H05H1/00	プラズマの発生；プラズマの取扱い
H05H1/0006	｛プラズマの調査，例．イオン化の度合い（電子温度）｝
H05H1/0012	｛放射線を使用するもの｝
H05H1/0018	｛細部｝
H05H1/0025	｛光電手段を使用するもの（Ｈ０５Ｈ１／００３１ないしＨ０５Ｈ１／００４３が優先する）｝
H05H1/0031	｛干渉計測定によるもの｝
H05H1/0037	｛分光技術によるもの（Ｇ０１Ｎ３／００を参照）｝
H05H1/0043	｛赤外または紫外の放射線を使用するもの｝
H05H1/005	｛エックス線またはアルファ線を使用するもの（Ｇ０１Ｎ２３／００を参照）｝
H05H1/0056	｛中性子を使用するもの（Ｇ０１Ｎ２３／００を参照）｝
H05H1/0062	｛マイクロ波を使用するもの（Ｇ０１Ｎ２３／３４(ＥＣＬＡ)を参照）｝
H05H1/0068	｛熱的手段によるもの（Ｇ０１Ｎ２５／００を参照）｝
H05H1/0075	｛ラングミュア探針｝
H05H1/0081	｛電気的手段によるもの（Ｇ０１Ｎ２７／００，Ｇ０１Ｒを参照）｝
H05H1/0087	｛磁気的手段によるもの（Ｇ０１Ｎ２７／００，Ｇ０１Ｒを参照）｝
H05H1/0093	｛音響手段によるもの，例．超音波手段（Ｇ０１Ｎ２９／０２を参照）｝
H05H1/01	
H05H1/02	電界または磁界あるいはそれらによってプラズマを閉じ込めるための装置；プラズマを加熱するための装置（電子光学Ｈ０１Ｊ）　｛例．核融合反応を行うため｝
H05H1/03	静電界を用いるもの
H05H1/04	プラズマ中の放電によって発生する磁界を用いるもの
H05H1/06	直線ピンチプラズマ発生装置
H05H1/08	誘導ピンチ（θピンチ）プラズマ発生装置　｛例．スキュラ｝
H05H1/10	外部印加磁場のみを使用するもの　｛例．Ｑマシン，イン−ヤン，ベースボール｝
H05H1/105	｛磁気ポンプを使用するもの｝
H05H1/11	カスプ配位を使用するもの（Ｈ０５Ｈ１／１４が優先する）
H05H1/12	閉ループ｛または閉ループに近い｝形状の容器を用いるもの，例．ステラレータ　｛トカマク，逆電界または逆磁界｝
H05H1/14	容器が直線状で磁気鏡をもつもの　｛電子反射鏡Ｇ２１Ｋ１／０８Ｂ(ＥＣＬＡ)｝
H05H1/16	外部に適用された電界と磁界を使用するもの
H05H1/18	超高周波，例．マイクロ波領域，の振動電界および磁界を用いるもの　｛例．サイクロトロン共鳴を使用するもの｝
H05H1/20	オーム加熱
H05H1/22	入射加熱のためのもの　｛例．中性ビーム入射｝
H05H1/24	プラズマの発生　｛レーザビームを使用するものＨ０５Ｈ１／２２Ｂ(ＥＣＬＡ)；Ｆ０３Ｈ１／００を参照｝；｛荷電粒子ビームを使用するものＨ０５Ｈ１／２２Ｃ(ＥＣＬＡ)｝
H05H1/2406	
H05H1/2418	
H05H1/2425	
H05H1/2431	
H05H1/2437	
H05H1/2439	
H05H1/2441	
H05H1/2443	
H05H1/245	
H05H1/246	
H05H1/2465	
H05H1/247	
H05H1/2475	
H05H1/2481	
H05H1/2487	
H05H1/2493	
H05H1/26	プラズマトーチ　｛絞りアークによる金属加工Ｂ２３Ｋ１０／００，Ｈ０５Ｈ１０／０２(ＥＣＬＡ)；金属溶射４８Ｂ２１，Ｂ０５Ｂ７／１８，Ｂ０５Ｂ７／２０，７５Ｃ３０Ｄ｝
H05H1/28	冷却装置
H05H1/30	電磁界を用いるもの，例．高周波またはマイクロ波エネルギー（Ｈ０５Ｈ１／２８が優先する）
H05H1/32	アークを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２８が優先する）
H05H1/34	細部，例．電極，ノズル　｛Ｂ２３Ｋ９／２４参照｝
H05H1/3405	｛アークの安定化または絞り装置，例．添加ガスフローによるもの（外部に加えられた磁界によるものＨ０５Ｈ１／４０；粉末または液体を使用するものＨ０５Ｈ１／４２；同軸保護液体を使用するものＨ０５Ｈ１／３４１；（Ｂ２３Ｋ９／０６Ｃ(ＥＣＬＡ)を参照）｝
