C23C   2/00		形状に影響を及ぼすことのない溶融状態にある被覆材料の適用による溶融メッキまたは溶融浸漬法；そのための装置［４］	Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor	8347
C23C   2/02	・	被覆される材料の前処理，例．選択された表面部分を被覆するためのもの（Ｃ２３Ｃ２／３０が優先）［４］	Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas(<b>C23C2/30</b> takes precedence)	7038
C23C   2/04	・	被覆材料に特徴があるもの［４］	characterised by the coating material	1264
C23C   2/06	・・	亜鉛もしくはカドミウムまたはそれらを基とする合金［４］	Zinc or cadmium or alloys based thereon	19107
C23C   2/08	・・	すずまたはすず基合金［４］	Tin or alloys based thereon	3226
C23C   2/10	・・	鉛または鉛基合金［４］	Lead or alloys based thereon	483
C23C   2/12	・・	アルミニウムまたはアルミニウム基合金［４］	Aluminium or alloys based thereon	3584
C23C   2/14	・	溶融被覆層の過剰量除去；被膜厚さの制御または調整［４］	Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness	1181
C23C   2/16	・・	加圧流体を用いるもの，例．エアナイフ［４］	using fluids under pressure, e.g. air knives	714
C23C   2/18	・・・	長尺材料からの溶融被覆層の過剰量除去［４］	Removing excess of molten coatings from elongated material	557
C23C   2/20	・・・・	ストリップ；板［４］	Strips; Plates	2306
C23C   2/22	・・	ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）によるもの，例．ナイフを用いるもの［４］	by rubbing, e.g. using knives	464
C23C   2/24	・・	磁場または電場を用いるもの［４］	using magnetic or electric fields	388
C23C   2/26	・	後処理（Ｃ２３Ｃ２／１４が優先）［４］	After-treatment(<b>C23C2/14</b> takes precedence)	4943
C23C   2/28	・・	熱による後処理，例．油浴処理［４］	Thermal after-treatment, e.g. treatment in oil bath	4886
C23C   2/30	・	溶融浴上のフラックスまたは被覆材（Ｃ２３Ｃ２／２２が優先）［４］	Fluxes or coverings on molten baths(<b>C23C2/22</b> takes precedence)	607
C23C   2/32	・	振動エネルギーを浴または基板に作用させるもの（Ｃ２３Ｃ２／１４が優先）［４］	using vibratory energy applied to the bath or substrate(<b>C23C2/14</b> takes precedence)	338
C23C   2/34	・	処理される材料の形状に特徴があるもの（Ｃ２３Ｃ２／１４が優先）［４］	characterised by the shape of the material to be treated(<b>C23C2/14</b> takes precedence)	971
C23C   2/36	・・	長尺材料［４］	Elongated material	485
C23C   2/38	・・・	線材；管［４］	Wires; Tubes	4342
C23C   2/40	・・・	板；ストリップ［４］	Plates; Strips	8359
C23C   4/00		溶解被覆材料のスプレーによる被覆，例．火炎，プラズマまたは放電によるもの（肉盛溶接Ｂ２３Ｋ，例．Ｂ２３Ｋ５／１８，Ｂ２３Ｋ９／０４）［４，２０１６．０１］	Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge(build-up welding <b>B23K</b>, e.g. <b>B23K5/18</b>, <b>B23K9/04</b>)	2513
C23C   4/01	・	被覆される材料の前処理無しで行う選択的被覆，例．パターン被覆［２０１６．０１］	Selective coating, e.g. pattern coating, without pre-treatment of the material to be coated	342
C23C   4/02	・	被覆される材料の前処理，例．選択された表面部分に被覆するためのもの［４］	Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas	4915
C23C   4/04	・	被覆材料に特徴のあるもの［４］	characterised by the coating material	3157
C23C   4/06	・・	金属質材料［４，２０１６．０１］	Metallic material	7367
C23C   4/067	・・・	非金属元素の遊離粒子を含むもの，非金属元素の例．炭素，ケイ素，ホウ素，リンまたはヒ素［２０１６．０１］	containing free particles of non-metal elements, e.g. carbon, silicon, boron, phosphorus or arsenic	591
C23C   4/073	・・・	非金属元素の含有の有無に関わらずＭＣｒＡＩまたはＭＣｒＡＩＹ合金を含むもの，Ｍはニッケル，コバルトまたは鉄［２０１６．０１］	containing MCrAl or MCrAlY alloys, where M is nickel, cobalt or iron, with or without non-metal elements	1106
C23C   4/08	・・・	金属元素のみを含むもの（Ｃ２３Ｃ４／０７３が優先）［４，２０１６．０１］	containing only metal elements(<b>C23C4/073</b> takes precedence)	5751
C23C   4/10	・・	酸化物，ほう化物，炭化物，窒化物またはけい化物；それらの混合物［４，２０１６．０１］	Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof	5609
C23C   4/11	・・・	酸化物［２０１６．０１］	Oxides	2881
C23C   4/12	・	スプレー方法に特徴のあるもの［４，２０１６．０１］<br><br><b><ul>注</ul></b><br>このグループでは，多観点分類が適用される。そのため，グループ中の２以上のサブグループに包含される観点に特徴のある主題事項は，それらのサブグループそれぞれに分類される［２０１６．０１］	characterised by the method of spraying	6642
C23C   4/123	・・	金属の溶射［２０１６．０１］	Spraying molten metal	1255
