G03F   1/00		フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿，例．マスク，フォトマスク又はレチクル；そのためのマスクブランク又はペリクル；特にそれに適合した容器；その準備［３，２０１２．０１］<br><br><b><ul>注</ul></b><br>このメイングループでは，ファーストプレイス優先ルールが適用される，すなわち各階層レベルにおいて，相反する指示がない限り，最初の適切な箇所に分類する。［２０１２．０１］	Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g. masks, photo-masks or reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof; <br><br><b><u>Note(s)</u></b><br><br><ul><li>In this main group, the first place priority rule is applied, i.e. at each hierarchical level, in the absence of an indication to the contrary, classification is made in the first appropriate place.   </li></ul>	15331
G03F   1/20	・	荷電粒子線［ＣＰＢ］の放射，例．電子線，によって画像化するためのマスク又はマスクブランク；その準備［２０１２．０１］	Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof	1565
G03F   1/22	・	１００ｎｍ以下の波長の放射によって画像化するためのマスク又はマスクブランク，例．Ｘ線マスク，極端紫外［ＥＵＶ］マスク；その準備［２０１２．０１］	Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100 nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof	3308
G03F   1/24	・・	反射マスク；その準備［２０１２．０１］	Reflection masks; Preparation thereof	2155
G03F   1/26	・	位相シフトマスク［ＰＳＭ］；ＰＳＭブランク；その準備［２０１２．０１］	Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof	1620
G03F   1/28	・・	同一のＰＳＭ上に３種以上の位相；その準備［２０１２．０１］	with three or more diverse phases on the same PSM; Preparation thereof	196
G03F   1/29	・・	リムＰＳＭ又はアウトリガーＰＳＭ；その準備［２０１２．０１］	Rim PSM or outrigger PSM; Preparation thereof	569
G03F   1/30	・・	交互ＰＳＭ，例．渋谷・レベンソンＰＳＭ；その準備［２０１２．０１］	Alternating PSM, e.g. Levenson-Shibuya PSM; Preparation thereof	1077
G03F   1/32	・・	減衰ＰＳＭ［ａｔｔ−ＰＳＭ］，例．ハーフトーンＰＳＭ又は半透明な位相シフト部を有するＰＳＭ；その準備［２０１２．０１］	Attenuating PSM [att-PSM], e.g. halftone PSM or PSM having semi-transparent phase shift portion; Preparation thereof	2184
G03F   1/34	・・	フェーズ・エッジＰＳＭ，例．クロムレスＰＳＭ；その準備［２０１２．０１］	Phase-edge PSM, e.g. chromeless PSM; Preparation thereof	299
G03F   1/36	・	近接効果補正に特徴を有するマスク；その準備，例．光近接効果補正［ＯＰＣ］デザインプロセス［２０１２．０１］	Masks having proximity correction features; Preparation thereof, e.g. optical proximity correction [OPC] design processes	3665
G03F   1/38	・	補助的な特徴を有するマスク，例．特別なコーティング又はアライメント若しくは試験のためのマーク；その準備［２０１２．０１］	Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof	2246
G03F   1/40	・・	静電放電［ＥＳＤ］に関連する特徴，例．帯電防止コーティング又はマスク基板の周囲の導電性金属層［２０１２．０１］	Electrostatic discharge [ESD] related features, e.g. antistatic coatings or a conductive metal layer around the periphery of the mask substrate	570
G03F   1/42	・・	アライメント又は重ね合わせ（レジストレーション）の特徴，例．マスク基板上のアライメントマーク［２０１２．０１］	Alignment or registration features, e.g. alignment marks on the mask substrates	1368
G03F   1/44	・・	試験又は測定の特徴，例．格子パターン，フォーカスモニター，のこぎり歯状スケール又はノッチ状スケール［２０１２．０１］	Testing or measuring features, e.g. grid patterns, focus monitors, sawtooth scales or notched scales 	1150
G03F   1/46	・・	反射防止コーティング［２０１２．０１］	Antireflective coatings	466
G03F   1/48	・・	保護コーティング［２０１２．０１］	Protective coatings	940
G03F   1/50	・	グループＧ０３Ｆ１／２０からＧ０３Ｆ１／２６に包含されないマスクブランク；その準備［２０１２．０１］	Mask blanks not covered by groups <b>G03F1/20 to G03F1/26</b> ; Preparation thereof	1436
G03F   1/52	・	反射材［２０１２．０１］	Reflectors	378
G03F   1/54	・	吸収材，例．不透明な材料［２０１２．０１］	Absorbers, e.g. opaque materials	2901
G03F   1/56	・・	有機的な吸収材，例．フォトレジスト［２０１２．０１］	Organic absorbers, e.g. photo-resists	585
G03F   1/58	・・	２つ以上の異なる吸収材層，例．積層された複数層の吸収材［２０１２．０１］	having two or more different absorber layers, e.g. stacked multilayer absorbers	667
G03F   1/60	・	基板［２０１２．０１］	Substrates	1494
