13/0259	｛固体状の吸着によるもの｝
C01B13/0262	｛吸着剤に特徴があるもの｝
C01B13/0266	｛炭素系材料｝
C01B13/027	｛ゼオライト｝
C01B13/0274	｛他の分子ふるい材料｝
C01B13/0277	｛温度変動吸着｝
C01B13/0281	｛ゲッターで｝
C01B13/0285	｛液体中での吸着によるもの｝
C01B13/0288	｛化学的処理と物理的処理の組み合わせ｝．．．<br><br><u>｛注</u><br><br>．このグループにおいて，処理工程はＣ０１Ｂ２２１０／０００１(ＥＣＬＡ)ないしＣ０１Ｂ２２１０／００２５(ＥＣＬＡ)から選ばれるコードを付与される｝
C01B13/0292	｛随意的に他の酸素受容体とともに，アルカリ金属亜硝酸塩を含有する溶融相を用いて空気から製造｝
C01B13/0296	｛固体装入物から純粋水素を自己持続的な仕方で放出する発生器，流体または外部加熱，例．それらを含むクロレート・キャンドルまたはキャニスター，との相互作用なし（装入物それ自体Ｃ０１Ｂ１３／０２）｝
C01B13/08	金属酸化物，例．酸化バリウム，酸化マンガン，の助けにより空気から　｛（Ｃ０１Ｂ１３／０２９２が優先）｝
C01B13/083	｛酸化バリウムとともに｝
C01B13/086	｛酸化マグネシウムとともに｝
C01B13/10	オゾンの製造
C01B13/11	放電によるもの
C01B13/115	｛放電を起こす電気回路に特徴があるもの｝
C01B13/14	酸化物または水酸化物の一般的製造方法（特に個々の酸化物または水酸化物は，酸素または水酸基と結合する元素にしたがってサブクラスＣ０１ＢないしＣ０１ＧまたはＣ２５Ｂの関連するグループを参照）．<br><br><u>｛注</u><br><br>このグループにおいては，＋ＩＤＴという表現は以下の内容を意味する。．　−ここに分類される文献は，金属酸化物の一般的製造方法に関するＩＤＴグループに分類されていた。．　−それらは，管理上，前述のＩＤＴグループからこのグループに再分類された。．複数のグループに管理上再分類されるため，分類記号が追補付与されている文献もある。｝
C01B13/145	｛酸化物または水酸化物の後処理，例．粉末化，乾燥，酸性度の減少｝
C01B13/16	精製
C01B13/18	化合物の，例．塩または水酸化物の，熱分解
C01B13/185	｛酸化物の混合物の製造｝
C01B13/20	ガス状態にある元素の酸化によるもの；ガス状態にある化合物の酸化または加水分解によるもの
C01B13/22	ハロゲン化物またはオキシハロゲン化物の
C01B13/24	燃焼熱ガスの存在における
C01B13/26	流動床の存在における
C01B13/28	プラズマまたは放電を用いるもの
C01B13/30	酸化物含有懸濁物の除去または冷却
C01B13/32	液体または固体の状態にある元素または化合物の酸化または加水分解によるもの　｛または溶液中で｝
C01B13/322	｛固体状態の元素または化合物の｝
C01B13/324	｛固体燃焼合成によるもの｝
C01B13/326	｛液体状態の元素または化合物の｝
C01B13/328	｛エマルジョンを用いた処理によるもの，例．ケロシンプロセス｝
C01B13/34	霧化または噴霧された溶液の酸化または加水分解によるもの
C01B13/36	溶液中の沈殿反応によるもの　｛水性｝溶液｛（Ｃ０１Ｂ１３／３２８が優先）｝
C01B13/363	｛沈殿による酸化物または水酸化物の混合物｝
C01B13/366	｛ハイドロサーマルプロセスによるもの｝
C01B15/00	過酸化物；過酸化水素化物；ペルオキシ酸またはその塩；超酸化物；オゾニド
C01B15/005	｛製造または結晶化に続く，添加剤または被覆による固体化合物の安定化｝
C01B15/01	過酸化水素
C01B15/013	分離；精製；濃縮
C01B15/0135	｛固体イオン交換体または固体キレート化剤による精製｝
C01B15/017	無水過酸化水素；過酸化水素を含む無水溶液またはガス状混合物
C01B15/022	有機化合物からの製造
C01B15/023	アルキル―アントラキノン法によるもの
C01B15/024	炭化水素からのもの
C01B15/026	アルコールからのもの
C01B15/027	水からの製造
C01B15/0275	｛水，一酸化炭素および酸素の反応による製造｝
C01B15/029	水素および酸素からの製造
C01B15/0295	｛放電によるもの｝
C01B15/03	無機化酸化物，例．ペルオキシ硫酸塩，からの製造
C01B15/032	金属の過酸化物からの製造
C01B15/037	添加剤による安定化
C01B15/04	金属化酸化物またはその過酸化水素化物　｛金属｝超酸化物；｛金属｝オゾニド；　[Ｎ:その過酸化水素化物]
C01B15/043	アルカリ金属，アルカリ土類金属またはマグネシウムの　｛またはベリリウムまたはアルミニウム｝
C01B15/0435	｛アルカリ金属の｝
C01B15/047	重金属の
C01B15/0475	｛アクチニドの｝
C01B15/055	過酸化水素化物（Ｃ０１Ｂ１５／０４が優先）；ペルオキシ酸またはその塩
C01B15/06	いおうを含むもの
C01B15/08	ペルオキシ硫酸塩
C01B15/085	｛製造または結晶化に続く，添加剤または被覆による固体化合物の安定化｝
C01B15/10	炭素を含むもの
C01B15/103	｛金属としてアルカリ金属のみを含むもの｝
C01B15/106	｛製造または結晶化に続く，添加剤または被覆による固体化合物の安定化｝
C01B15/12	ほう素を含むもの
C01B15/123	｛製造または結晶化に続く，添加剤または被覆による固体化合物の安定化｝
C01B15/126	｛低水和物または無水和物への固体水和過酸化ほう酸塩の脱水反応｝
C01B15/14	けい素を含むもの
C01B15/16	りんを含むもの
C01B17/00	いおう；その化合物
C01B17/02	いおうの製造；精製
C01B17/0205	｛液体からのいおうの分離，例．固結化（ｃｏａｌｅｓｃｅｎｃｅ）によるもの｝
C01B17/021	｛ガスからのいおうの分離｝
C01B17/0216	｛液体いおうの固化または冷却｝
C01B17/0221	｛溶融｝
C01B17/0226	｛蒸発または過加熱｝
C01B17/0232	｛精製，例．脱ガス｝
C01B17/0237	｛粒子への変換，例．粒状化，粉末化｝
C01B17/0243	｛いおうのその他の後処理｝
C01B17/0248	｛いおう粒子の｝
C01B17/0253	｛硫化物または硫化物を含む物質の以外の非ガス性いおう化合物から｝
C01B17/0259	｛硫酸塩の還元によるもの｝
C01B17/0264	｛硫酸カルシウムの｝
C01B17/027	元素状いおうを含む原料，例．ルックスマス，からのいおうの回収　｛またはいおう含有鉱石｝；精製　｛回収いおうの｝
C01B17/033	液体抽出剤を用いるもの
C01B17/04	ガス状硫化物を含むガス状いおう化合物からのもの
C01B17/0404	｛硫化水素含有ガスの乾燥接触転換からなるプロセスによるもの，例．クラウス法｝
C01B17/0408	｛硫化水素含有ガスの予備処理｝
C01B17/0413	｛燃焼工程に特徴があるもの｝
C01B17/0417	｛燃焼反応器｝
C01B17/0421	｛多段燃焼｝
C01B17/0426	｛接触転化に特徴があるもの｝
C01B17/043	｛接触コンバーター｝
C01B17/0434	｛触媒組成物｝
C01B17/0439	｛少なくともひとつの触媒層がいおうの露点以下で操作されるもの｝
C01B17/0443	｛流動床で｝
C01B17/0447	｛得られたいおうの分離｝
C01B17/0452	｛工程管理；クラウス法の始動または冷却運転手順｝
C01B17/0456	｛硫化水素含有ガスがクラウス法のテールガスであるもの｝
C01B17/046	｛二酸化いおうの中間生成ながないもの｝
C01B17/0465	｛触媒組成物｝
C01B17/0469	｛少なくともひとつの触媒層がいおうの露点以下で操作されるもの｝
C01B17/0473	｛二酸化いおうまたは三酸化いおうと硫化水素以外の還元剤との反応によるもの｝
C01B17/0478	｛炭化水素またはそれらを含む混合物と｝
C01B17/0482	｛炭素材または固体炭素質材料と｝
C01B17/0486	｛一酸化炭素または一酸化炭素含有混合物と｝
C01B17/0491	｛水素または水素含有混合物，例．合成ガス，と｝
C01B17/0495	｛硫化水素の元素への解離｝
C01B17/05	湿式法によるもの
C01B17/06	非ガス状硫化物またはそのような硫化物を含む原料，例．鉱石，からのもの
C01B17/10	微粉状いおう，例．昇華いおう，いおう華，
C01B17/12	不溶性いおう（μ−いおう）
C01B17/125	｛３２Ｓ以外のいおう同位体｝
C01B17/16	硫化水素
C01B17/161	｛元素状いおうからの製造｝
C01B17/162	｛元素状いおうと水素から｝
C01B17/164	｛酸化いおう化合物の還元による製造｝
C01B17/165	｛硫化物，オキシ硫化物または多硫化物からの製造｝
C01B17/167	｛分離｝
C01B17/168	｛精製｝
C01B17/18	水素多硫化物