C23C   4/126	・・	爆発溶射［２０１６．０１］	Detonation spraying	335
C23C   4/129	・・	フレーム溶射［２０１６．０１］	Flame spraying	3163
C23C   4/131	・・	ワイヤアーク溶射［２０１６．０１］	Wire arc spraying	1892
C23C   4/134	・・	プラズマ溶射［２０１６．０１］	Plasma spraying	6319
C23C   4/137	・・	真空又は不活性雰囲気中で行う溶射［２０１６．０１］	Spraying in vacuum or in an inert atmosphere	326
C23C   4/14	・・	長尺材料を被覆するためのもの［４］	for coating elongate material	420
C23C   4/16	・・・	線材；管［４，２０１６．０１］	Wires; Tubes	833
C23C   4/18	・	後処理［４］	After-treatment	5297
C23C   6/00		基板上に溶融材料を鋳込むことによる被覆［４］	Coating by casting molten material on the substrate	483
C23C   8/00		金属質材料表面への非金属元素のみの固相拡散（けい素の拡散Ｃ２３Ｃ１０／００）；表面と反応性ガスとの反応による金属質材料の化学的表面処理，であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残すもの，例．化成被覆［ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎｃｏａｔｉｎｇｓ］，金属の不働態化（Ｃ２３Ｃ１４／００が優先）［４］	Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces(diffusion of silicon <b>C23C10/00</b>);Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals(<b>C23C14/00</b> takes precedence)	1979
C23C   8/02	・	被覆される材料の前処理（Ｃ２３Ｃ８／０４が優先）［４］	Pretreatment of the material to be coated(<b>C23C8/04</b> takes precedence)	2700
C23C   8/04	・	選択された表面部分，例．マスクを用いるもの［４］	Treatment of selected surface areas, e.g. using masks	965
C23C   8/06	・	ガスを用いるもの（Ｃ２３Ｃ８／３６が優先）［４］	using gases	1009
C23C   8/08	・・	１元素のみが用いられるもの［４］	only one element being applied	616
C23C   8/10	・・・	酸化［４］	Oxidising	2382
C23C   8/12	・・・・	元素状酸素またはオゾンを用いるもの［４］	using elemental oxygen or ozone	1056
C23C   8/14	・・・・・	鉄系表面の酸化［４］	Oxidising of ferrous surfaces	838
C23C   8/16	・・・・	酸素含有化合物を用いるもの，例．Ｈ↓２Ｏ，ＣＯ↓２［４］	using oxygen-containing compounds, e.g. H<sub>2</sub>O, CO<sub>2</sub>	683
C23C   8/18	・・・・・	鉄系表面の酸化［４］	Oxidising of ferrous surfaces	876
C23C   8/20	・・・	浸炭［４］	Carburising	2298
C23C   8/22	・・・・	鉄系表面の浸炭［４］	of ferrous surfaces	3924
C23C   8/24	・・・	窒化［４］	Nitriding	2748
C23C   8/26	・・・・	鉄系表面の窒化［４］	of ferrous surfaces	3744
C23C   8/28	・・	２以上の元素が１段階で用いられるもの［４］	more than one element being applied in one step	527
C23C   8/30	・・・	浸炭窒化［４］	Carbo-nitriding	608
C23C   8/32	・・・・	鉄系表面の浸炭窒化［４］	of ferrous surfaces	1964
C23C   8/34	・・	２以上の元素が２段階以上で用いられるもの［４］	more than one element being applied in more than one step	817
C23C   8/36	・・	イオン化されたガスを用いるもの，例．イオン窒化［４］	using ionised gases, e.g. ionitriding	2708
C23C   8/38	・・・	鉄系表面の処理［４］	Treatment of ferrous surfaces	1395
C23C   8/40	・	液体を用いるもの，例．塩浴，液状懸濁物［４］	using liquids, e.g. salt baths, liquid suspensions	461
C23C   8/42	・・	１元素のみが用いられるもの［４］	only one element being applied	564
C23C   8/44	・・・	浸炭［４］	Carburising	251
C23C   8/46	・・・・	鉄系表面の浸炭［４］	of ferrous surfaces	428
C23C   8/48	・・・	窒化［４］	Nitriding	354
C23C   8/50	・・・・	鉄系表面の窒化［４］	of ferrous surfaces	633
C23C   8/52	・・	２以上の元素が１段階で用いられるもの［４］	more than one element being applied in one step	230
C23C   8/54	・・・	浸炭窒化［４］	Carbo-nitriding	210
C23C   8/56	・・・・	鉄系表面の浸炭窒化［４］	of ferrous surfaces	269
C23C   8/58	・・	２以上の元素が２段階以上で用いられるもの［４］	more than one element being applied in more than one step	235
C23C   8/60	・	固体を用いるもの，例．粉末，ペースト（固体の液中懸濁液を用いるものＣ２３Ｃ８／４０）［４］	using solids, e.g. powders, pastes(using liquid suspensions of solids <b>C23C8/40</b>)	302
C23C   8/62	・・	１元素のみが用いられるもの［４］	only one element being applied	238
C23C   8/64	・・・	浸炭［４］	Carburising	427
C23C   8/66	・・・・	鉄系表面の浸炭［４］	of ferrous surfaces	655
C23C   8/68	・・・	ボロナイジング［４］	Boronising	406
C23C   8/70	・・・・	鉄系表面のボロナイジング［４］	of ferrous surfaces	472
C23C   8/72	・・	２以上の元素が１段階で用いられるもの［４］	more than one element being applied in one step	148
C23C   8/74	・・・	浸炭窒化［４］	Carbo-nitriding	61
