特許行政年次報告書2018年度版

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特許行政年次報告書2018年版89第4章第3章第2章第１部・知的財産をめぐる動向第1章第5章1-5-41図 成膜方法・装置の技術区分別－出願人国籍（地域）別ファミリー件数（日米欧中韓への出願、出願年（優先権主張年）：2010-2015年）日本欧州出願人国籍（地域）優先権主張 2010－2015年米国中国韓国その他蒸着法技術区分スパッタ法CVD法ALD法乾式湿式OVJP法OVPD法乾式一般印刷法インクジェット法スプレー法塗布法電着法不溶化の技術低分子材料の可溶化湿式一般1441441442228886262627878783339999991919198882626261291291295553939399991515151212124242427771111010102229993535353339992727273939392228888883331111414143434344343434545456662020202828285454541271271271010104646465559991111114141411112020204242421121121121331331331515151111111111116664747472223334442222224040408881212121919192121213331631631631212124545455353537575756666746746743563563561,1991,1991,199393939383838262626238238238334334334625625625（資料）特許庁「平成29年度特許出願動向調査報告書―有機EL装置―」