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令和元年8月15日から16日にかけて、チリ・プエルトバラスにおいて第49回APEC知的財産権専門家会合(APEC/IPEG: Intellectual Property Rights Experts Group)が開催されました。
会合には、日本の他、ロシア、中国、タイ、台湾、韓国、フィリピン、マレーシア、パプアニューギニア、豪州、米国、カナダ、メキシコ、ペルー、チリの計15エコノミーの代表者が出席しました(香港、インドネシア、シンガポール、ベトナム、ブルネイ、ニュージーランド欠席)。
特許庁より、特許等の権利によって紛争が起きても、大切な技術が守れるよう、「中立な技術専門家が現地調査を行う制度の設立」、「損害賠償額算定方法の見直し」の法改正を行った旨説明した。
特許庁より、デジタル技術を活用したデザインの保護や、ブランド構築のための意匠制度等を強化するため、「保護対象の拡充」、「関連意匠制度の見直し」、「間接侵害規定の拡充」の法改正を行った旨説明した。
次回のIPEG会合は2020年2月頃にクアラルンプール(マレーシア)にて開催される予定です。
[更新日 2019年9月6日]
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