C23C   8/76	・・・・	鉄系表面の浸炭窒化［４］	of ferrous surfaces	89
C23C   8/78	・・	２以上の元素が２段階以上で用いられるもの［４］	more than one element being applied in more than one step	56
C23C   8/80	・	後処理［４］	After-treatment	2607
C23C  10/00		金属質材料表面への金属元素のみまたはけい素の固相拡散［４］	Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces	683
C23C  10/02	・	被覆される材料の前処理（Ｃ２３Ｃ１０／０４が優先）［４］	Pretreatment of the material to be coated(<b>C23C10/04</b> takes precedence)	833
C23C  10/04	・	選択された表面部分への拡散，例．マスクを用いるもの［４］	Diffusion into selected surface areas, e.g. using masks	292
C23C  10/06	・	ガスを用いるもの［４］	using gases	281
C23C  10/08	・・	１元素のみが拡散されるもの［４］	only one element being diffused	586
C23C  10/10	・・・	クロマイジング［４］	Chromising	138
C23C  10/12	・・・・	鉄系表面のクロマイジング［４］	of ferrous surfaces	82
C23C  10/14	・・	２以上の元素が１段階で拡散されるもの［４］	more than one element being diffused in one step	144
C23C  10/16	・・	２以上の元素が２段階以上で拡散されるもの［４］	more than one element being diffused in more than one step	51
C23C  10/18	・	液体を用いるもの，例．塩浴，液体状懸濁液［４］	using liquids, e.g. salt baths, liquid suspensions	250
C23C  10/20	・・	１元素のみが拡散されるもの［４］	only one element being diffused	227
C23C  10/22	・・・	拡散される元素を含む溶融金属［４］	Metal melt containing the element to be diffused	365
C23C  10/24	・・・	拡散される元素を含む塩浴［４］	Salt bath containing the element to be diffused	294
C23C  10/26	・・	２以上の元素が拡散されるもの［４］	more than one element being diffused	270
C23C  10/28	・	固体を用いるもの，例．粉末，ペースト［４］	using solids, e.g. powders, pastes	2149
C23C  10/30	・・	表面上に粉末またはペーストの層を用いるもの（固体の液中懸濁液を用いるものＣ２３Ｃ１０／１８）［４］	using a layer of powder or paste on the surface(using liquid suspensions of solids <b>C23C10/18</b>)	905
C23C  10/32	・・・	クロマイジング［４］	Chromising	210
C23C  10/34	・・	粉末混合物中に埋め込むもの，例．パックセメンテーション［４］	Embedding in a powder mixture, i.e. pack cementation	411
C23C  10/36	・・・	１元素のみが拡散されるもの［４］	only one element being diffused	550
C23C  10/38	・・・・	クロマイジング［４］	Chromising	206
C23C  10/40	・・・・・	鉄系表面のクロマイジング［４］	of ferrous surfaces	189
C23C  10/42	・・・・・・	揮発性移送添加剤が存在するもの，例．ハロゲン化物質［４］	in the presence of volatile transport additives, e.g. halogenated substances	214
C23C  10/44	・・・・	シリコナイジング［４］	Siliconising	175
C23C  10/46	・・・・・	鉄系表面のシリコナイジング［４］	of ferrous surfaces	108
C23C  10/48	・・・・	アルミナイジング［４］	Aluminising	569
C23C  10/50	・・・・・	鉄系表面のアルミナイジング［４］	of ferrous surfaces	308
C23C  10/52	・・・	２以上の元素が１段階で拡散されるもの［４］	more than one element being diffused in one step	730
C23C  10/54	・・・・	少なともクロムが拡散するもの［４］	Diffusion of at least chromium	164
C23C  10/56	・・・・・	少くともクロムおよびアルミニウムが拡散するもの［４］	and at least aluminium	230
C23C  10/58	・・・	２以上の元素が２段階以上で拡散されるもの［４］	more than one element being diffused in more than one step	254
C23C  10/60	・	後処理［４］	After-treatment	837
C23C  12/00		金属質材料表面へのけい素以外の少くとも１つの非金属元素および少くとも１つの金属元素またはけい素の固相拡散［４］	Solid state diffusion of at least one non-metal element other than silicon and at least one metal element or silicon into metallic material surfaces	811
C23C  12/02	・	１段階による拡散［４］	Diffusion in one step	951
C23C  14/00		被覆形成材料の真空蒸着，スパッタリングまたはイオン注入法による被覆［４］	Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material	10401
C23C  14/02	・	被覆される材料の前処理（Ｃ２３Ｃ１４／０４が優先）［４］	Pretreatment of the material to be coated(<b>C23C14/04</b> takes precedence)	11915
C23C  14/04	・	選択された表面部分の被覆，例．マスクを用いるもの［４］	Coating on selected surface areas, e.g. using masks	13103
C23C  14/06	・	被覆材料に特徴のあるもの（Ｃ２３Ｃ１４／０４が優先）［４］	characterised by the coating material(<b>C23C14/04</b> takes precedence)	29646
C23C  14/08	・・	酸化物（Ｃ２３Ｃ１４／１０が優先）［４］	Oxides(<b>C23C14/10</b> takes precedence)	19386
