第7回日中商標長官会合の結果概要

2009年1月8日に中国・北京において、日本国特許庁（JPO）と中国商標局（CTMO）との間で第7回日中商標長官会合が開催されました。

日中商標長官会合は、日中両国が互いの商標制度への理解を深め、両国の交流を促進するために、1996年12月、第1回会合が北京において開催され、その後、日中交互に開催されています。

本会合では、商標出願手続に関するシンポジウム及び模倣品対策のためのセミナーの開催等、様々なレベルでの協力関係を強化することに合意しました。また、我が国の地名、地域ブランド等が中国において第三者により商標出願・登録されている問題について、公平、適切な審査を実施するように要請を行いました。

また、今後も両庁間での定期的な長官会合の開催に合意しました。

1.出席者

• 日本国特許庁（JPO）：鈴木長官、小柳国際課長　他
• 中国商標局（CTMO）：李（リ）局長、劉（リュー）副局長、彭（パン）総合処処長、陳（チェン）案件指導処処長　他
  

2.主要議題及び結果概要

(1)最近の状況

相互にプレゼンテーションを行った上で意見交換を実施しました。JPOよりは、我が国の商標出願動向、審査処理施策、商標関連施策について説明しました。

CTMOよりは、年間70万件台の世界一の出願件数に対応するため、部署の新設（5部門）、審査官アシスタントの採用（2007年300名）を行い、処理能力の強化し審査期間の短縮化を図る予定との説明がありました（2010年までに段階的に審査期間を短縮し1年以内とする計画）。

また、インフラ整備を重要視するとの観点から、新庁舎建設予算（約3億7千万元（約50億円））が認められたとの説明がありました。

(2)中国の商標法改正案

CTMOは、2009年前半にその上部組織である国家工商行政管理総局(SAIC)から国務院法制弁公室に商標法改正案を提出するべく検討しているとのことです。

また、我が国産業界の関心事項である相対的拒絶理由（先に出願された商標の存在を理由とする拒絶等）の職権審査については、CTMOとしてこれを維持したいという考えであることを表明しました。

(3)両庁による協力事業

関係企業等を対象とした商標出願手続シンポジウムの開催、地方の模倣品対策に係る全省地方工商行政管理局（AIC）担当者セミナーの開催に合意しました。

(4)日本の地名、地域ブランド、周知商標、普通名称が中国で第三者により商標登録・出願されている問題

JPOより、これらの問題について、公平、適切な審査、迅速な解決を要請しました。これに対してCTMOは、お互い文化的にも近い隣国であることを考慮して、日本の地名等の出願については法律に基づいてより厳格に判断を行う旨を表明しました。

また、日本側の情報提供や普及啓蒙活動により中国商標制度がより良いものとなっていくと言及しました。

［更新日　2009年2月4日］