G03F   1/62	・	ペリクル又はペリクル構造体，例．支持フレーム上に薄膜を備えるもの；その準備［２０１２．０１］	Pellicles or pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof	2083
G03F   1/64	・・	そのフレームに特徴のあるもの，例．その構造又は材料［２０１２．０１］	characterised by the frames, e.g. structure or material thereof	1164
G03F   1/66	・	容器，特にマスク，マスクブランク又はペリクルに適合するもの；その準備［２０１２．０１］	Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof	1330
G03F   1/68	・	グループＧ０３Ｆ１／２０からＧ０３Ｆ１／５０に包含されない準備プロセス［２０１２．０１］	Preparation processes not covered by groups <b>G03F1/20 to G03F1/50</b> 	6950
G03F   1/70	・・	マスクの基本的レイアウト又はデザインをリソグラフィプロセスの要求に適合させること，例．画像化のためのマスクパターンの再修正［２０１２．０１］	Adapting basic layout or design of masks to lithographic process requirements, e.g. second iteration correction of mask patterns for imaging	3066
G03F   1/72	・・	マスク欠陥の修理又は修正［２０１２．０１］	Repair or correction of mask defects	1977
G03F   1/74	・・・	荷電粒子線［ＣＰＢ］，例．集束イオンビーム，によるもの［２０１２．０１］	by charged particle beam [CPB], e.g. focused ion beam	642
G03F   1/76	・・	画像化によるマスクのパターン形成［２０１２．０１］	Patterning of masks by imaging	1699
G03F   1/78	・・・	荷電粒子線［ＣＰＢ］，例．電子線，によるもの［２０１２．０１］	by charged particle beam [CPB], e.g. electron beam	576
G03F   1/80	・・	エッチング［２０１２．０１］	Etching	2702
G03F   1/82	・・	補助的なプロセス，例．クリーニング［２０１２．０１］	Auxiliary processes, e.g. cleaning	1740
G03F   1/84	・・・	検査［２０１２．０１］	Inspecting	4075
G03F   1/86	・・・・	荷電粒子線［ＣＰＢ］によるもの［２０１２．０１］	by charged particle beam [CPB]	362
G03F   1/88	・	レリーフ状原稿作成のために写真プロセスによって準備されたもの［２０１２．０１］	prepared by photographic processes for producing originals simulating relief	495
G03F   1/90	・	モンタージュプロセスによって準備されたもの［２０１２．０１］	prepared by montage processes	1194
G03F   1/92	・	印刷表面から準備されたもの［２０１２．０１］	prepared from printing surfaces	842
G03F   3/00		色分解；色調の修正（写真的複写装置一般Ｇ０３Ｂ）	Colour separation; Correction of tonal value(photographic copying apparatus in general <b>G03B</b>)	633
G03F   3/02	・	手工修正によるもの	by retouching	101
G03F   3/04	・	写真的手段によるもの	by photographic means	286
G03F   3/06	・・	マスキングによるもの	by masking	210
G03F   3/08	・	光電的手段によるもの	by photoelectric means	3572
G03F   3/10	・	分解ネガまたはポジの色または調子のチェック	Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives	2457
G03F   5/00		スクリーン法；そのためのスクリーン	Screening processes; Screens therefor	1291
G03F   5/02	・	投映方法によるもの（カメラＧ０３Ｂ）	by projecting methods(cameras <b>G03B</b>)	90
G03F   5/04	・・	網掛け効果の変化によるもの	changing the screen effect	53
G03F   5/06	・・	絞り効果の変化によるもの	changing the diaphragm effect	30
G03F   5/08	・・	平行線スクリーンの使用	using line screens	21
G03F   5/10	・・	交差線スクリーンの使用	using cross-line screens	64
G03F   5/12	・・	その他のスクリーン，例．砂目スクリーン，の使用	using other screens, e.g. granulated screen	186
G03F   5/14	・	密着法によるもの	by contact methods	188
G03F   5/16	・・	灰色中間調スクリーンの使用	using grey half-tone screens	56
G03F   5/18	・・	カラー中間調スクリーンの使用	using colour half-tone screens	43
G03F   5/20	・	グラビア印刷用網掛けの使用	using screens for gravure printing	459
G03F   5/22	・	数枚のスクリーンの組合せ法；モアレの除去	combining several screens; Elimination of moire	202
G03F   5/24	・	多重露光，例．線写真とスクリーンの組合せ	by multiple exposure, e.g. combined processes for line photo and screen	122
G03F   7/00		フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化又はパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置（特別の製造法のためのフォトレジスト構造を用いるもの，関係箇所，例．Ｂ４４Ｃ，Ｈ１０Ｐ７６／００，Ｈ０５Ｋ，を参照）［２００６．０１］	Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor  (using photoresist structures for special production processes, <u>see</u> the relevant places, e.g. <b>B44C</b>, <b>H10P76/00</b>, <b>H05K</b>)	40552
G03F   7/004	・	感光材料（Ｇ０３Ｆ７／１２，Ｇ０３Ｆ７／１４が優先）［５］	Photosensitive materials(<b>G03F7/12</b>, <b>G03F7/14</b> take precedence)	49999