C23C  14/10	・・	ガラスまたはシリカ［４］	Glass or silica	3496
C23C  14/12	・・	有機質材料［４］	Organic material	4998
C23C  14/14	・・	金属質材料，ほう素またはけい素［４］	Metallic material, boron or silicon	11834
C23C  14/16	・・・	金属質基板上またはほう素もしくはけい素の基板上に被覆するもの［４］	on metallic substrates or on substrates of boron or silicon	9767
C23C  14/18	・・・	その他の無機質基板上に被覆するもの［４］	on other inorganic substrates	5625
C23C  14/20	・・・	有機質基板上に被覆するもの［４］	on organic substrates	6481
C23C  14/22	・	被覆の方法に特徴のあるもの［４］	characterised by the process of coating	7979
C23C  14/24	・・	真空蒸着［４］	Vacuum evaporation	28030
C23C  14/26	・・・	ソースの抵抗加熱または誘導加熱によるもの［４］	by resistance or inductive heating of the source	3305
C23C  14/28	・・・	波動エネルギーまたは粒子放射によるもの（Ｃ２３Ｃ１４／３２〜Ｃ２３Ｃ１４／４８が優先）［４］	by wave energy or particle radiation(<b>C23C14/32 to C23C14/48</b>  take precedence)	3359
C23C  14/30	・・・・	電子衝撃によるもの［４］	by electron bombardment	5492
C23C  14/32	・・・	爆発によるもの；蒸発およびその後の蒸気のイオン化によるもの（Ｃ２３Ｃ１４／３４〜Ｃ２３Ｃ１４／４８が優先）［４］	by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours(<b>C23C14/34 to C23C14/48</b>  take precedence)	11062
C23C  14/34	・・	スパッタリング［４］	Sputtering	37372
C23C  14/35	・・・	磁界の適用によるもの，例．マグネトロンスパッタリング［５］	by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering	27354
C23C  14/36	・・・	ダイオードスパッタリング（Ｃ２３Ｃ１４／３５が優先）［４，５］	Diode sputtering(<b>C23C14/35</b> takes precedence)	870
C23C  14/38	・・・・	直流グロー放電によるもの［４］	by direct current glow discharge	392
C23C  14/40	・・・・	交流放電を伴うもの，例．高周波放電［４］	with alternating current discharge, e.g. high-frequency discharge	645
C23C  14/42	・・・	トリオードスパッタリング（Ｃ２３Ｃ１４／３５が優先）［４，５］	Triode sputtering(<b>C23C14/35</b> takes precedence)	95
C23C  14/44	・・・・	高周波および追加的な直流電圧の適用によるもの［４］	by application of high frequencies and additional direct voltages	163
C23C  14/46	・・・	外部のイオン源により作られたイオンビームによるもの（Ｃ２３Ｃ１４／４０が優先）［４］	by ion beam produced by an external ion source(<b>C23C14/40</b> takes precedence)	1819
C23C  14/48	・・	イオン注入法［４］	Ion implantation	5408
C23C  14/50	・・	基板保持具［４］	Substrate holders	15992
C23C  14/52	・・	被覆工程の観察のための手段［４］	Means for observation of the coating process	1457
C23C  14/54	・・	被覆工程の制御または調整［４］	Controlling or regulating the coating process	15375
C23C  14/56	・・	連続被覆のために特に適合した装置；真空を維持するための装置，例．真空ロック［４］	Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks	17913
C23C  14/58	・	後処理［４］	After-treatment	10513
C23C  16/00		ガス状化合物の分解による化学的被覆であって，表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの，すなわち化学蒸着［ＣＶＤ］法（反応性スパッタリングまたは真空蒸着Ｃ２３Ｃ１４／００）［２００６．０１］	Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes(reactive sputtering or vacuum evaporation <b>C23C14/00</b>)	9858
C23C  16/01	・	一時的な基板上に行うもの，例．エッチングによって結果的に除去されるような基板の上［７］	on temporary substrates, e.g. on substrates subsequently removed by etching	1322
C23C  16/02	・	被覆される材料の前処理（Ｃ２３Ｃ１６／０４が優先）［４］	Pretreatment of the material to be coated(<b>C23C16/04</b> takes precedence)	7514
C23C  16/04	・	選択された表面部分への被覆，例．マスクを用いるもの［４］	Coating on selected surface areas, e.g. using masks	6217
C23C  16/06	・	金属質材料の析出に特徴のあるもの［４］	characterised by the deposition of metallic material	3770
C23C  16/08	・・	金属ハロゲン化物からのもの［４］	from metal halides	1014
C23C  16/10	・・・	クロムのみの析出［４］	Deposition of chromium only	66
C23C  16/12	・・・	アルミニウムのみの折出［４］	Deposition of aluminium only	226
C23C  16/14	・・・	その他の１金属元素のみの析出［４］	Deposition of only one other metal element	1287
C23C  16/16	・・	金属カルボニル化合物からのもの［４］	from metal carbonyl compounds	687
C23C  16/18	・・	金属有機質化合物からのもの［４］	from metallo-organic compounds	3662
C23C  16/20	・・・	アルミニウムのみの析出［４］	Deposition of aluminium only	326
