C25D1/00	電鋳
C25D1/003	｛３Ｄ構造，例．積層パターン層｝
C25D1/006	｛ナノ構造，例．アルミニウム陽極酸化テンプレート［ＡＡＯ］を用いるもの｝
C25D1/02	管状体；輪状体；中空体
C25D1/04	線状体；ストリップ；箔
C25D1/06	全表面金属鏡
C25D1/08	多孔物品または有孔物品，例．ふるい（Ｃ２５Ｄ１／１０が優先）
C25D1/10	母型；マスク；マスターフォーム
C25D1/12	電気泳動によるもの
C25D1/14	無機材料
C25D1/16	金属
C25D1/18	有機材料
C25D1/20	電極からの成形物の分離｛であって電極の破壊をともなわないもの｝
C25D1/22	剥離剤
C25D3/00	電気鍍金；そのための鍍金浴
C25D3/02	溶液から（Ｃ２５Ｄ５／３４〜Ｃ２５Ｄ５／４６が優先）
C25D3/04	クロム
C25D3/06	三価クロムの溶液から
C25D3/08	黒色クロムの析出
C25D3/10	使用する有機浴成分に特徴のあるもの
C25D3/12	ニッケルまたはコバルト
C25D3/14	アセチレン化合物または複素環式化合物を含有する浴から
C25D3/16	アセチレン化合物
C25D3/18	複素環式化合物
C25D3/20	鉄
C25D3/22	亜鉛
C25D3/24	シアン化物浴から
C25D3/26	カドミウム
C25D3/28	シアン化物浴から
C25D3/30	錫
C25D3/32	使用する有機浴成分に特徴のあるもの
C25D3/34	鉛
C25D3/36	使用する有機浴成分に特徴のあるもの
C25D3/38	銅
C25D3/40	シアン化物浴から，｛例．Ｃｕ＋との｝
C25D3/42	軽金属
C25D3/44	アルミニウム
C25D3/46	銀
C25D3/48	金
C25D3/50	白金族金属
C25D3/52	使用する有機浴成分に特徴のあるもの
C25D3/54	グループＣ２５Ｄ３／０４〜Ｃ２５Ｄ３／５０に分類されない金属
C25D3/56	合金
C25D3/562	｛鉄，ニッケルまたはコバルトを５０重量％より多く含有するもの｝
C25D3/565	｛亜鉛を５０重量％より多く含有するもの｝
C25D3/567	｛白金族金属を５０重量％より多く含有するもの｝
C25D3/58	銅を５０重量％より多く含有するもの
C25D3/60	錫を５０重量％より多く含有するもの
C25D3/62	金を５０重量％より多く含有するもの
C25D3/64	銀を５０重量％より多く含有するもの
C25D3/66	溶融物から
C25D3/665	｛イオン性液体からのもの｝
C25D5/00	方法に特徴のある電気鍍金；加工品の前処理または後処理
C25D5/003	｛気体，例．圧力の影響，を用いる電気鍍金｝
C25D5/007	｛電界，例．磁石，を用いる電気鍍金｝
C25D5/009	｛強磁性材料の堆積｝
C25D5/011	｛電磁波の照射を用いる電気鍍金（局所的に適用される電磁照射を用いるものＣ２５Ｄ５／０２４）｝
C25D5/013	｛紫外［ＵＶ］，可視または赤外［ＩＲ］以外の波長，例．Ｘ線またはマイクロ波｝
C25D5/02	選択された表面部分の電気鍍金
C25D5/022	｛マスク手段を用いるもの｝
C25D5/024	｛局所的に適用される電磁照射を用いるもの，例．レーザ｝
C25D5/026	｛局所的に適用される電解液ジェットを用いるもの｝
C25D5/028	｛片面電気鍍金，例．背面の鍍金を避けながら基板が浴中を運搬されるもの｝
C25D5/04	電極の移動による電気鍍金
C25D5/06	ブラシまたはパッドによる鍍金
C25D5/08	電解液の移動による電気鍍金，例．ジェット噴射電気鍍金｛（局所的に適用される電解液ジェットを用いるものＣ２５Ｄ５／０２６）｝
C25D5/10	同種または異種の２層以上からなる金属の電気鍍金（軸受Ｃ２５Ｄ７／１０）
C25D5/12	少なくとも一層がニッケルまたはクロムよりなるもの