G03F   7/008	・・	アジド（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先）［５］	Azides(<b>G03F7/075</b> takes precedence)	843
G03F   7/012	・・・	高分子アジド；高分子添加剤，例．結合剤［５］	Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders	493
G03F   7/016	・・	ジアゾニウム塩又は化合物（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先）［５］	Diazonium salts or compounds(<b>G03F7/075</b> takes precedence)	885
G03F   7/021	・・・	高分子ジアゾニウム化合物；高分子添加剤，例．結合剤［５］	Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders	1034
G03F   7/022	・・	キノンジアジド（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先）［５］	Quinonediazides(<b>G03F7/075</b> takes precedence)	3757
G03F   7/023	・・・	高分子キノンジアジド；高分子添加剤，例．結合剤［５］	Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders	3944
G03F   7/025	・・	炭素−炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物，例．アセチレン化合物（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先）［５］	Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon triple bonds, e.g. acetylenic compounds(<b>G03F7/075</b> takes precedence)	261
G03F   7/027	・・	炭素−炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物，例．エチレン化合物（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先）［５］	Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds(<b>G03F7/075</b> takes precedence)	18259
G03F   7/028	・・・	増感物質をもつもの，例．光重合開始剤［５］	with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators	7045
G03F   7/029	・・・・	無機化合物；オニウム化合物；酸素，窒素又は硫黄以外の異種原子をもつ有機化合物［５］	Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur	4061
G03F   7/031	・・・・	グループＧ０３Ｆ７／０２９に包含されない有機化合物［５］	Organic compounds not covered by group <b>G03F7/029</b>	6087
G03F   7/032	・・・	結合剤をもつもの［５］	with binders	4803
G03F   7/033	・・・・	結合剤が炭素−炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの，例．ビニル重合体［５］	the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers	6795
G03F   7/035	・・・・	結合剤がポリウレタンであるもの［５］	the binders being polyurethanes	611
G03F   7/037	・・・・	結合剤がポリアミド又はポリイミドであるもの［５］	the binders being polyamides or polyimides	1975
G03F   7/038	・・	不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先；高分子アジドＧ０３Ｆ７／０１２；高分子ジアゾニウム化合物Ｇ０３Ｆ７／０２１）［５］	Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable(<b>G03F7/075</b> takes precedence; macromolecular azides <b>G03F7/012</b>; macromolecular diazonium compounds <b>G03F7/021</b>)	18184
G03F   7/039	・・	光分解可能な高分子化合物，例．ポジ型電子レジスト（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先；高分子キノンジアジドＧ０３Ｆ７／０２３）［５］	Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists(<b>G03F7/075</b> takes precedence; macromolecular quinonediazides <b>G03F7/023</b>)	17919
G03F   7/04	・・	クロム酸塩（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先）［５］	Chromates(<b>G03F7/075</b> takes precedence)	714
G03F   7/06	・・	銀塩（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先）［５］	Silver salts(<b>G03F7/075</b> takes precedence)	1243
G03F   7/07	・・・	拡散転写に用いられるもの［５］	used for diffusion transfer	1344
G03F   7/075	・・	シリコン含有化合物［５］	Silicon-containing compounds	7023
G03F   7/085	・・	接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先）［５］	Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives(<b>G03F7/075</b> takes precedence)	599
G03F   7/09	・・	構造の細部，例．支持体，補助層，に特徴のあるもの（印刷版用支持体一般Ｂ４１Ｎ）［５］	characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers(supports for printing plates in general <b>B41N</b>)	7280
G03F   7/095	・・・	２つ以上の感光層をもつもの（Ｇ０３Ｆ７／０７５が優先）［５］	having more than one photosensitive layer(<b>G03F7/075</b> takes precedence)	2526