H05H1/341	｛同軸保護流体を使用するもの（アーク安定化および絞り装置Ｈ０５Ｈ１／３４０５；プラズマ中への被加熱材の導入Ｈ０５Ｈ１／４２；（Ｂ２３Ｋ９／２８Ｃ２(ＥＣＬＡ)およびＢ２３Ｋ９／１６を参照）｝
H05H1/3421	
H05H1/3423	
H05H1/3425	
H05H1/3431	
H05H1/3436	
H05H1/3442	
H05H1/3447	
H05H1/3452	
H05H1/3457	
H05H1/3463	
H05H1/3468	
H05H1/3473	
H05H1/3478	
H05H1/3484	
H05H1/3489	
H05H1/3494	
H05H1/36	回路装置（Ｈ０５Ｈ１／３８，Ｈ０５Ｈ１／４０が優先する　｛Ｂ２３Ｋ９／０９，Ｂ２３Ｋ９／１０を参照｝
H05H1/38	電極の案内またはセンタリング
H05H1/40	印加磁界を用いるもの，例．アークを集束または回転させるためのもの　｛Ｂ２３Ｋ９／０８，Ｂ２３Ｋ９／０６Ｃ５(ＥＣＬＡ)を参照｝
H05H1/42	プラズマ中に材料，例．粉末，液体，を導入するための設備を有するもの（静電噴霧，噴霧を電気的に荷電するための手段を有する装置Ｂ０５Ｂ５／００）　｛Ｂ２３Ｋ９／３２４，Ｂ０５Ｂ７／２２を参照；アークの安定化または絞り装置Ｈ０５Ｈ１／３４０５；同軸保護流体Ｈ０５Ｈ１／３４１｝
H05H1/44	１以上のトーチを用いるもの
H05H1/46	印加電磁界を用いるもの，例．高周波またはマイクロ波エネルギー（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先する）
H05H1/461	
H05H1/4615	
H05H1/4622	
H05H1/463	
H05H1/4637	
H05H1/4645	
H05H1/4652	
H05H1/466	
H05H1/4697	
H05H1/47	
H05H1/471	
H05H1/473	
H05H1/475	
H05H1/477	
H05H1/48	アークを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先する）
H05H1/481	
H05H1/482	
H05H1/484	
H05H1/486	
H05H1/488	
H05H1/50	そして磁界を用いるもの，例．アークを集束または回転させるためのもの
H05H1/52	イクスプローディングワイヤまたはスパークギャップを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先する；スパークギャップ一般Ｈ０１Ｔ）
H05H1/54	プラズマの加速
H05H3/00	中性粒子ビーム，例．分子または原子ビームの発生または加速
H05H3/02	分子ビームまたは原子ビームの発生　｛（電荷交換装置Ｇ２１Ｋ１／１４；分極装置Ｇ２１Ｋ１／１６；被加熱材の分析または調査のために共鳴または分子ビームを使用するものＧ０１Ｎ２４／００２；原始時計Ｇ０４Ｆ５／１４；ビームメーザＨ０１Ｓ１／０６）｝
H05H3/04	電磁波圧力による加速
H05H3/06	中性子ビームを発生するもの（核反応を起すためのターゲットＨ０５Ｈ６／００；中性子源Ｇ２１Ｇ４／０２）
H05H5/00	直流電圧型加速器；単一パルスを使用する加速器（Ｈ０５Ｈ３／０６が優先する）
H05H5/02	細部（核反応を起こすためのターゲットＨ０５Ｈ６／００）
H05H5/03	加速管（容器表面に改良されたポテンシャル分布を有する放電管のうつわまたは容器Ｈ０１Ｊ５／０６；うつわまたは容器に組み合わされたＸ線管の遮へいＨ０１Ｊ３５／１６）
H05H5/04	静電発電機により，例．バンデグラフ発電機により，加速されるもの
H05H5/042	
H05H5/045	
H05H5/047	
H05H5/06	タンデム型加速器；多段型加速器
H05H5/063	
H05H5/066	
H05H5/08	昇圧トランス，例．共振トランス，を使用する粒子加速器
H05H6/00	核反応を起こすための目標物（照射されるターゲットまたは物体の支持具Ｇ２１Ｋ５／０８）　｛三重水素の準備Ｃ０１Ｂ４／００｝；｛目標物，例．レーザまたは荷電粒子ビーム注入による核融合反応のためのペレットＨ０５Ｈ１／２２｝
H05H2006/002	
