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「第5回日中商標長官会合」について

平成16年3月
特許庁

第5回日中商標長官会合

2003年11月14日に中国北京において、中国国家工商行政管理総局商標局(Trademark Office under the State Administration for Industry and Commerce:CTMO)との間で第5回日中商標長官会合が開催されました。
商標局との会合については、日中両国が互いの商標制度への理解を深め、両国の交流を促進するために、1996年12月、第1回日中商標長官会合が北京において開催され、その後日中交互に開催されています。今次会合では、両庁における審査処理状況や周知商標の保護などに関し、意見交換・情報交換が行われました。

日程

2003年11月14日(金曜日)

場所

国家工商行政管理総局商標局会議場(中国北京)

出席者

  • (日本側) 今井特許庁長官、山田商標課長、櫻井国際課長他
  • (中国側) 安商標局長、李商標局綜合処長他

概要

1.双方の最近の状況報告

中国側より、商標出願が急増しており、我が国の処理促進の経験を参考にしたい旨発言があり、我が国が講じた処理促進策(サーチ外注、機械化の促進、審査官の増員)について紹介し、その結果、処理期間を大幅に短縮化したことを説明しました。

2.周知商標の保護

我が方より、我が国における周知商標の保護状況・保護規定等を説明し、併せて特許電子図書館(IPDL)で公表している(我が国の数多くある周知商標のごく一部である)日本国周知・著名商標を紹介し、その活用を求めました。中国よりは、近年改正された周知商標の保護に関する各種規定・手続等について説明がありました。

3.人材育成

我が方より、これまでの日中間の人材交流の実績を紹介したところ、中国より、研修生受入に対する謝辞と、今後の受入について要請がありました。

4.商標「青森」

我が方より、現在、中国商標局において異議係属中の商標「青森」について、公正かつ適正な裁定が行われるよう注意を払っていただきたい旨、安局長に要請しました。

5.その他

我が方より、デッドコピー(形態模倣)規制に関する規定の必要性及び中国における日本企業の商標審判等遅延案件に関する迅速な処理について理解を求めました。また、双方は、実務者レベルの交流の必要性を再確認しました。

[更新日 2004年4月9日]

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