第17回日中特許庁長官会合の結果概要

〈日中特許庁長官会合にて 左より岩井長官、SIPO田局長〉

1.日程

2010年12月2日（木曜日）

2.場所

奈良県奈良市（奈良県新公会堂）

3.出席者

• 日本国特許庁(JPO)：岩井良行 長官 他
• 中国国家知識産権局(SIPO)：田力普(ティエン・リープー) 局長 他

4.会合の経緯

JPOとSIPOは、1978年に知的財産分野における協力を開始していますが、1994年からは日中特許庁長官会合を開催し、両庁の施策・各種統計に関する情報交換を行っており、今回は、第17回目の会合となります。

5.会合の概要

(1) 特許審査ハイウェイ(PPH)

日中PPHの試行実施に向けた交流を継続していくことに合意しました。また、PCT-PPHについてもSIPO側より、五庁の枠組みに参加したいとの積極的な意向が表明されました。

(2) 日中意匠専門家会合の創設

これまで日中審判会合の枠組みで行ってきた両庁間の意匠分野における協力を、今後は両庁の意匠審査部及び審判部が参加する日中意匠専門家会合を新たに立ち上げることに合意しました。

(3) 審査指南セミナーの開催

両庁及び両庁の人材育成機関が連携して、中国の専利審査指南（特許・実用新案・意匠の審査基準）に関するセミナーを来年日本で開催することに合意しました。

［更新日　2010年12月21日］

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