C01B17/20	硫化物または多硫化物の一般的製造方法（硫化アンモニウムまたは多硫化アンモニウムはＣ０１Ｃ；アルカリ金属，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムおよびバリウム以外の金属の硫化物または多硫化物は，その金属にしたがってサブクラスＣ０１Ｆ，Ｃ０１Ｇの関連するグループを参照）
C01B17/22	アルカリ金属硫化物または多硫化物
C01B17/24	還元による製造
C01B17/26	炭素によるもの
C01B17/28	還元性ガスによるもの
C01B17/30	ナトリウムまたはカリウムアマルガムといおうまたは硫化物からの製造
C01B17/32	ナトリウムまたはカリウムの水硫化物
C01B17/34	ナトリウムまたはカリウムの多硫化物
C01B17/36	精製
C01B17/38	脱水
C01B17/40	成形品，例．粒，の製造
C01B17/42	マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムまたはバリウムの硫化物または多硫化物
C01B17/43	酸化物または水酸化物といおうまたは硫化水素とからのもの
C01B17/44	硫酸塩の還元によるもの
C01B17/45	いおうとハロゲンとを含有し，酸素を伴うまたは伴わない化合物
C01B17/4507	
C01B17/4515	
C01B17/4523	
C01B17/453	
C01B17/4538	
C01B17/4546	
C01B17/4553	
C01B17/4561	
C01B17/4569	
C01B17/4576	
C01B17/4584	
C01B17/4592	
C01B17/46	いおう，ハロゲン，水素および酸素を含有する化合物
C01B17/463	
C01B17/466	
C01B17/48	二酸化いおう；亜硫酸
C01B17/50	二酸化いおうの製造
C01B17/501	｛いおう化合物の還元によるもの｝
C01B17/502	｛三酸化いおうの｝
C01B17/503	｛硫酸の｝
C01B17/504	｛硫酸アンモニウムの（硫酸水溶液を含む硫酸アンモニウムのＣ０１Ｂ１７／５８５）｝
C01B17/505	｛アルカリ金属硫酸塩の｝
C01B17/506	｛硫酸カルシウムの｝
C01B17/507	｛硫酸鉄の｝
C01B17/508	｛いおう化合物の酸化によるもの｝
C01B17/52	硫化物のばい焼によるもの（Ｃ２２Ｂ１／００が優先）
C01B17/54	元素状いおうの燃焼によるもの
C01B17/56	分離；精製
C01B17/58	アシッドタールまたは同等物から二酸化いおうの回収　｛または，硫酸廃棄物からの｝
C01B17/585	｛硫酸水溶液を含む硫酸アンモニウムから｝
C01B17/60	ガスから二酸化いおうの分離
C01B17/62	亜硫酸塩の一般的製造方法（特に個々の亜硫酸塩は，陽イオンにしたがいサブクラスＣ０１ＢないしＣ０１Ｇの関連するサブグループを参照）
C01B17/625	｛金属亜硫酸塩またはピロ亜硫酸塩｝
C01B17/64	チオ硫酸塩；亜二チオン酸塩；多チオン酸塩
C01B17/66	亜二チオン酸塩　｛またはハイドロサルファイト（Ｓ２Ｏ４　２−）｝
C01B17/665	｛製造に続く添加剤による安定化；添加剤による粉塵防止｝
C01B17/69	三酸化いおう；硫酸
C01B17/70	γ型三酸化いおうの安定化
C01B17/74	製造
C01B17/745	｛硫酸塩から｝
C01B17/76	接触法による
C01B17/762	｛高圧法｝
C01B17/765	多段式ＳＯ３転化
C01B17/7655	｛中間吸収とともに｝
C01B17/77	流動床法
C01B17/775	液相接触法または湿式触媒法
C01B17/78	使用触媒を特徴とするもの
C01B17/79	バナジウムを含むもの
C01B17/80	装置
C01B17/803	｛コンバーター｝
C01B17/806	｛吸収装置；熱交換器｝
C01B17/82	酸化窒素法を用いる硫酸の
C01B17/84	鉛室法
C01B17/86	塔式法
C01B17/88	硫酸の濃縮
C01B17/90	分離；精製
C01B17/901	｛金属イオンを含有する廃酸，例．加水分解酸，酸洗い酸，からの回収（硫酸塩，例．硫酸鉄，からの三酸化いおう回収における中間体としての二酸化いおうの取得Ｃ０１Ｂ１７／５０１，廃酸からＣ０１Ｂ１７／５８）｝
C01B17/902	｛透析によるもの｝
C01B17/903	｛液・液抽出によるもの｝
C01B17/904	｛イオン交換によるもの｝
C01B17/905	｛有虐純物の除去｝
C01B17/906	｛水銀の除去｝
C01B17/907	｛ひ素の除去｝
C01B17/908	｛アンチモンまたはビスマスの除去｝
C01B17/92	アシッドタールまたは同等物からの回収　｛例．アルキル化酸（それからの三酸化いおうの回収における中間対としての二酸化いおうの取得Ｃ０１Ｂ１７／５８）｝
C01B17/925	｛液・液抽出を含む工程によるもの｝
C01B17/94	ニトロ化用酸からの回収
C01B17/96	硫酸塩の一般的製造方法（特に個々の硫酸塩は陽イオンにしたがってサブクラスＣ０１ＢないしＣ０１Ｇの関連するグループを参照）
C01B17/965	｛ピロ硫酸塩｝
C01B17/98	いおうと酸素を含有する他の化合物（過硫酸Ｃ０１Ｂ１５／０６；過硫酸塩Ｃ０１Ｂ１５／０８）
C01B19/00	セレン；テルル；それらの化合物（りん化合物Ｃ０１Ｂ２５／１４）
C01B19/001	｛液・液抽出，吸着またはイオン交換を含む製造｝
C01B19/002	｛セレンまたはテルルのほかに一種以上の元素を含む化合物，’−Ｏ−と’−ＯＨは陰イオンとは考慮されない）｝
C01B19/004	｛酸化物；水酸化物｝
C01B19/005	｛ハロゲン化物｝
C01B19/007	｛金属のテルル化物またはセレン化物（Ｃ０１Ｂ１９／００２が優先）｝
C01B19/008	｛セレンまたはテルルのオキシ酸塩｝
C01B19/02	元素状セレンまたはテルル
C01B19/04	二元化合物　｛セレンとテルルの二元化物を含むもの（Ｃ０１Ｂ１９／００４，Ｃ０１Ｂ１９／００５，Ｃ０１Ｂ１９／００７が優先）｝
C01B21/00	窒素；その化合物
C01B21/02	窒素の製造[（Ｎ:アンモニアの分解によるものＣ０１Ｂ３／０４７）｝
C01B21/04	窒素の精製または分離（液化によるものＦ２５Ｊ）
C01B21/0405	｛精製または分離プロセス｝．．<br><br><u>｛注</u><br><br>このグループでは，精製および分離プロセスの付加的な態様はＣ０１Ｂ２２１０／００２６(ＥＣＬＡ)ないしＣ０１Ｂ２２１０／００９８(ＥＣＬＡ)から選ばれるコードを付与される｝
C01B21/0411	｛化学的処理のみ｝
C01B21/0416	｛酸化によるもの｝
C01B21/0422	｛還元によるもの｝
C01B21/0427	｛錯体生成によるもの｝
C01B21/0433	｛物理的処理のみ｝
C01B21/0438	｛膜の使用によるもの｝
C01B21/0444	｛膜に特徴があるもの｝
C01B21/045	｛固体中での吸着によるもの｝
C01B21/0455	｛吸着剤に特徴があるもの｝
C01B21/0461	｛炭素系材料｝｝Ｎ９５１１]
C01B21/0466	｛ゼオライト｝
C01B21/0472	｛他の分子ふるい材料｝
C01B21/0477	｛温度変動吸着｝
C01B21/0483	｛ゲッターで｝
C01B21/0488	｛液体中での吸着によるもの｝
C01B21/0494	｛化学処理と物理処理の組み合わせ｝．．．<br><br><u>｛注</u><br><br>．このグループでは，処理工程はＣ０１Ｂ２２１０／０００１(ＥＣＬＡ)ないしＣ０１Ｂ２２１０／００２５(ＥＣＬＡ)から選ばれるコードを付与される｝
C01B21/06	窒素と金属，窒素とけい素，または窒素とほう素との二元化合物｛または炭素とのもの，すなわち，窒化物；窒素と二種以上の金属，けい素またはほう素との化合物｝（アジドＣ０１Ｂ２１／０８）．<br><br><u>｛注</u><br><br>１．二元化合物，すなわち，金属，けい素，ほう素または炭素から選ばれた他の一元素のみとの窒素の化合物は，グループＣ０１Ｂ２１／０６またはＣ０１Ｂ２１／０６０５ないしＣ０１Ｂ２１／０７６に分類される。金属，けい素またはほう素から選ばれる二種以上の元素との窒素の化合物はＣ０１Ｂ２１／０６０２に分類される。．２．複数の特定な二元化合物に関する文献は２１／０６にのみ分類され，これらの特定化合物を識別するためにＣ０１Ｂ２１／０６０２(ＥＣＬＡ)〜Ｃ０１Ｂ２１／０７６の中から選択されるインデキシングコードが付与される。｝
C01B21/0602	｛金属，けい素またはほう素から選ばれる二種またはそれ以上の元素との｝
C01B21/0605	｛窒素と炭素との二元化合物｝
C01B21/0607	｛アルカリ金属との｝
C01B21/061	｛リチウムとの｝
C01B21/0612	｛アルカリ土類金属，ベリリウムまたはマグネシウムとの｝
C01B21/0615	｛チタン，ジルコニウムまたはハフニウム以外の遷移金属との｝
C01B21/0617	｛バナジウム，ニオブまたはタンタルとの｝
C01B21/062	｛クロム，モリブデンまたはタングステンとの｝
C01B21/0622	｛鉄，コバルトまたはニッケルとの｝
C01B21/0625	｛銅との｝
C01B21/0627	｛一種またはそれ以上の希土類金属との｝｝Ｎ９４０９]
C01B21/063	｛一種またはそれ以上のアクチニドとの，例．窒化ウラン，窒化プルトニウム｝