H05H6/005	｛分極された目標物（分極装置，例．分極イオンビームを得るためのものＧ２１Ｋ１／１６）｝
H05H2006/007	
H05H7/00	グループＨ０５Ｈ９／００，Ｈ０５１１／００，Ｈ０５Ｈ１３／００によって包含される型の装置の細部（核反応を起こすための目標物Ｈ０５Ｈ６／００）
H05H7/001	
H05H2007/002	
H05H2007/004	
H05H2007/005	
H05H2007/007	
H05H2007/008	
H05H7/02	高周波エネルギを供給するための回路および方式（高周波発生器Ｈ０３Ｂ）
H05H2007/022	
H05H2007/025	
H05H2007/027	
H05H7/04	磁石システム　｛例．アンジュレータ，ウイグラ（自由電子レーザＨ０１Ｓ３／０９０３）｝；その励振電力
H05H2007/041	
H05H2007/043	
H05H2007/045	
H05H2007/046	
H05H2007/048	
H05H7/06	２ビーム装置；多ビーム装置　｛蓄積リング｝；電子リング
H05H2007/065	
H05H7/08	粒子を軌道に入射させるための装置
H05H2007/081	
H05H2007/082	
H05H2007/084	
H05H2007/085	
H05H2007/087	
H05H2007/088	
H05H7/10	粒子を軌道から放出させるための装置
H05H7/12	ビームの最終エネルギを変更させる装置
H05H2007/122	
H05H2007/125	
H05H2007/127	
H05H7/14	真空室（Ｈ０５Ｈ５／０３が優先する）
H05H7/16	導波管型のもの
H05H7/18	空胴；共振器　｛（進行波管Ｈ０１Ｊ２３／１８；ハイパー周波数空洞一般Ｈ０１Ｐ７／０４；Ｈ０１Ｐ７／０６）｝
H05H7/20	超電導壁を有するもの
H05H7/22	線形加速器の細部，例．ドリフト管（Ｈ０５Ｈ７／０２からＨ０５Ｈ７／２０が優先する）
H05H2007/222	
H05H2007/225	
H05H2007/227	
H05H9/00	線形加速器（Ｈ０５Ｈ１１／００が優先する）
H05H9/005	
H05H9/02	進行波型線形加速器　｛進行波管Ｈ０１Ｊ２５／３４｝
H05H9/04	定在波型線形加速器
H05H9/041	
H05H9/042	
H05H9/044	
H05H9/045	
H05H9/047	
H05H9/048	
H05H11/00	磁気誘導型加速器，例．ベータトロン
H05H11/02	空心型ベータトロン
H05H11/04	偏倚型ベータトロン
H05H13/00	磁気共振型加速器；サイクロトロン　｛（ストロホトロン，タービン管Ｈ０１Ｊ２５／６２）｝
H05H13/005	
H05H13/02	シンクロサイクロトロン，すなわちＦＭサイクロトロン
H05H13/04	シンクロトロン
H05H13/06	空心型磁気共振型加速器
H05H13/08	ＡＧ磁気共振型加速器
H05H13/085	
H05H13/10	荷電粒子を最初の加速部に平行な軌道に戻すための１つまたは複数の線型加速部および湾曲磁石または類似のものから成る加速器，例．マイクロトロン
H05H15/00	荷電粒子の他に分類されない加速方法または装置
H05H2240/00	
H05H2240/10	
H05H2240/20	
H05H2242/00	
H05H2242/10	
H05H2242/20	
H05H2242/22	
H05H2242/24	
H05H2242/26	
H05H2245/00	
H05H2245/10	
H05H2245/15	
H05H2245/17	
H05H2245/20	
H05H2245/30	
H05H2245/32	
H05H2245/34	
H05H2245/36	
H05H2245/40	
H05H2245/42	
H05H2245/50	
H05H2245/60	
H05H2245/70	
H05H2245/80	
H05H2277/00	
H05H2277/10	
H05H2277/11	
H05H2277/113	
H05H2277/116	
H05H2277/12	
H05H2277/13	
H05H2277/14	
H05H2277/1405	