C23C  16/22	・	金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの［４］	characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material	1624
C23C  16/24	・・	けい素のみの析出［４］	Deposition of silicon only	4863
C23C  16/26	・・	炭素のみの析出［４］	Deposition of carbon only	8614
C23C  16/27	・・・	ダイヤモンドのみの析出［７］	Diamond only	6183
C23C  16/28	・・	その他の１非金属元素のみの析出［４］	Deposition of only one other non-metal element	352
C23C  16/30	・・	化合物，混合物または固溶体の析出，例．ほう化物，炭化物，窒化物［４］	Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides	9097
C23C  16/32	・・・	炭化物［４］	Carbides	3721
C23C  16/34	・・・	窒化物［４］	Nitrides	9960
C23C  16/36	・・・	炭窒化物［４］	Carbo-nitrides	1762
C23C  16/38	・・・	ほう化物［４］	Borides	528
C23C  16/40	・・・	酸化物［４］	Oxides	14665
C23C  16/42	・・・	けい化物［４］	Silicides	4540
C23C  16/44	・	被覆の方法に特徴のあるもの（Ｃ２３Ｃ１６／０４が優先）［４］	characterised by the method of coating(<b>C23C16/04</b> takes precedence)	28734
C23C  16/442	・・	流体床法を用いるもの［７］	using fluidised bed processes	486
C23C  16/448	・・	反応性ガス流を発生させるために用いる方法に特徴があるもの，例．先行する材料の蒸発または昇華によるもの［７］	characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials	5641
C23C  16/452	・・・	反応室に導入する前に反応ガス流を活性化させることによるもの，例．反応種のイオン化または添加によるもの［７］	by activating reactive gas streams before introduction into the reaction chamber, e.g. by ionization or by addition of reactive species	1318
C23C  16/453	・・	反応ガスをバーナーまたはトーチへ通すもの，例．空気圧ＣＶＤ（Ｃ２３Ｃ１６／５１３が優先；溶解被覆材料の，火炎またはプラズマによるスプレー用のものＣ２３Ｃ４／００）［７］	passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD(<b>C23C16/513</b> takes precedence; for flame or plasma spraying of coating material in the molten state <b>C23C4/00</b>)	535
C23C  16/455	・・	ガスを反応室に導入するため，または反応室のガス流を変えるために使われる方法に特徴があるもの［７］	characterised by the method used for introducing gases into the reaction chamber or for modifying gas flows in the reaction chamber	28679
C23C  16/458	・・	反応室の基板を支えるのに使われる方法に特徴があるもの［７］	characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber	13438
C23C  16/46	・・	基板を加熱するのに使われる方法に特徴があるもの（Ｃ２３Ｃ１６／４８，Ｃ２３Ｃ１６／５０が優先）［４］	characterised by the method used for heating the substrate(<b>C23C16/48</b>, <b>C23C16/50</b> take precedence)	6900
C23C  16/48	・・	放射によるもの，例．光分解，放射線分解，粒子放射［４］	by irradiation, e.g. photolysis, radiolysis, particle radiation	3555
C23C  16/50	・・	放電を用いるもの［４］	using electric discharges	14880
C23C  16/503	・・・	交流または直流放電を使用するもの［７］	using DC or AC discharges	840
C23C  16/505	・・・	高周波放電によるもの［７］	using radio frequency discharges	4407
C23C  16/507	・・・・	外部電極，例．トンネル型のリアクトル，を用いるもの［７］	using external electrodes, e.g. in tunnel type reactors	933
C23C  16/509	・・・・	内部電極を用いるもの［７］	using internal electrodes	3535
C23C  16/511	・・・	マイクロ波放電を用いるもの［７］	using microwave discharges	5101
C23C  16/513	・・・	プラズマジェットを用いるもの［７］	using plasma jets	3036
C23C  16/515	・・・	パルス放電を用いるもの［７］	using pulsed discharges	954
C23C  16/517	・・・	Ｃ２３Ｃ１６／５０３〜Ｃ２３Ｃ１６／５１５のグループのうち二つ以上に分類される放電の組み合わせを用いるもの［７］	using a combination of discharges covered by two or more of groups <b>C23C16/503 to C23C16/515</b> 	592
C23C  16/52	・・	被覆工程の制御または調整［４］	Controlling or regulating the coating process	13388
C23C  16/54	・・	連続被覆に特に適合した装置［４］	Apparatus specially adapted for continuous coating	7618
C23C  16/56	・	後処理［４］	After-treatment	6281
C23C  18/00		液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの；接触メッキ［４］<br><br><b><ul>注</ul></b><br>このグループは反応性液体と非反応性固体粒子とを含有する懸濁物も包含する。［４］	Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating; <br><br><b><u>Note(s)</u></b><br><br><ul><li>This group <u>covers</u> also suspensions containing reactive liquids and non-reactive solid particles. </li></ul>	1291