C01B21/0632	｛ガリウム，インジウムまたはタリウムとの｝
C01B21/0635	｛ゲルマニウム，すずまたは鉛との｝
C01B21/0637	｛アルミニウム，チタン，ジルコニウムまたはハフニウム以外で，グループＣ０１Ｂ２１／０６０７ないしＣ０１Ｂ２１／０６３５で特定されない金属との｝
C01B21/064	ほう素との
C01B21/0641	｛元素状ほう素の直接窒化による製造｝
C01B21/0643	｛ハロゲン化ほう素からの製造｝
C01B21/0645	｛炭素還元窒化法による製造｝
C01B21/0646	｛ほう素と窒素を含有する化合物の熱分解による製造｝
C01B21/0648	｛後処理，例．粉末化，精製（六方晶から立方晶またはウルツ鉱型窒化ホウ素への転移）Ｃ０４Ｂ３５／５８３１｝
C01B21/068	けい素との化合物
C01B21/0682	｛けい素の直接窒化法による製造｝
C01B21/0685	｛炭素還元窒化法による製造｝
C01B21/0687	｛後処理，例．粉末化，精製｝
C01B21/072	アルミニウムとの化合物
C01B21/0722	｛アルミニウムの直接窒化法による製造｝
C01B21/0724	｛プラズマの使用によるもの｝
C01B21/0726	｛炭素還元窒化法による製造｝
C01B21/0728	｛後処理，例．粉末化，精製｝
C01B21/076	チタンまたはジルコニウムとの化合物　｛またはハフニウム｝
C01B21/0761	｛チタン，ジルコニウムまたはハフニウムの直接窒化法による製造｝
C01B21/0763	｛チタン，ジルコニウムまたはハフニウムのハロゲン化物からの製造｝
C01B21/0765	｛炭素還元窒化法による製造｝
C01B21/0766	｛チタン，ジルコニウムまたはハフニウム化合物を含有する窒素の熱分解による製造｝
C01B21/0768	｛後処理，例．粉末化，精製｝
C01B21/08	アジ化水素；アジド；ハロゲン化アジド
C01B21/082	窒素と非金属とわ含む化合物　｛および必要に応じて金属｝（Ｃ０１Ｂ２１／０６，Ｃ０１Ｂ２１／０８が優先）
C01B21/0821	｛金属，ほう素またはけい素の酸窒化物｝
C01B21/0823	｛酸窒化けい素｝
C01B21/0825	｛酸窒化アルミニウム｝
C01B21/0826	｛酸窒化けい素アルミニウム，すなわちサイアロン｝
C01B21/0828	｛炭窒化物または金属，ほう素またはけい素の炭窒酸化物｝
C01B21/083	１またはそれ以上のハロゲン原子を含むもの
C01B21/0832	｛窒素とハロゲンとの二元化合物｝
C01B21/0835	｛三フッ化窒素｝
C01B21/0837	｛精製｝
C01B21/084	１またはそれ以上の酸素原子をさらに含むもの，例．ハロゲン化ニトロシル
C01B21/0842	｛窒素酸化物のハロゲン化物｝
C01B21/0844	｛ふっ化ニトロシル｝
C01B21/0846	｛塩化ニトロシル｝
C01B21/0848	｛過塩素酸ニトロシル｝
C01B21/086	１またはそれ以上のいおう原子を含むもの
C01B21/0865	｛窒素といおうとの二元化合物｝
C01B21/087	１またはそれ以上の水素原子を含むもの
C01B21/088	１またはそれ以上のハロゲン原子をさらに含むもの
C01B21/09	ハロゲノアミン，例．クロラミン
C01B21/091	｛クロラミン，すなわち，ＮＨ２Ｃｌ，またはジクロルアミン，すなわち，ＮＨＣｌ２｝
C01B21/092	１またはそれ以上の金属原子をさらに含むもの
C01B21/0923	｛金属イミドまたはアミド（シリコンイミドまたはアミドはＣ０１Ｂ２１／０８７）｝
C01B21/0926	｛アルカリ金属の｝
C01B21/093	１またはそれ以上のいおう原子をさらに含むもの
C01B21/0935	｛イミドジスルホン酸；ニトリロトリスルホン酸；その塩｝
C01B21/094	酸基を含むニトロシル
C01B21/096	アミド硫酸；その塩
C01B21/097	りん原子を含むもの
C01B21/0975	｛一またはそれ以上の硫黄原子もまた含むもの｝
C01B21/098	窒化二ハロゲン化りん；その重合体
C01B21/0983	｛窒化二ふっ化りん；その重合体｝
C01B21/0986	｛窒化二塩化りん；その重合体｝
C01B21/12	カルバミン酸；その塩
C01B21/125	｛金属カルバメート｝
C01B21/14	ヒドロキシルアミン；その塩
C01B21/1409	｛製造｝
C01B21/1418	｛水素による酸化窒素または硝酸塩の接触還元によるもの｝
C01B21/1427	｛重亜硫酸塩または二酸化いおうによる酸化窒素または亜硝酸塩の還元によるもの，例．ラシヒ法｝
C01B21/1436	｛ガス相，例．窒素，水素または酸素，における反応によるもの｝
C01B21/1445	｛その塩からのヒドロキシルアミンの｝
C01B21/1454	｛Ｃ０１Ｂ２１／１４１８ないしＣ０１Ｂ２１／１４４５の一又はそれ以上のグループに含まれない方法によるヒドロキシルアミン塩の，例．ある塩から他の塩への転換によるもの｝
C01B21/1463	｛濃縮｝
C01B21/1472	｛分離｝
C01B21/1481	｛精製｝
C01B21/149	｛安定化｝
C01B21/16	ヒドラジン；その塩
C01B21/20	窒素酸化物；窒素のオキシ酸；その塩
C01B21/203	｛プラズマまたは放電を用いた窒素酸化物の製造｝
C01B21/206	｛硝酸無水物（Ｎ２０５）（Ｃ０１Ｂ２１／２０３が優先）｝
C01B21/22	亜酸化窒素（Ｎ↓２Ｏ）　｛（Ｃ０１Ｂ２１／２０３が優先）｝
C01B21/24	酸化窒素（ＮＯ）　｛（Ｃ０１Ｂ２１／２０３が優先）｝
C01B21/26	アンモニアの接触的酸化による製造　｛またはアンモニアの非接触的酸化｝
C01B21/262	｛二酸化窒素または四二酸化窒素の取得｝
C01B21/265	｛触媒に特徴があるもの｝
C01B21/267	｛触媒の劣化または損失の防止のためのまたは損失触媒の回収のための手段｝
C01B21/28	装置
C01B21/30	窒素の酸化による製造　｛（Ｃ０１Ｂ２１／２６が優先）｝
C01B21/32	装置
C01B21/34	三二酸化窒素（Ｎ２Ｏ３）　｛（Ｃ０１Ｂ２１／２０３が優先）｝
C01B21/36	二酸化窒素（ＮＯ↓２，Ｎ↓２Ｏ↓４）　（｛Ｃ０１Ｂ２１／２０３｝，Ｃ０１Ｂ２１／２６，Ｃ０１Ｂ２１／３０が優先）
C01B21/38	硝酸
C01B21/40	窒素酸化物の吸収による製造　｛（Ｃ０１Ｂ２１／２６が優先）｝
C01B21/42	硝酸塩からの製造
C01B21/44	濃縮　｛（Ｃ０１Ｂ２１／４０が優先）｝
C01B21/46	精製；分離　｛安定化（Ｃ０１Ｂ２１／４０が優先）｝
C01B21/48	硝酸塩の一般的製造方法（特に個々の硝酸塩は陽イオンにしたがいサブクラスＣ０１ＢないしＣ０１Ｇ中の該当するグループ参照）
C01B21/50	亜硝酸；その塩
C01B23/00	希ガス；その化合物（液化Ｆ２５Ｊ；　｛精留により得られた希ガスＦ２５Ｊ３／０２Ｂ(ＥＣＬＡ)｝）
C01B23/0005	｛希ガスの化合物｝
C01B23/001	｛希ガスの精製または分離プロセス｝
C01B23/0015	｛化学的処理のみ｝
C01B23/0021	｛酸化によるもの｝
C01B23/0026	｛還元によるもの｝
C01B23/0031	｛錯体生成によるもの｝
C01B23/0036	｛物理的処理のみ｝
C01B23/0042	｛膜の使用によるもの｝
C01B23/0047	｛膜に特徴があるもの｝
C01B23/0052	｛固体での吸着によるもの｝
C01B23/0057	｛吸着剤に特徴があるもの｝
C01B23/0063	｛炭素系材料｝
C01B23/0068	｛ゼオライト｝
C01B23/0073	｛他の分子ふるい材料｝
C01B23/0078	｛温度変動吸着｝
C01B23/0084	｛ゲッターで｝
C01B23/0089	｛液体中での吸着によるもの｝
C01B23/0094	｛化学的処理と物理的処理の組み合わせ｝．．<br><br><u>｛注</u><br><br>このグループにおいて，処理工程はＣ０１Ｂ２２１０／０００１(ＥＣＬＡ)ないしＣ０１Ｂ２２１０／００２５(ＥＣＬＡ)から選ばれたコードを付与される｝
C01B25/00	りん；その化合物（｛Ｃ０１Ｂ６／００｝，Ｃ０１Ｂ２１／００，Ｃ０１Ｂ２３／００が優先；過りん酸塩Ｃ０１Ｂ１５／１６）<br><br><u>｛注</u><br><br>このグループにおいては，＋ＩＤＴという表現は以下の内容を意味する:　−ここに分類される文献は，りんまたはその化合物に関連するＩＤＴグループに分類されていた。　−それらは管理上，前述のＩＤＴグループからこのグループに再分類された。複数のグループへ管理上再分類するため，分類記号が追補付与されている文献もある。｝
C01B25/003	｛りん｝
C01B25/006	｛安定化（Ｃ０１Ｂ２５／０４が優先）｝
C01B25/01	りんまたはりん化合物を得るためのりん酸塩鉱石または他のりん酸塩原料の処理
C01B25/02	りんの製造
C01B25/023	赤りんの
C01B25/027	黄りんの
C01B25/04	りんの精製
C01B25/043	赤りんの
C01B25/047	黄りんの
C01B25/06	りん化水素
C01B25/08	その他のりん化物
C01B25/081	｛アルカリ金属，アルカリ土類金属またはマグネシウムの｝