C25D5/14	ニッケルまたはクロムが２層以上のもの，例．二重層または三重層
C25D5/16	厚みの異なった層の電気鍍金
C25D5/18	変調電流，パルス電流または逆電流を使用する電気鍍金
C25D5/20	超音波を使用する電気鍍金
C25D5/22	析出の間に機械的処理と結合した電気鍍金
C25D5/34	電気鍍金される金属の表面の前処理
C25D5/36	鉄または鋼
C25D5/38	耐火金属またはニッケル
C25D5/40	ニッケル；クロム
C25D5/42	軽金属
C25D5/44	アルミニウム
C25D5/46	アクチニド
C25D5/48	電気鍍金表面の後処理
C25D5/50	熱処理
C25D5/505	｛電気鍍金した錫の被覆，例．溶融によるもの｝
C25D5/52	光沢仕上またはバニシング仕上
C25D5/54	非金属表面の電気鍍金（Ｃ２５Ｄ７／１２が優先）
C25D5/56	プラスチック
C25D5/60	｛層の構造または質に特徴のある電機鍍金｝
C25D5/605	｛層の表面形状，例．粗さ，樹状または結節層｝
C25D5/611	｛平滑層｝
C25D5/615	｛層のマイクロ構造，例．混合構造｝
C25D5/617	｛結晶層｝
C25D5/619	｛アモルファス層｝
C25D5/623	｛層の多孔性｝
C25D5/625	｛不連続層，例．微小亀裂層｝
C25D5/627	｛層の視覚上の外観，例．色，輝度または艶消しの外観，に特徴のある電気鍍金｝
C25D5/67	｛修理品への鍍金｝
C25D7/00	被覆される物品に特徴のある電気鍍金
C25D7/001	｛磁石｝
C25D7/003	｛ねじ巻きされた部品，例．ボルトまたはナット｝
C25D7/005	｛宝石；時計装飾；貨幣｝
C25D7/006	｛ナノ粒子｝
C25D7/008	｛熱障壁被覆｝
C25D7/02	ファスナー
C25D7/04	管状体；輪状体；中空体
C25D7/06	線状体；ストリップ；箔
C25D7/0607	｛線状体｝
C25D7/0614	｛ストリップまたは箔｝
C25D7/0621	｛水平槽中で｝
C25D7/0628	｛垂直槽中で｝
C25D7/0635	｛放射状槽中で｝
C25D7/0642	｛陽極｝
C25D7/065	｛隔膜｝
C25D7/0657	｛伝導ロール｝
C25D7/0664	｛隔離ロール｝
C25D7/0671	｛選択的鍍金｝
C25D7/0678	｛マスクを用いるもの｝
C25D7/0685	｛電解液の噴霧｝
C25D7/0692	｛被覆の厚みの調整｝
C25D7/08	鏡；反射鏡
C25D7/10	軸受
C25D7/12	半導体
C25D7/123	｛シード層または導電層に最初に被覆された半導体｝
C25D7/126	｛太陽電池用｝
C25D9/00	金属以外での電解被覆（Ｃ２５Ｄ１１／００，Ｃ２５Ｄ１５／００が優先；電気泳動被覆Ｃ２５Ｄ１３／００）
C25D9/02	有機材料
C25D9/04	無機材料
C25D9/06	陽極方法によるもの
C25D9/08	陰極方法によるもの
C25D9/10	鉄または鋼
C25D9/12	軽金属
C25D11/00	表面反応による電解被覆，すなわち転換層の形成
C25D11/005	｛電解変換被覆に特に適合した装置（電解被覆用の装置一般Ｃ２５Ｄ１７／００）｝
C25D11/02	陽極処理
C25D11/022	｛選択された表面領域上の陽極処理｝
C25D11/024	｛パルス化されたまたは変調された電流または電位下での陽極処理｝
C25D11/026	｛火花放電をともなう陽極処理｝
C25D11/028	｛ボロダイズ処理，すなわち電気化学的に形成されたほう化物｝
C25D11/04	アルミニウムまたはアルミニウムを基とする合金
C25D11/045	｛ＡＡＯテンプレートを形成するためのもの｝
C25D11/06	使用する電解液に特徴のあるもの
C25D11/08	無機酸を含有するもの
C25D11/10	有機酸を含有するもの