C23C  18/02	・	熱分解によるもの［４］	by thermal decomposition	593
C23C  18/04	・・	被覆される材料の前処理（Ｃ２３Ｃ１８／０６が優先）［４］	Pretreatment of the material to be coated(<b>C23C18/06</b> takes precedence)	385
C23C  18/06	・・	選択された表面部分の被覆，例．マスクを用いるもの［４］	Coating on selected surface areas, e.g. using masks	298
C23C  18/08	・・	金属質材料の析出に特徴のあるもの［４］	characterised by the deposition of metallic material	967
C23C  18/10	・・・	アルミニウムのみの析出［４］	Deposition of aluminium only	73
C23C  18/12	・・	金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの［４］	characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material	4681
C23C  18/14	・	放射による分解，例．光分解，粒子放射［４］	Decomposition by irradiation, e.g. photolysis, particle radiation	893
C23C  18/16	・	還元または置換によるもの，例．無電解メッキ（Ｃ２３Ｃ１８／５４が優先）［４］	by reduction or substitution, i.e. electroless plating(<b>C23C18/54</b> takes precedence)	8960
C23C  18/18	・・	被覆される材料の前処理［４］	Pretreatment of the material to be coated	5333
C23C  18/20	・・・	有機質表面の前処理，例．樹脂［４］	of organic surfaces, e.g. resins	3201
C23C  18/22	・・・・	粗面化，例．エッチングによるもの［４］	Roughening, e.g. by etching	947
C23C  18/24	・・・・・	酸性水溶液を用いるもの［４］	using acid aqueous solutions	691
C23C  18/26	・・・・・	有機質液体を用いるもの［４］	using organic liquids	268
C23C  18/28	・・・・	増感処理または活性化処理［４］	Sensitising or activating	1475
C23C  18/30	・・・・・	活性化処理［４］	Activating	2107
C23C  18/31	・・	金属による被覆［５］	Coating with metals	5976
C23C  18/32	・・・	鉄，コバルトまたはニッケルのうちいずれか一種による被覆；これら金属の１つとりんまたはほう素の混合物で被覆するもの［４，５］	Coating with one of iron, cobalt or nickel; Coating with mixtures of phosphorus or boron with one of these metals	3006
C23C  18/34	・・・・	還元剤を用いるもの［４，５］	using reducing agents	2056
C23C  18/36	・・・・・	次亜りん酸塩を用いるもの［４，５］	using hypophosphites	3126
C23C  18/38	・・・	銅による被覆［４，５］	Coating with copper	2128
C23C  18/40	・・・・	還元剤を用いるもの［４，５］	using reducing agents	3082
C23C  18/42	・・・	貴金属による被覆［４，５］	Coating with noble metals	1956
C23C  18/44	・・・・	還元剤を用いるもの［４，５］	using reducing agents	2523
C23C  18/48	・・	合金による被覆［４，５］	Coating with alloys	957
C23C  18/50	・・・	鉄，コバルトまたはニッケルを基とする合金によるもの（Ｃ２３Ｃ１８／３２が優先）［４，５］	with alloys based on iron, cobalt or nickel(<b>C23C18/32</b> takes precedence)	1240
C23C  18/52	・・	グループＣ２３Ｃ１８／３２〜Ｃ２３Ｃ１８／５０の単一グループに分類されない金属質材料による被覆のために還元剤を用いるもの［４］	using reducing agents for coating with metallic material not provided for in a single one of groups <b>C23C18/32 to C23C18/50</b> 	1960
C23C  18/54	・	接触メッキ，すなわち無電解電気化学メッキ［４］	Contact plating, i.e. electroless electrochemical plating	1094
C23C  20/00		固体化合物または懸濁物のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって，表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの［４］<br><br><b><ul>注</ul></b><br>このグループは非反応性液体と反応性固体粒子とを含有する懸濁物も包含する。［４］	Chemical coating by decomposition of either solid compounds or suspensions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; <br><br><b><u>Note(s)</u></b><br><br><ul><li>This group <u>covers</u> also suspensions containing non-reactive liquids and reactive solid particles. </li></ul>	346
C23C  20/02	・	金属質材料による被覆［４］	Coating with metallic material	146
C23C  20/04	・・	金属によるもの［４］	with metals	254
C23C  20/06	・	金属質材料以外の無機質材料による被覆［４］	Coating with inorganic material, other than metallic material	275
C23C  20/08	・・	化合物，混合物または固溶体によるもの，例．ほう化物，炭化物，窒化物［４］	with compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides	599