C01B25/082	｛ほう素，アルミニウム，ガリウムまたはインジウムの｝
C01B25/084	｛ほう素の｝
C01B25/085	｛アルミニウムの｝
C01B25/087	｛ガリウムまたはインジウムの｝
C01B25/088	｛複数の金属を含有するもの｝
C01B25/10	りんのハロゲン化物またはオキシハロゲン化物
C01B25/12	りんの酸化物
C01B25/14	りんのいおう，セレンまたはテルル化合物｝
C01B25/16	りんのオキシ酸；その塩（ペルオキシ酸またはその塩Ｃ０１Ｂ１５／００）
C01B25/161	｛酸化数４以下で，以下に述べるもの以外の，少なくともひとつのりん原子を含有するもの；その塩｝
C01B25/163	亜りん酸；その塩
C01B25/165	次亜りん酸；その塩
C01B25/168	ピロ亜りん酸；その塩
C01B25/18	りん酸
C01B25/185	｛元素状りんまたは無水りん酸からでなく，またリン酸塩含有原料と酸との反応，例．リン酸塩含有物質とイオン交換樹脂または単独で用いられる酸性塩，によるものでもない製造｝
C01B25/20	元素状りんまたは無水りん酸からの製造
C01B25/22	りん酸塩含有原料を酸と反応させることによる製造，例．湿式法
C01B25/2204	｛湿式法でのりん酸塩含有原料の反応に用いられる容器の配置｝
C01B25/2208	｛硫酸以外の酸または酸混合物と｝
C01B25/2212	｛水性媒体中において，塩化水素酸または塩化水素と｝
C01B25/2216	｛水性媒体中で，硝酸または亜硝酸蒸気と｝
C01B25/222	硫酸，主として硫酸から成る酸の混合物またはその場で硫酸を生成させる化合物の混合物，例．二酸化いおう，水および酸素の混合物，と
C01B25/223	硫酸カルシウムのただ一つの形だけが生成されるもの
C01B25/2235	｛無水石膏法｝
C01B25/225	二水化物法
C01B25/226	半水化物法
C01B25/228	硫酸カルシウムの一形態が生成しついで他の形態に転化するもの
C01B25/2285	｛二水化物・無水石膏または半水化物・無水石膏法｝
C01B25/229	半水化物―二水化物法
C01B25/2295	｛りん酸の分離後，反応に使われたものと異なる一またはそれ以上の容器中で行われる転化｝
C01B25/231	二水化物―半水化物法
C01B25/232	りん酸塩含有原料を濃硫酸と反応させひきつづき得られたものを浸出することによる製造，例．クリンカー法
C01B25/234	精製；安定化；濃縮（製造を伴う精製Ｃ０１Ｂ２５／２２；液・液抽出を含む製造Ｃ０１Ｂ２５／４６）
C01B25/2343	｛精製を伴う濃縮，例．フッ素の除去｝
C01B25/2346	｛濃縮｝
C01B25/235	浄化；溶解不純物の後沈（Ｐｏｓｔｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｉｏｎ）を防止するための安定化
C01B25/237	不純物の選択的除去　｛（Ｃ０１Ｂ２５／２３４３が優先）｝
C01B25/2372	｛アニオン不純物，例．シリカまたはほう素化合物｝
C01B25/2375	｛ふっ化物またはフッ化けい素アニオン｝
C01B25/2377	｛硫酸塩｝
C01B25/238	陽イオン不純物　｛例．ひ素化合物｝
C01B25/24	縮合りん酸
C01B25/26	りん酸塩（過りん酸塩Ｃ０１Ｂ１５／１６）．．<br><br><u>｛注</u><br><br>このグループにおいては，＋ＩＤＴという表現は以下の内容を意味する。．．　−ここに分類される文献は，りん酸アンモニウムに関するＩＤＴグループに分類された。．．　−それらは管理上，前述のＩＤＴグループからこのグループに再分類された。．．複数のグループへ管理上再分類するため，分類記号が追補付与されている文献もある。｝
C01B25/265	｛りん酸塩を得るための一般的方法｝
C01B25/28	りん酸アンモニウム
C01B25/30	アルカリ金属りん酸塩
C01B25/301	｛液状正りん酸からの，または正りん酸の酸溶液または懸濁物からの製造（イオン交換樹脂を用いるものＣ０１Ｂ２５／３０）｝
C01B25/303	｛不純物の除去｝
C01B25/305	｛アルカリ処理によるりん含有化合物からの製造｝
C01B25/306	｛りん酸塩からの｝
C01B25/308	｛アルカリ金属正りん酸塩を他のものに転化する方法；精製；脱色；脱水；乾燥｝
C01B25/32	マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムまたはバリウムのりん酸塩
C01B25/321	｛アルカリ土類金属正りん酸塩を他の正りん酸塩に転化する方法（反応によるもの，例．りん酸塩岩石とりん酸Ｃ０１Ｂ２５／３２２）｝
C01B25/322	｛正りん酸塩の中和による製造｝
C01B25/324	｛正りん酸以外の酸による酸性化により得られた反応溶液からの製造｝
C01B25/325	｛複分解による製造｝
C01B25/327	｛後処理（鉱石のりん含有量の増加Ｃ０１Ｂ２５／３２）｝
C01B25/328	｛製造中または製造後の脱ふっ素化｝
C01B25/34	りん酸マグネシウム
C01B25/36	りん酸アルミニウム
C01B25/37	重金属のりん酸塩
C01B25/372	｛チタン，バナジウム，ジルコニウム，ニオブ，ハフニウムまたはタンタルの｝
C01B25/375	｛鉄の｝
C01B25/377	｛マンガンの｝
C01B25/38	縮合りん酸塩
C01B25/385	｛アルカリ土類金属またはマグネシウムの｝
C01B25/39	アルカリ金属の
C01B25/395	｛製造および脱水｝
C01B25/40	ポリりん酸塩
C01B25/405	｛アンモニアの｝
C01B25/41	アルカリ金属の
C01B25/412	｛アルカリ金属正りん酸塩の製造｝
C01B25/414	｛装置｝
C01B25/416	｛不純な出発材料からの純粋なアルカリ金属ポリりん酸塩｝
C01B25/418	｛後処理｝
C01B25/42	ピロりん酸塩
C01B25/425	｛アルカリ金属の｝
C01B25/44	メタりん酸塩
C01B25/445	アルカリ金属の
C01B25/45	複数の金属，または金属とアンモニウムを含むもの
C01B25/451	｛金属およびアンモニアを含むもの｝
C01B25/455	ハロゲンを含むもの　｛（完全にハロゲン化されたアルカリ金属りん酸塩Ｃ０１Ｄ，例．六ふっ化りん酸リチウムＣ０１Ｄ１５／００５）｝
C01B25/4555	｛次亜塩素酸塩・りん酸塩二元塩，例．４（Ｎａ３ＰＯ４１１Ｈ２Ｏ）．ＮａＯＣｌまたはいわゆる塩素化りん酸三ナトリウム｝
C01B25/46	液・液抽出を含む製造（溶剤抽出一般Ｂ０１Ｄ１１／００）
C01B25/461	｛生成されたまたは分離された液層から最初に抽出され，ついで水を使用して遊離酸としてまたは塩基を使用してりん酸塩として再抽出された反応後に得られた媒体中に存在するりん酸（酸中の不純物の除去Ｃ０１Ｂ２５／２３７）｝．．．<br><br><u>｛注</u><br><br>．１．抽出剤はりん酸の溶媒でない化合物または化合物の混合物，例．炭化水素，で希釈されてもよい。．．．２．Ｃ０１Ｂ２５／４６２ないしＣ０１Ｂ２５／４６６のサブグループのひとつ以上に属する文献は組み合わせ，例．Ｃ０１Ｂ２５／４６２＋Ｂ４＋Ｂ８，により分類される｝
C01B25/462	｛抽出剤がアルコールまたはアルコールの混合物であるもの｝
C01B25/463	｛抽出剤がケトンまたはケトンの混合物であるもの｝
C01B25/464	｛抽出剤がエーテルまたはエーテルの混合物であるもの｝
C01B25/465	[Ｎ抽出剤がエステルまたはエステルの混合物であるもの｝
C01B25/466	｛抽出剤がアミンまたはアミドのような窒素性溶媒または窒素性溶媒の混合物であるもの｝
C01B25/467	｛抽出剤がりん含有原料の反応段階ですでに存在しているもの｝
C01B25/468	｛抽出が，反応スラリーそのものにおいて，すなわち，酸の分離なしで，行われるもの（Ｃ０１Ｂ２５／２３２が優先）｝
C01B32/00	
C01B32/05	
C01B32/10	
C01B32/15	
C01B32/152	
C01B32/154	
C01B32/156	
C01B32/158	
C01B32/159	
C01B32/16	
C01B32/162	
C01B32/164	
C01B32/166	
C01B32/168	
C01B32/17	
C01B32/172	
C01B32/174	
C01B32/176	
C01B32/178	
C01B32/18	
C01B32/182	
C01B32/184	
C01B32/186	
C01B32/188	
C01B32/19	
C01B32/192	
C01B32/194	
C01B32/196	
C01B32/198	
C01B32/20	
C01B32/205	
C01B32/21	
C01B32/215	
C01B32/22	
C01B32/225	
C01B32/23	
C01B32/25	
C01B32/26	
C01B32/28	
C01B32/30	
C01B32/306	
C01B32/312	
C01B32/318	
C01B32/324	
C01B32/33	
C01B32/336	
C01B32/342	
C01B32/348	
C01B32/354	
C01B32/36	
C01B32/366	
C01B32/372	
C01B32/378	