G03F   7/105	・・・	可視像を形成するための物質，例．指示薬，をもつもの［５］	having substances, e.g. indicators, for forming visible images	2538
G03F   7/11	・・・	被覆層又は中間層，例．下塗層をもつもの［５］	having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers	10259
G03F   7/115	・・・	真空焼付においてスクリーン効果又はより良い密着を得るための手段を有する支持体又は層をもつもの［５］	having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing	338
G03F   7/12	・	スクリーン印刷版又は類似の印刷版，例．ステンシル，の製造	Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils	1964
G03F   7/14	・	コロタイプ印刷版の製造	Production of collotype printing forms	189
G03F   7/16	・	塗布法；そのための装置（支持体材料への塗布一般Ｂ０５；写真目的用支持体への感光組成物の塗布Ｇ０３Ｃ１／７４）	Coating processes; Apparatus therefor(applying coatings to base materials in general <b>B05</b>; applying photosensitive compositions to the base for photographic purposes <b>G03C1/74</b>)	14501
G03F   7/18	・・	カーブした面への塗布	Coating curved surfaces	294
G03F   7/20	・	露光；そのための装置（複製用写真焼付装置Ｇ０３Ｂ２７／００）［４］	Exposure; Apparatus therefor(photographic printing apparatus for making copies <b>G03B27/00</b>)	95166
G03F   7/207	・・	焦点調節手段，例．自動焦点調節手段（位置合わせと焦点調節との組合わせＧ０３Ｆ９／０２；投影焼付装置の自動焦点調節手段Ｇ０３Ｂ２７／３４；焦点調節信号の自動発生のためのシステム一般Ｇ０２Ｂ７／２８）［４］	Means for focusing, e.g. automatically(combination of positioning and focusing <b>G03F9/02</b>; systems for automatic generation of focusing signals in general <b>G02B7/28</b>; means for automatic focusing of projection printing apparatus <b>G03B27/34</b>)	1411
G03F   7/213	・・	同一表面の異なる位置を同一パターンで同時に露光するもの（Ｇ０３Ｆ７／２０７が優先）［４］	Exposing with the same light pattern different positions of the same surface at the same time(<b>G03F7/207</b> takes precedence)	143
G03F   7/22	・・	同一表面の異なる位置を同一パターンで逐次露光するもの（Ｇ０３Ｆ７／２０７が優先）［４］	Exposing sequentially with the same light pattern different positions of the same surface(<b>G03F7/207</b> takes precedence)	1650
G03F   7/23	・・・	そのための自動的な手段［４］	Automatic means therefor	184
G03F   7/24	・・	カーブした表面への露光	Curved surfaces	1161
G03F   7/26	・	感光材料の処理；そのための装置（Ｇ０３Ｆ７／１２〜Ｇ０３Ｆ７／２４が優先）［３，５］	Processing photosensitive materials; Apparatus therefor(<b>G03F7/12 to G03F7/24</b>  take precedence)	11699
G03F   7/28	・・	粉体画像を得るためのもの（Ｇ０３Ｆ３／１０が優先）［５］	for obtaining powder images(<b>G03F3/10</b> takes precedence)	323
G03F   7/30	・・	液体手段を用いる画像様除去［５］	Imagewise removal using liquid means	11611
G03F   7/32	・・・	そのための液体組成物，例．現像剤［５］	Liquid compositions therefor, e.g. developers	7161
G03F   7/34	・・	選択的転写による画像様除去，例．剥離［５］	Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away	1341
G03F   7/36	・・	グループＧ０３Ｆ７／３０〜Ｇ０３Ｆ７／３４に包含されない画像様除去，例．ガス流を用いるもの，プラズマを用いるもの［５］	Imagewise removal not covered by groups <b>G03F7/30 to G03F7/34</b> , e.g. using gas streams, using plasma	1524
G03F   7/38	・・	画像様除去前の処理，例．予熱［５］	Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking	6006
G03F   7/40	・・	画像様除去後の処理，例．加熱［５］	Treatment after imagewise removal, e.g. baking	10919
G03F   7/42	・・	剥離又はそのための処理剤［５］	Stripping or agents therefor	6488
G03F   9/00		原稿，マスク，フレーム，写真シート，表面構造または模様が作成された表面，の位置決めまたは位置合わせ，例．自動的なもの（Ｇ０３Ｆ７／２２が優先；写真マスクの製造Ｇ０３Ｆ１／００；複製用写真焼付装置用のものＧ０３Ｂ２７／００）［４］	Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically(<b>G03F7/22</b> takes precedence; preparation of photographic masks <b>G03F1/00</b>; within photographic printing apparatus for making copies <b>G03B27/00</b>)	18346
G03F   9/02	・	自動焦点調節の手段と組合わせたもの（自動焦点調節一般Ｇ０２Ｂ７／０９；焦点調節信号の自動発生のためのシステムＧ０２Ｂ７／２８）［４］	combined with means for automatic focusing(automatic focusing in general <b>G02B7/09</b>; systems for automatic generation of focusing signals <b>G02B7/28</b>)	778