C23C  22/00		表面と反応性液体との反応による金属質材料の化学的表面処理であって，表面材料の反応生成物を被覆層中に残すもの，例．化成被覆（ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎｃｏａｔｉｎｇｓ）金属の不動態化［４］<br><br><b><ul>注</ul></b><br>（１）このグループは，反応性液体と非反応性固体粒子とを含有する懸濁物も包含する。［４］<br>（２）浴の回復処理は特定の浴組成のための適切な箇所に分類される。［４］<br>グループＣ２３Ｃ２２／０２〜Ｃ２３Ｃ２２／８６においては，ラストプレイス優先ルールが適用される，すなわち各階層レベルにおいて相反する指示がない限り，最後の適切な箇所に分類する。［４］	Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals; <br><br><b><u>Note(s)</u></b><br><br><ul><li>This group <u>covers</u> also suspensions containing reactive liquids and non-reactive solid particles.</li><li>Rejuvenating of the bath is classified in the appropriate place for the specific bath composition.</li></ul>	6976
C23C  22/02	・	非水溶液を用いるもの［４］	using non-aqueous solutions	880
C23C  22/03	・・	りん化合物を含むもの［４］	containing phosphorus compounds	386
C23C  22/04	・・	６価クロム化合物を含むもの［４］	containing hexavalent chromium compounds	91
C23C  22/05	・	水溶液を使用するもの［５］	using aqueous solutions	1660
C23C  22/06	・・	ｐＨ＜６の酸性水溶液を用いるもの［４，５］	using aqueous acidic solutions with pH &lt; 6	907
C23C  22/07	・・・	りん酸塩を含むもの［４，５］	containing phosphates	2737
C23C  22/08	・・・・	オルトりん酸塩を含むもの［４，５］	Orthophosphates	1373
C23C  22/10	・・・・・	酸化剤を含むもの［４，５］	containing oxidants	334
C23C  22/12	・・・・・	亜鉛のカチオンを含むもの［４，５］	containing zinc cations	876
C23C  22/13	・・・・・・	硝酸または亜硝酸のアニオンをさらに含むもの［４，５］	containing also nitrate or nitrite anions	554
C23C  22/14	・・・・・・	塩素酸アニオンをさらに含むもの［４，５］	containing also chlorate anions	126
C23C  22/16	・・・・・・	過酸化物をさらに含むもの［４，５］	containing also peroxy-compounds	98
C23C  22/17	・・・・・・	有機酸をさらに含むもの［４，５］	containing also organic acids	363
C23C  22/18	・・・・・	マンガンカチオンを含むもの［４，５］	containing manganese cations	765
C23C  22/20	・・・・・	アルミニウムカチオンを含むもの［４，５］	containing aluminium cations	357
C23C  22/22	・・・・・	アルカリ土類金属のカチオンを含むもの［４，５］	containing alkaline earth metal cations	549
C23C  22/23	・・・・	縮合りん酸塩を含むもの［４，５］	Condensed phosphates	304
C23C  22/24	・・・	６価クロム化合物を含むもの［４，５］	containing hexavalent chromium compounds	1808
C23C  22/26	・・・・	有機化合物をさらに含むもの［４，５］	containing also organic compounds	183
C23C  22/27	・・・・・	酸を含むもの［４，５］	Acids	183
C23C  22/28	・・・・・	高分子化合物を含むもの［４，５］	Macromolecular compounds	335
C23C  22/30	・・・・	３価クロムをさらに含むもの［４，５］	containing also trivalent chromium	795
C23C  22/32	・・・・	粉末状金属をさらに含むもの［４，５］	containing also pulverulent metals	57
C23C  22/33	・・・・	りん酸塩をさらに含むもの［４，５］	containing also phosphates	611
C23C  22/34	・・・	ふっ化物または錯ふっ化物を含むもの［４，５］	containing fluorides or complex fluorides	2338
C23C  22/36	・・・・	りん酸塩をさらに含むもの［４，５］	containing also phosphates	1377
C23C  22/37	・・・・	６価クロム化合物をさらに含むもの［４，５］	containing also hexavalent chromium compounds	356
C23C  22/38	・・・・・	りん酸塩をさらに含むもの［４，５］	containing also phosphates	196
C23C  22/40	・・・	モリブデン酸塩，タングステン酸塩またはバナジン酸塩を含むもの［４，５］	containing molybdates, tungstates or vanadates	931
C23C  22/42	・・・・	りん酸塩をさらに含むもの［４，５］	containing also phosphates	816
C23C  22/43	・・・・	６価クロム化合物をさらに含むもの［４，５］	containing also hexavalent chromium compounds	90
C23C  22/44	・・・・	ふっ化物または錯ふっ化物をさらに含むもの［４，５］	containing also fluorides or complex fluorides	755
C23C  22/46	・・・	しゅう酸塩を含むもの［４，５］	containing oxalates	496
C23C  22/47	・・・・	りん酸塩をさらに含むもの［４，５］	containing also phosphates	246
C23C  22/48	・・・	りん酸塩，６価クロム化合物，ふっ化物もしくは錯ふっ化物，モリブデン酸塩，タングステン酸塩，バナジン酸塩またはしゅう酸塩を含まないもの［４，５］	not containing phosphates, hexavalent chromium compounds, fluorides or complex fluorides, molybdates, tungstates, vanadates or oxalates	936
C23C  22/50	・・・・	鉄または鉄を基とする合金の処理［４，５］	Treatment of iron or alloys based thereon	1304
C23C  22/52	・・・・	銅または銅を基とする合金の処理［４，５］	Treatment of copper or alloys based thereon	668
C23C  22/53	・・・・	亜鉛または亜鉛を基とする合金の処理［４，５］	Treatment of zinc or alloys based thereon	950