C01B32/382	
C01B32/384	
C01B32/39	
C01B32/40	
C01B32/50	
C01B32/55	
C01B32/60	
C01B32/70	
C01B32/72	
C01B32/75	
C01B32/77	
C01B32/80	
C01B32/90	
C01B32/907	
C01B32/914	
C01B32/921	
C01B32/928	
C01B32/935	
C01B32/942	
C01B32/949	
C01B32/956	
C01B32/963	
C01B32/97	
C01B32/977	
C01B32/984	
C01B32/991	
C01B33/00	けい素；その化合物（｛Ｃ０１Ｂ６／００｝，Ｃ０１Ｂ２１／００，Ｃ０１Ｂ２３／００が優先；過けい酸塩Ｃ０１Ｂ１５／１４；炭化物Ｃ０１Ｂ３１／３６）<br><br><u>｛注</u><br><br>このグループにおいては，＋ＩＤＴという表現は以下の内容を意味する:　−ここに分類される文献はけい素またはその化合物に関するＩＤＴグループに分類されていた。　−それらは，管理上，前述のＩＤＴグループからこのグループに再分類された。複数のグループへの管理上の再分類のため，分類記号を追補付与されている文献もある。｝
C01B33/02	けい素（単結晶または特定構造を有する均質多結晶材料の形成Ｃ３０Ｂ）
C01B33/021	製造（気相からの化学的被覆Ｃ２３Ｃ１６／００）
C01B33/023	シリカまたはシリカ含有材料の還元によるもの　｛フリー｝シリカ含有材料
C01B33/025	炭素または固体炭素質材料とともに，すなわち炭熱法
C01B33/027	シリカまたはシリカ含有材料以外の，気体状または気化されたけい素化合物の分解または還元によるもの。
C01B33/029	モノシランの分解によるもの。
C01B33/03	けい素ハロゲン化物またはハロシランの分解，または水素のみを還元剤とするそれの還元によるもの。
C01B33/031	四ヨウ化けい素の分解によるもの。
C01B33/033	金属または合金のみを還元剤とする，けい素ハロゲン化物またはハロシランの還元によるもの。
C01B33/035	気体状または気化されたけい素化合物の，けい素，炭素，または耐火金属，例．タンタルまたはタングステン，の加熱フイラメントの存在下における，もしくは形成されるけい素が析出する加熱けい素棒，すなわち得られるけい素の存在下における，例．シーメンス法，分解または還元によるもの。
C01B33/037	精製（ゾーンメルテングによるものＣ３０Ｂ１３／００）
C01B33/039	けい素の化合物への転換，選択的なその化合物の精製，及びけい素への再転換によるもの。
C01B33/04	けい素の水素化物
C01B33/043	｛モノシラン｝
C01B33/046	｛精製｝
C01B33/06	金属けい化物（合金Ｃ２２）
C01B33/08	ハロゲンを含む化合物
C01B33/10	けい素，ふっ素および他の元素を含有する化合物
C01B33/103	｛フルオロけい酸；その塩｝
C01B33/107	ハロゲン化シラン
C01B33/10705	｛四ふっ化物｝
C01B33/1071	｛四塩化物，トリクロロシランまたはシリコクロロホルム，ジクロロシラン，モノクロロシランまたはその混合物｝
C01B33/10715	｛塩素とけい素またはけい素含有化合物との反応により製造されるもの｝
C01B33/10721	｛四塩化物の優先的生成とともに｝
C01B33/10726	｛けい素から｝
C01B33/10731	｛トリクロロシランの優先的生成とともに｝
C01B33/10736	｛けい素から｝
C01B33/10742	｛けい素またはけい素含有材料の塩化水素化により製造されるもの｝
C01B33/10747	｛四塩化物の優先的生成とともに｝
C01B33/10752	｛けい素から｝
C01B33/10757	｛トリクロロシランの優先的生成とともに｝
C01B33/10763	｛けい素から｝
C01B33/10768	｛四臭化物；四よう化物｝
C01B33/10773	｛ハロゲン化シランの不均化および分子内転移により得られたハロゲンカシラン｝
C01B33/10778	｛精製｝
C01B33/10784	｛吸着によるもの｝
C01B33/10789	｛その場で，例．部分熱分解により，生成される吸着物質｝
C01B33/10794	｛付加化合物または錯体の生成によるもの，反応剤は吸着剤に含有される｝
C01B33/113	酸化けい素；その水和物　｛けい素原料の還元によりモノオキシドを製造するもの（Ｃ０１Ｂ３３／１８２）｝
C01B33/12	シリカ；その水和物，例．うろこ状けい酸
C01B33/122	｛うろこ状けい酸｝
C01B33/124	｛けい素原料の酸処理による，ゲル状でも微粉状でもない，すなわち骨格状けい素，吸着性多孔性シリカの製造｝
C01B33/126	｛未定タイプのシリカの製造｝
C01B33/128	｛けい酸塩水溶液の酸処理によるもの｝
C01B33/14	コロイド状シリカ，例．ディスパージョン，ゲル，ゾル
C01B33/141	ヒドロゾルまたは水性ディスパージョンの製造
C01B33/1412	｛塩基性媒体中でのけい素の酸化によるもの｝
C01B33/1415	｛微粉末シリカを水に懸濁させることによるもの｝
C01B33/1417	｛得られた水性デイスパージョン｝
C01B33/142	けい酸塩の酸処理によるもの
C01B33/143	けい酸塩の水溶液の
C01B33/1435	｛イオン交換体を使用するもの｝
C01B33/145	ヒドロオルガノゾル，オルガノゾルまたは有機媒体中のディスパージョンの製造
C01B33/146	ゾルの後処理　（｛ヒドロオルガノゾル，オルガノゾルまたは有機媒体中のデイスパージョンからのヒドロゾルまたは水性デイスパージョンの製造Ｃ０１Ｂ３３／１４１｝；ヒドロゾルからのヒドロオルガノゾル，オルガノゾルまたは有機媒体中のディスパージョンの製造　｛または水性デイスパージョン｝（Ｃ０１Ｂ３３／１４５）
C01B33/1465	｛ただひとつのゾルを用いた粒子の形成およびゾルからなるまたはゾルからのものでないかかと状のもの｝
C01B33/148	濃縮；乾燥；脱水；安定化；精製　｛（Ｃ０１Ｂ３３／１４６５　が優先）｝
C01B33/1485	｛安定化，例．ゲル化防止；精製｝
C01B33/149	被覆
C01B33/151	あるゾルを別のゾルに漸進的に添加すること，すなわちヒール（ｈｅｅｌ）を用いる粒子の形成によるもの
C01B33/152	ヒドロゲルの製造
C01B33/1525	｛フルオロけい酸またはその塩からのまたは経由するもの｝
C01B33/154	けい酸塩水溶液の酸処理によるもの
C01B33/1543	｛イオン交換樹脂を用いるもの｝
C01B33/1546	｛水と混ざらないまたは部分的にしか混ざらない有機媒体に注入することによりヒドロゲルに変化させられる最初に形成されたヒドロゾル｝
C01B33/155	ヒドロオルガノゲルまたはオルガノゲルの製造
C01B33/157	ゲルの後処理
C01B33/158	精製；乾燥；脱水
C01B33/1585	｛エアロゲルの脱水｝
C01B33/159	被覆または疎水化
C01B33/16	シリカキセロゲルの製造
C01B33/163	｛有機けい素化合物，例．オルトけい酸エチル，の加水分解によるもの｝
C01B33/166	｛不活性有機相の存在下でケイ酸塩を酸性化することによるもの｝
C01B33/18	ゾル状でもゲル状でもない微粉状のシリカの製造；その後処理（ゲルの脱水によるエアロゲルの製造Ｃ０１Ｂ３３／１５８；顔料性または充てん剤の性質を改良するための処理Ｃ０９Ｃ）
C01B33/181	｛乾燥処理によるもの｝
C01B33/182	｛けい素原料を，例．炭素系還元剤により還元し，ついで生成した一酸化けい素を酸化することによるもの｝
C01B33/183	｛けい素化合物，例．ハロゲン化物，トリクロロシラン，モノシラン，の蒸気中での酸化または熱分解によるもの｝
C01B33/184	｛四ふっ化物の加水分解によるもの｝
C01B33/185	｛分子ふるい特性を持つ結晶性シリカ多形体，例．シリカライト｝
C01B33/186	｛湿式法によるフルオロけい酸またはその塩からのまたは経由して｝
C01B33/187	けい酸塩の酸処理によるもの
C01B33/193	けい酸塩の水溶液の
C01B33/20	けい酸塩（過けい酸塩Ｃ０１Ｂ１５／１４；　｛アルミニウムを含むものＣ０１Ｂ３３／２６｝）
C01B33/22	けい酸マグネシウム
C01B33/24	アルカリ土類金属けい酸塩
C01B33/26	アルミニウム含有けい酸塩，　｛すなわち，けい素アルミン酸塩｝
C01B33/28	｛ＩＰＣ４｝塩基交換けい酸塩，例．ゼオライト（再生Ｂ０１Ｊ４９／００）
C01B33/2807	｛分子ふるい特性を持つ三次元結晶構造のゼオライト系けい素アルミン酸塩；けい素含有アルミニウム鉱石の一部が，ガリウム，ゲルマニウム，りんなどの他の元素で置換された同形置換化合物；他のタイプの分子ふるいからまたは予備生成された反応混合物からのゼオライト系分子ふるいの製造（使用されない，サブグループを参照）｝．．．．<br><br><u>｛注</u><br><br>．．Ｃ０１Ｂ３３／Ｃ０１Ｂ２８Ｂ２ないしＣ０１Ｂ３３／Ｃ０１Ｂ２８Ｂ８の一以上のサブグループに属する文献は組み合わせにより記述される，例．Ｃ０１Ｂ３３／Ｃ０１Ｂ２８Ｂ２Ｂ＋Ｂ４Ｂ。特定の分子ふるい構造に関係する文献は関連するサブグループに分類される｝