C25D11/12	２回以上の陽極処理，例．異った浴で処理するもの
C25D11/14	一体的に着色された層を作るもの
C25D11/16	前処理，｛例．スマット除去｝
C25D11/18	後処理，例．封孔処理
C25D11/20	電解的後処理
C25D11/22	層の着色
C25D11/24	化学的後処理
C25D11/243	｛有機染料を用いるもの｝
C25D11/246	｛シール層のためのもの｝
C25D11/26	耐火金属またはそれを基とする合金
C25D11/28	アクチニドまたはそれを基とする合金
C25D11/30	マグネシウムまたはそれを基とする合金
C25D11/32	半導体材料
C25D11/34	グループＣ２５Ｄ１１／０４〜Ｃ２５Ｄ１１／３２に分類されない金属または合金
C25D11/36	りん酸塩処理
C25D11/38	クロム酸塩処理
C25D13/00	工程に特徴のある電気泳動被覆（Ｃ２５Ｄ１５／００が優先；電気泳動被覆のための組成物Ｃ０９Ｄ５／４４）
C25D13/02	無機材料
C25D13/04	有機材料
C25D13/06	重合体｛（使われていない，Ｃ０９Ｄ５／４４を参照）｝
C25D13/08	単量体材料のその場での重合｛（使われていない，Ｃ０９Ｄ５／４４７６を参照）｝
C25D13/10	使用添加剤に特徴のあるもの｛（使われていない，Ｃ０９Ｄ５／４４８を参照）｝
C25D13/12	被覆される物品に特徴のあるもの
C25D13/14	管状体；輪状体；中空体
C25D13/16	線材；ストリップ；箔
C25D13/18	変調電流，パルス電流または逆電流を使用するもの
C25D13/20	前処理
C25D13/22	保守または操作｛装置または多段工程｝
C25D13/24	処理液の再生
C25D15/00	埋込み材料を含む被覆の電解または電気泳動製造，例．粒子，ウィスカー，線材
C25D15/02	電解および電気泳動方法の結合
C25D17/00	電解被覆用槽の構造部品またはその組立体
C25D17/001	｛ウェハ，例．半導体または太陽電池，の電解被覆に特に適合した装置｝
C25D17/002	｛セルの分離，例．膜，ダイヤフラム｝
C25D17/004	｛密封装置｝
C25D17/005	｛接触装置｝
C25D17/007	｛電流誘導装置｝
C25D17/008	｛電流遮蔽装置｝
C25D17/02	タンク；タンクの据付
C25D17/04	外部支持枠または構造物
C25D17/06	被覆物品の懸垂または支持装置
C25D17/08	｛支持する｝ラック，｛すなわち懸架用ではないもの｝
C25D17/10	電極，｛例．組成，対向電極｝
C25D17/12	形状または型（Ｃ２５Ｄ１７／１４が優先）
C25D17/14	パッド鍍金用
C25D17/16	ばらの小形物品の電解被覆用装置
C25D17/18	密閉容器を有するもの
C25D17/20	水平バレル
C25D17/22	開放容器を有するもの
C25D17/24	斜めバレル
C25D17/26	振動かご
C25D17/28	処理の間，装置中を個々に物品を移送する手段を備えたもの
C25D21/00	電解被覆用槽の保守または操作方法
C25D21/02	加熱または冷却
C25D21/04	ガスまたは蒸気の除去；｛ガスまたは圧力の制御｝
C25D21/06	｛イオン以外の粒子の｝ろ過｛（イオンのろ過Ｃ２５Ｄ２１／２２）｝
C25D21/08	水洗
C25D21/10	電解液の攪拌；ラックの揺動
C25D21/11	電解浴上の保護表層の使用
C25D21/12	プロセス制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）
C25D21/14	電解液成分の添加制御
C25D21/16	処理液の再生
C25D21/18	電解液（Ｃ２５Ｄ２１／２２が優先）
C25D21/20	洗浄溶液（Ｃ２５Ｄ２１／２２が優先）
C25D21/22	イオン交換による