C23C  22/54	・・・・	耐火金属または耐火金属を基とする合金の処理［４，５］	Treatment of refractory metals or alloys based thereon	126
C23C  22/56	・・・・	アルミニウムまたはアルミニウムを基とする合金の処理［４，５］	Treatment of aluminium or alloys based thereon	1055
C23C  22/57	・・・・	マグネシウムまたはマグネシウムを基とする合金の処理［４，５］	Treatment of magnesium or alloys based thereon	321
C23C  22/58	・・・・	その他金属質材料の処理［４，５］	Treatment of other metallic material	255
C23C  22/60	・・	ｐＨ＞８のアルカリ性水溶液を用いるもの［４，５］	using alkaline aqueous solutions with pH > 8	1025
C23C  22/62	・・・	鉄または鉄を基とする合金の処理［４，５］	Treatment of iron or alloys based thereon	873
C23C  22/63	・・・	銅または銅を基とする合金の処理［４，５］	Treatment of copper or alloys based thereon	577
C23C  22/64	・・・	耐火金属または耐火金属を基とする合金の処理［４，５］	Treatment of refractory metals or alloys based thereon	159
C23C  22/66	・・・	アルミニウムまたはアルミニウムを基とする合金の処理［４，５］	Treatment of aluminium or alloys based thereon	871
C23C  22/67	・・・・	６価クロムを含む溶液によるもの［４，５］	with solutions containing hexavalent chromium	86
C23C  22/68	・・	ｐＨ６〜８の水溶液を用いるもの［４，５］	using aqueous solutions with pH between 6 and 8	1993
C23C  22/70	・	溶融物を用いるもの［４］	using melts	123
C23C  22/72	・・	鉄または鉄を基とする合金の処理［４］	Treatment of iron or alloys based thereon	115
C23C  22/73	・	方法に特徴のあるもの［４］	characterised by the process	4324
C23C  22/74	・・	焼付け化成被覆層を得るためのもの［４］	for obtaining burned-in conversion coatings	1172
C23C  22/76	・・	スプレーにより液体を適用するもの［４］	Applying the liquid by spraying	1021
C23C  22/77	・・	被覆工程の制御または調整［４］	Controlling or regulating of the coating process	871
C23C  22/78	・	被覆される材料の前処理［４］	Pretreatment of the material to be coated	3795
C23C  22/80	・・	チタニウムまたはジルコニウム化合物を含む溶液によるもの［４］	with solutions containing titanium or zirconium compounds	355
C23C  22/82	・	後処理［４］	After-treatment	1812
C23C  22/83	・・	化学的後処理［４］	Chemical after-treatment	2113
C23C  22/84	・・	染色［４］	Dyeing	253
C23C  22/86	・	被覆浴の再生［４］	Regeneration of coating baths	743
C23C  24/00		無機質粉末から出発する被覆（溶融状態にある被覆材料のスプレーＣ２３Ｃ４／００；固相拡散Ｃ２３Ｃ８／００〜Ｃ２３Ｃ１２／００）［４］	Coating starting from inorganic powder(spraying of the coating material in molten state <b>C23C4/00</b>              ; solid state diffusion <b>C23C8/00 to C23C12/00</b>               )	1859
C23C  24/02	・	圧力のみを加えることによるもの［４］	by application of pressure only	459
C23C  24/04	・・	粒子の衝撃析出または動力学的析出［４］	Impact or kinetic deposition of particles	4439
C23C  24/06	・・	粉末状被覆物質を加圧するもの，例．圧延によるもの［４］	Compressing powdered coating material, e.g. by milling	315
C23C  24/08	・	熱または圧力と熱の適用によるもの（Ｃ２３Ｃ２４／０４が優先）［４］	by application of heat or pressure and heat(<b>C23C24/04</b> takes precedence)	3868
C23C  24/10	・・	層内で液相の中間形成によるもの［４］	with intermediate formation of a liquid phase in the layer	12603
C23C  26/00		グループＣ２３Ｃ２／００〜Ｃ２３Ｃ２４／００に分類されない被覆［４］	Coating not provided for in groups <b>C23C2/00 to C23C24/00</b> 	11848
C23C  26/02	・	基板に溶融材料を適用するもの［４］	applying molten material to the substrate	1952
C23C  28/00		メイングループＣ２３Ｃ２／００からＣ２３Ｃ２６／００の単一のメイングループに分類されない方法によるかまたはサブクラスＣ２３ＣおよびＣ２５Ｄに分類される方法の組合わせによる少なくとも２以上の重ね合わせ被覆層を得るための被覆［４］	Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of main groups <b>C23C2/00 to C23C26/00</b> , or by combinations of methods provided for in subclasses <b>C23C</b> and <b>C25D</b>	18660
C23C  28/02	・	金属質材料のみの被覆［４］	only coatings of metallic material	5953
C23C  28/04	・	無機質非金属材料のみの被覆［４］	only coatings of inorganic non-metallic material	4844
C23C  30/00		金属材料の組成にのみ特徴のある金属質材料による被覆，すなわち被覆方法に特徴のないもの（Ｃ２３Ｃ２６／００，Ｃ２３Ｃ２８／００が優先）［４］	Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process(<b>C23C26/00</b>, <b>C23C28/00</b> take precedence)	9800