C01B33/2815	｛タイプＡ（ユニオンカーバイドの商品名；ＧＲＡＣＥのＺ−１２型またはＺ−１２Ｌ型）｝
C01B33/2823	｛他のアルミナまたはシリカの原料を除く，アルカリ金属アルミン酸塩とアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液から　｝
C01B33/283	｛クレイタイプ，例．カオリンまたはメタカオリンまたはその熱変性物またはアロフェン，の，少なくとも一種のアルミニウムけい酸塩またはアルミノシリケートを含む反応混合物から（酸により，実質的に化学的に変性された単一の粘土を含有するもの，すなわち活性状態を越えたものＣ０１Ｂ３３／２８１５）｝
C01B33/2838	｛フォージャサイト型の，またはＸ型またはＹ型（ユニオンカーバイドの商品名；それぞれＧＲＡＣＥのＺ−１４型およびＺ−１４ＨＳ型に対応するもの）｝
C01B33/2846	｛Ｘ型の｝
C01B33/2853	｛Ｙ型の｝
C01B33/2861	｛モルデナイト型の，例．プチロライトまたはダチアルダイト｝
C01B33/2869	｛Ｘ線スペクトルおよび明確な組成に特徴がある他の型の｝
C01B33/2876	｛アミンまたは有機陽イオン，例．四級オニウム陽イオン　アンモニウム，フォスフォニウム，スチボニウム，を含有する反応混合物から｝
C01B33/2884	｛部分的に置換されたネットワーク中のアルミニウムまたはけい素｝
C01B33/2892	｛ネットワークの細孔で塞がれた元素または化合物を含有するもの，例．反応開始混合物中にすでに酸化物が存在するもの｝
C01B33/32	アルカリ金属けい酸塩　（｛Ｃ０１Ｂ３３／２０Ｂ(ＥＣＬＡ)｝，Ｃ０１Ｂ３３／２６が優先）｝
C01B33/325	｛後処理，例．精製または溶液の安定化，粒状化；溶解；固体けい酸塩の取得，例．噴霧乾燥，水のフラッシュ除去または凝集剤の添加による溶液からの｝．．．<br><br><u>｛注</u><br><br>．このグループにおいて，シード添加の下または無しで，加熱または冷却により，溶液または水和物融液からの固体けい酸塩，例．結晶けい酸塩の水和物として，を取得することは後処理とはみなされない，しかしグループＣ０１Ｂ３３／３２に分類される｝
C01B33/36	塩基交換特性を有するが分子ふるい特性を有しないもの（その再生Ｂ０１Ｊ４９／００）
C01B33/38	層をなした塩基交換けい酸塩，例．粘土，雲母，またはケニアイト型もしくはマガダイト型のアルカリ金属けい酸塩　｛（天然の粘土の賦活Ｂ０１Ｊ２０／１２；柱状層状塩基交換けい酸塩Ｂ０１Ｊ２９／０２(ＥＣＬＡ)）｝
C01B33/40	粘土
C01B33/405	｛アルミニウムを含まないもの｝
C01B33/42	雲母　｛層間粘土・雲母生成物（陽イオン交換を含むプロセスにより得られた，雲母またはバーミキュライト小薄板Ｃ０４Ｂ１４／２０８）｝
C01B33/425	｛アルミニウムを含まない｝
C01B33/44	アンモニウム，ホスホニウムまたはスルホニウム化合物のような有機化合物とのイオン交換により，または有機化合物の挿入により層をなした塩基交換けい酸塩から得られる生産物，例．有機粘土物質
C01B33/46	無定型けい酸塩，例．いわゆるアモルファスゼオライト（結晶性ゼオライトＣ０１Ｂ３９／００）
C01B35/00	ほう素；その化合物（モノボラン，ジボラン，金属ほう水素化物またはその付加錯化合物Ｃ０１Ｂ６／００；過ほう酸塩Ｃ０１Ｂ１５／１２；窒素との二元化合物Ｃ０１Ｂ２１／０６；｛希ガスの化合物Ｃ０１Ｂ２３／０００５｝；りん化物Ｃ０１Ｂ２５／０８；炭化物Ｃ０１Ｂ３１／３６；ほう素を含む合金Ｃ２２）<br><br><u>｛注</u><br><br>このグループにおいては，＋ＩＤＴという表現は以下の内容を意味する:　−ここに分類される文献は，ほう素またはその化合物に関するＩＤＴグループに分類されていた。　−それらは，管理上，前述のＩＤＴグループからこのグループに再分類された。｝
C01B35/02	ほう素；ほう化物
C01B35/023	｛ほう素｝
C01B35/026	｛高級ほう素ヒドリド，すなわち，少なくとも三個以上のほう素原子を含有するもの｝
C01B35/04	金属のほう化物
C01B35/06	ほう素とハロゲンとの化合物
C01B35/061	｛ハロゲン化物｝
C01B35/063	｛四ふっ化ほう酸；その塩｝
C01B35/065	｛四ふっ化ほう酸｝
C01B35/066	｛アルカリ金属四ふっ化ほう酸塩｝
C01B35/068	｛ハロゲン化水素化物｝
C01B35/08	ほう素および窒素，りん，酸素，いおう，セレンまたはテルルを含む化合物
C01B35/10	ほう素および酸素を含む化合物（Ｃ０１Ｂ３５／０６が優先）
C01B35/1009	｛分子ふるい特性を持つもの｝
C01B35/1018	｛ほう素ヒドリドから誘導されたカルボニル化合物｝
C01B35/1027	｛酸化物｝
C01B35/1036	｛無水ほう酸｝
C01B35/1045	｛オキシ酸｝
C01B35/1054	｛正ほう酸｝
C01B35/1063	｛酸または塩を用いた，ほう素鉱石またはほう酸塩からの製造｝
C01B35/1072	｛アンモニア・二酸化炭素によるもの｝
C01B35/1081	｛他の天然物，例．海水，の処理による製造｝
C01B35/109	｛精製；分離，濃縮｝
C01B35/12	ほう酸塩　｛（Ｃ０１Ｂ３５／１０６３　が優先）｝
C01B35/121	｛アルカリ金属の｝
C01B35/122	｛四ほう酸ナトりウム；その水和物，例．ホウ砂｝
C01B35/123	｛ほう素鉱石または他のほう酸塩からの製造｝
C01B35/124	｛天然の塩水，例．海水，の処理による製造｝
C01B35/125	｛精製；濃縮；脱水；安定化；他の後処理｝
C01B35/126	｛アルカリ土類金属，ベリリウム，アルミニウムまたはマグネシウムの｝
C01B35/127	｛重金属の｝
C01B35/128	｛複数の金属または金属とアンモニウムを含有するもの｝
C01B35/14	ほう素および窒素，りん，いおう，セレンまたはテルルを含む化合物
C01B35/143	｛りん酸塩｝
C01B35/146	｛ほう素と窒素を含有する化合物，例．ボラゾール（四ふっ化ほう酸アンモニウムＣ０１Ｂ３５／０６３；ほう酸アンモニウムＣ０１Ｂ３５／１２）｝
C01B37/00	分子ふるい特性を有するが塩基交換特性を有しない化合物<br><br><u>｛注</u><br><br>メイングループＣ０１Ｂ３７／００に分類される化合物は，その組成にしたがってクラスＣ０１の他のグループにも分類される｝
C01B37/002	｛アルミニウムを含有しないメタロりん酸塩，例．ガロりん酸塩またはシリコガロりん酸塩｝
C01B37/005	｛けい酸塩，すなわち，いわゆるメタロけい酸塩またはメタロゼオけい酸塩｝
C01B37/007	｛ほうけい酸塩｝
C01B37/02	結晶性シリカ多形体，例．シリカライト　｛脱アルミ化アルミノけい酸塩ゼオライト｝
C01B37/04	アルミノりん酸塩（ＡＰＯ化合物）
C01B37/06	他の元素，例．金属，ほう素，を含むアルミノりん酸塩
C01B37/065	｛他の元素が金属のみのもの｝
C01B37/08	シリコアルミノりん酸塩（ＳＡＰＯ化合物）　｛例．ＣｏＳＡＰＯ｝
C01B39/00	分子ふるい特性と塩基交換特性を有する化合物，例．結晶性ゼオライト；その製造；後処理，例．イオン交換または脱アルミニウム（収着特性を変えるための処理，例．バインダーを用いる成形，Ｂ０１Ｊ２０／１０；触媒特性を変えるための処理，例．ゼオライトを触媒として使えるようにするための処理の組合せＢ０１Ｊ２９／０４；イオン交換特性を改良するための処理Ｂ０１Ｊ３９／１４；イオン交換特性の再生または再活性化Ｂ０１Ｊ４９／００:洗剤に用いられる安定した懸濁液の製造Ｃ１１Ｄ３／１２）<br><br><u>注</u><br><br>このグループにおいては，下記の用語は以下に示す意味で用いる:　−ゼオライトは以下のものを意味する:（ｉ）塩基交換特性と分子ふるい特性を有する結晶性アルミノけい酸塩で，四面体酸化物単位の三次元の微小孔の格子骨格構造を有するもの；（ｉｉ）上記の類型と同形の化合物であって，その骨格の中のアルミニウムあるいはけい素原子が，部分的または全部，他の元素の原子，例．ガリウム，ゲルマニウム，りんまたはほう素，により置換されるもの。<br><br><u>｛注</u><br><br>メイングループＣ０１Ｂ３９／００に分類される化合物は，その組成にしたがってクラスＣ０１の他のグループにも分類される。｝
C01B39/02	結晶性アルミノけい酸塩ゼオライト；その同形置換化合物；その直接製造；もう一つの型の結晶性ゼオライトを含む反応混合物から，または前もって形成された反応物質からの製造；その後処理
C01B39/023	｛グループＣ０１Ｂ３９／０４またはＣ０１Ｂ３９／１４ないしＣ０１Ｂ３９／４８の二またはそれ以上のグループから選ばれたゼオライトの物理的混合物または交互成長生成物の製造｝
C01B39/026	｛後処理｝
C01B39/04	すくなくとも一つの有機鋳型指向剤，例．イオン性第４級アンモニウム化合物またはアミノ化化合物，を用いるもの
C01B39/06	格子骨格のアルミニウムまたはけい素原子を他の元素で置換する手段に特徴がある同形置換ゼオライトの製造，　｛すなわち，直接または二次合成｝
C01B39/065	｛ガロアルミノけい酸塩；ＩＶＢ族メタロアルミノけい酸塩；フェロアルミノけい酸塩｝
C01B39/08	アルミニウム原子の全部置換
C01B39/082	｛ガロけい酸塩｝
C01B39/085	｛ＩＶＢ族メタロけい酸塩｝
C01B39/087	｛フェロけい酸塩｝
C01B39/10	置換原子が　｛すくなくとも｝りん原子
C01B39/12	置換原子が　｛すくなくとも｝ほう素原子
C01B39/14	特許文献ＵＡ２８８２２４３およびＧＢ１０３５６４４で例示されたようなＡ型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６　が優先）｝　
C01B39/145	｛少なくともひとつの有機鋳型指向剤を用いるもの｝
C01B39/16	種子以外のアルミナまたはシリカ源を除くアルカリ金属アルミン酸塩およびアルカリ金属けい酸塩の水溶液からのもの　｛（Ｃ０１Ｂ３９／１４５が優先）｝
C01B39/18	粘土型のアルミニウムけい酸塩，またはアルミノけい酸塩を少なくとも一つ含有する反応混合物からのもの，例．カオリン，メタカオリン，その発熱変成体，またはアロフエン　｛（Ｃ０１Ｂ３９／１４５が優先）｝
C01B39/20	フォージャサイト型，例．特許文献ＵＳ２８８２２４４よびＵＳ３１３０００７でそれぞれ例示されたようなＸ型またはＹ型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６が優先）｝　
C01B39/205	｛少なくともひとつの有機鋳型指向剤を用いるもの；六方晶系フォージャサイト；立方体系および六方晶系フォージャサイトの交互成長生成物｝
C01B39/22	Ｘ型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／２０５　が優先）｝
C01B39/24	Ｙ型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／２０５　が優先）｝　
C01B39/26	モルデナイト型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６　が優先）｝　
C01B39/265	｛少なくともひとつの有機鋳型指向剤を用いるもの｝
C01B39/28	フィリップサイトまたは重十字沸石（ハーモトーム）型，例．特許文献ＵＳ３００８８０３で例示されたようなＢ型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６　が優先）｝　
C01B39/30	エリオナイトまたはオフレタイト型，例．特許文献ＵＳ２９５０９５２で例示されたようなゼオライトＴ　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６　が優先）｝　
C01B39/305	｛少なくともひとつの有機鋳型指向剤を用いるもの｝
C01B39/32	特許文献ＵＳ３２１６７８９で例示されたようなＬ型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６　が優先）｝　
C01B39/34	｛マザイト型，例｝特許文献ＧＢ１１１７５６８で例示されたようなＺＳＭ−４型またはオメガ型，例．特許文献ＧＢ１１７８１８６で例示されたような　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６　が優先）｝　
C01B39/36	ペンタシル型，例．特許文献ＵＳ３７０２８８６，ＧＢ１３３４２４３およびＵＳ３７０９９７９に，それぞれ例示されたような，ＺＳＭ−５，ＺＳＭ−８またはＺＳＭ−１１型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６　が優先）｝　
C01B39/365	｛ＺＳＭ−８型；ＺＳＭ−１１型；ＺＳＭ−５／１１中間体｝
C01B39/38	ＺＳＭ−５型
C01B39/40	すくなくとも一つの有機鋳型指向剤を用いるもの
C01B39/42	特許文献ＵＳ３８３２４４９に例示されたようなＺＳＭ−１２型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６　が優先）｝　
C01B39/44	フェリエライト型，例．特許文献ＵＳ４０４６８５９，ＵＳ４０１６２４５およびＵＳ４０４６８５９で，それぞれ例示されたようなＺＳＭ−２１，ＺＳＭ−３５またはＺＳＭ−３８型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６　が優先）｝　
C01B39/445	｛少なくともひとつの有機鋳型指向剤を用いるもの｝
C01B39/46	Ｘ線回折図形および組成の規定に特徴のある他の型　｛（Ｃ０１Ｂ３９／０２３，　Ｃ０１Ｂ３９／０２６，　Ｃ０１Ｂ３９／０６　が優先）｝　
C01B39/48	すくなくとも一つの有機鋳型指向剤を用いるもの
C01B39/50	無機塩基または塩が格子骨格のチャネルを閉じるゼオライト，例．方ソーダ石（ソーダライト），カンクリナイト，ゆう方石（ノゼアン），藍方石（オウイナイト）　｛（ウルトラマリンＣ０９Ｃ１／３２）｝
C01B39/52	方ソーダ石（ソーダライト）
C01B39/54	りん酸塩，例．ＡＰＯまたはＳＡＰＯ化合物．<br><br><u>｛注</u><br><br>ＭＡＰＯの，ＳＡＰＯのまたはＢＡＰＯの，のように不十分に限定されたかまたは弱い塩基交換能力を持ったりん酸塩はＣ０１Ｂ３７／００に分類される｝
C01B2201/00	放電によるオゾンの製造
C01B2201/10	オゾンの製造に用いられる放電器
C01B2201/12	プレート式放電器
C01B2201/14	同心状／管状放電器
C01B2201/20	放電を得るために用いられる電極
C01B2201/22	電極の構造上の細部
C01B2201/24	電極の組成
C01B2201/30	放電器で用いられる誘電体
C01B2201/32	誘電体の構造上の細部
C01B2201/34	誘電体の組成
C01B2201/40	連続した複数の放電器を用いるもの
C01B2201/50	再生される生成物の一部
C01B2201/60	放電器のための供給流
C01B2201/62	空気
C01B2201/64	酸素
C01B2201/66	供給物の予備処理
C01B2201/70	放電器の冷却；《要に冷却させるための手段
C01B2201/72	空気によるもの
C01B2201/74	液体によるもの
C01B2201/76	水
C01B2201/80	放電と平行して生じる追加プロセス，例．接触的プロセス
C01B2201/82	紫外線による処理
C01B2201/84	磁場による処理
C01B2201/90	プロセス制御
C01B2202/00	
C01B2202/02	
C01B2202/04	
C01B2202/06	
C01B2202/08	
C01B2202/10	
C01B2202/20	
C01B2202/22	
C01B2202/24	
C01B2202/26	
C01B2202/28	
C01B2202/30	
C01B2202/32	
C01B2202/34	
C01B2202/36	
C01B2203/00	水素または合成ガスの生産のための統合プロセス　（反応器またはその細部構造　Ｂ０１Ｊ２２０８／００から　Ｂ０１Ｊ２２１９／００）
C01B2203/02	水素または合成ガス製造のためのプロセス
C01B2203/0205	リフォーミング工程を含むもの
C01B2203/0211	非接触リフォーミング工程を含むもの
C01B2203/0216	非接触スチームリフォーミング工程を含むもの
C01B2203/0222	非接触二酸化炭素リフォーミング工程を含むもの
C01B2203/0227	接触リフォーミング工程を含むもの
C01B2203/0233	リフォーミング工程がスチームリフォーミング工程であるもの
C01B2203/0238	リフォーミング工程が二酸化炭素リフォーミング工程であるもの
C01B2203/0244	リフォーミング工程が自己熱リフォーミング工程であるもの，例．二次的リフォーミングプロセス
C01B2203/025	部分酸化工程を含むもの
C01B2203/0255	非接触部分酸化工程を含むもの
C01B2203/0261	接触部分酸化工程　（ＣＰＯ）を含むもの
C01B2203/0266	分解工程を含むもの
C01B2203/0272	非接触分解工程を含むもの
C01B2203/0277	接触分解工程を含むもの
C01B2203/0283	一酸化炭素シフト工程を含むもの，すなわち，水性ガスシフト工程
C01B2203/0288	２つの一酸化炭素シフト工程を含むもの
C01B2203/0294	３以上の一酸化炭素シフト工程を含むもの
C01B2203/04	水素または合成ガスの精製工程を含むもの
C01B2203/0405	膜分離による精製
C01B2203/041	水素製造中のその場での膜精製
C01B2203/0415	液体での吸収による精製
C01B2203/042	固体での吸着による精製
C01B2203/0425	水素製造中のその場での吸着プロセス
C01B2203/043	２以上の床での再生吸着プロセスで，うち１つは吸着用，その他は再生用のもの
C01B2203/0435	接触精製
C01B2203/044	一酸化炭素の選択的酸化
C01B2203/0445	選択的メタン化
C01B2203/045	接触脱硫による精製
C01B2203/0455	非接触脱硫による精製
C01B2203/046	低温分離による精製
C01B2203/0465	不純物の組成
C01B2203/047	不純物が一酸化炭素であるもの
C01B2203/0475	不純物が二酸化炭素であるもの
C01B2203/048	不純物が有機化合物であるもの
C01B2203/0485	不純物が硫黄化合物であるもの
C01B2203/049	不純物が炭素であるもの
C01B2203/0495	不純物が水であるもの
C01B2203/06	他の化学プロセスとの統合
C01B2203/061	メタノール製造
C01B2203/062	炭化水素製造，例．フィッシャー−トロプシュ法
C01B2203/063	精油プロセス
C01B2203/065	水素処理を用いるもの，例．水素添加，水素化脱硫
C01B2203/066	燃料電池によるもの
C01B2203/067	
C01B2203/068	アンモニア合成
C01B2203/08	プロセスの加熱または冷却方法
C01B2203/0805	加熱方法
C01B2203/0811	燃料の燃焼によるもの
C01B2203/0816	炎による加熱
C01B2203/0822	
C01B2203/0827	
C01B2203/0833	熱流体，燃焼ガス以外の，生成ガスまたは非燃焼発熱反応生成ガスによる間接熱交換により加熱するもの
C01B2203/0838	燃料の燃焼以外の発熱反応による熱交換によるもの
C01B2203/0844	非燃焼性発熱反応が，グループＣ０１Ｂ２２０３／０２からＭ０１Ｂ２０３／０８Ｈ４(ＥＣＬＡ)に特定されるような他のリフォーミング反応であるもの
C01B2203/085	電気加熱によるもの
C01B2203/0855	電磁加熱によるもの
C01B2203/0861	プラズマによるもの
C01B2203/0866	異なる加熱方法の組み合わせによるもの
C01B2203/0872	冷却方法
C01B2203/0877	流体の直接注入によるもの
C01B2203/0883	間接熱交換によるもの
C01B2203/0888	流体の蒸発によるもの
C01B2203/0894	蒸気の発生
C01B2203/10	水素生成反応を行うための触媒
C01B2203/1005	触媒の配置または形状
C01B2203/1011	触媒構造の充填床，例．粒子，充填要素
C01B2203/1017	構造の形態に特徴があるもの
C01B2203/1023	モノリスまたはハニカム形状の触媒
C01B2203/1029	発泡体状の触媒
C01B2203/1035	装置表面，例．反応器壁，に塗布された触媒
C01B2203/1041	触媒の組成
C01B2203/1047	第ＶＩＩＩ族金属触媒
C01B2203/1052	ニッケルまたはコバルト触媒
C01B2203/1058	ニッケル触媒
C01B2203/1064	白金族金属触媒
C01B2203/107	白金触媒
C01B2203/1076	銅または亜鉛ベースの触媒
C01B2203/1082	担体材料の組成
C01B2203/1088	非担持触媒
C01B2203/1094	促進剤または活性化剤
C01B2203/12	プロセスへの供給
C01B2203/1205	供給物の組成
C01B2203/1211	水素または合成ガス製造用のプロセスで用いられる有機化合物または有機混合物
C01B2203/1217	アルコール
C01B2203/1223	メタノール
C01B2203/1229	エタノール
C01B2203/1235	炭化水素
C01B2203/1241	天然ガスまたはメタン
C01B2203/1247	高級炭化水素
C01B2203/1252	環式炭化水素または芳香族炭化水素
C01B2203/1258	供給物の予備処理
C01B2203/1264	供給物の接触予備処理
C01B2203/127	接触脱硫
C01B2203/1276	異なる供給成分の混合
C01B2203/1282	スタティックミキサーを用いるもの
C01B2203/1288	１以上の異なる供給成分の蒸発
C01B2203/1294	高温プロセス流を伴う熱交換による蒸発
C01B2203/14	工程図の詳細
C01B2203/141	少なくとも２つのリフォーミング，分解または部分酸化工程が平行するもの
C01B2203/142	少なくとも２つのリフォーミング，分解または部分酸化工程が連続するもの
C01B2203/143	３以上のリフォーミング，分解または部分酸化工程が連続するもの
C01B2203/145	少なくとも２つの精製工程が平行するもの
C01B2203/146	少なくとも２つの精製工程が連続するもの
C01B2203/147	３以上の精製工程が連続するもの
C01B2203/148	再循環流を含むもの
C01B2203/16	プロセス制御
C01B2203/1604	プロセスの始動
C01B2203/1609	プロセスの停止
C01B2203/1614	温度制御
C01B2203/1619	温度測定
C01B2203/1623	温度調節
C01B2203/1628	圧力制御
C01B2203/1633	圧力測定
C01B2203/1638	圧力調節
C01B2203/1642	製品管理
C01B2203/1647	生産量の制御
C01B2203/1652	生産量の測定
C01B2203/1657	生成物が水素であるもの
C01B2203/1661	生成物が一酸化炭素であるもの
C01B2203/1666	生成物が二酸化炭素であるもの
C01B2203/1671	生成物の組成の管理
C01B2203/1676	生成物の組成の測定
C01B2203/168	生成物の組成の調節　
C01B2203/1685	下流プロセスの要求に基づいた制御
C01B2203/169	供給物の制御
C01B2203/1695	燃焼供給物の制御
C01B2203/80	グループ　Ｃ０１Ｂ２２０３／０２からＣ０１Ｂ２２０３／１６に包含されない水素または合成ガスの製造用の統合プロセスの側面
C01B2203/82	Ｃ０１Ｂ２２０３／０２からＣ０１Ｂ２２０３／０８のいくつかのプロセス工程をひとつの装置に統合したもの
C01B2203/84	
C01B2203/86	
C01B2204/00	
C01B2204/02	
C01B2204/04	
C01B2204/06	
C01B2204/065	
C01B2204/20	
C01B2204/22	
C01B2204/24	
C01B2204/26	
C01B2204/28	
C01B2204/30	
C01B2204/32	
C01B2210/00	特定ガスの精製または分離
C01B2210/0001	分離または精製処理
C01B2210/0003	化学的処理
C01B2210/0004	酸化によるもの
C01B2210/0006	還元によるもの
C01B2210/0007	錯体生成によるもの
C01B2210/0009	物理的処理
C01B2210/001	膜の使用によるもの
C01B2210/0012	膜により特徴付けられるもの
C01B2210/0014	固体中の吸着によるもの
C01B2210/0015	吸着剤により特徴付けられるもの
C01B2210/0017	炭素ベース材料
C01B2210/0018	ゼオライト
C01B2210/002	他の分子ふるい材料
C01B2210/0021	温度スイング吸着
C01B2210/0023	ゲッタで
C01B2210/0025	液体中の吸収によるもの
C01B2210/0026	特定ガスの同位体
C01B2210/0028	微量の特定のガスを含むガス混合物からの該特定ガスの分離
C01B2210/0029	希ガスを得るもの
C01B2210/0031	ヘリウム
C01B2210/0032	ネオン
C01B2210/0034	アルゴン
C01B2210/0035	クリプトン
C01B2210/0037	キセノン
C01B2210/0039	ラドン
C01B2210/004	希ガスの混合物の分離
C01B2210/0042	超高純度特定ガスの製造
C01B2210/0043	除去される不純物　
C01B2210/0045	酸素
C01B2210/0046	窒素
C01B2210/0048	空気
C01B2210/005	一酸化炭素
C01B2210/0051	二酸化炭素
C01B2210/0053	水素
C01B2210/0054	ハロゲン化水素
C01B2210/0056	ふっ化水素
C01B2210/0057	塩化水素
C01B2210/0059	臭化水素
C01B2210/006	よう化水素
C01B2210/0062	水
C01B2210/0064	硫化水素
C01B2210/0065	アンモニア
C01B2210/0067	シアン化水素
C01B2210/0068	有機化合物
C01B2210/007	炭化水素
C01B2210/0071	硫黄酸化物
C01B2210/0073	ハロゲン化硫黄
C01B2210/0075	窒素酸化物
C01B2210/0076	ハロゲン化窒素
C01B2210/0078	希ガス
C01B2210/0079	ヘリウム
C01B2210/0081	ネオン
C01B2210/0082	アルゴン
C01B2210/0084	クリプトン
C01B2210/0085	キセノン
C01B2210/0087	ラドン
C01B2210/0089	過酸化物
C01B2210/009	過酸化水素
C01B2210/0092	オゾン
C01B2210/0093	
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