「第11回日中特許庁長官会合」について

平成16年12月
特許庁

日程

2004年11月29日（月曜日）

場所

特許庁特別会議室

出席者

• （日本側）小川長官、小野技監他
• （中国側）王局長、焦弁公室司長他

概要

（1）日中特許庁協力

日本国特許庁（Japan Patent Office：JPO）より、部長級の管理者の派遣や専門家の派遣、研修生の受入、日本企業による中国国家知識産権局（State Intellectual Property Office：SIPO）審査官への最新技術研修の協力等、JPOがこれまで行いました中国やSIPOに対する人材育成協力の紹介をしましたところ、SIPOより引き続き協力をお願いしたい旨要請があり、またJPOに対する感謝の意が表明されました。さらにSIPOより、統計や審判に関する交流の提案がなされ、今後両庁で具体的に調整を行うこととなりました。

（2）知的財産戦略

JPOより、日本の知的財産戦略の最新状況を紹介しつつ、特許における外国語（英語）出願制度、優先審査制度、新規性判断基準における外国公用の採用等が審査の質及び迅速性を高めるのに有用である点を紹介しました。これに対し、SIPOより知的財産の創造及び保護を拡充するための政策を策定するよう国務院に要望している旨の説明があり、また日本の知的財産戦略を高く評価している旨発言がありました。

（3）知的財産保護を強化する対策（模倣品対策）

JPOより、国際知的財産保護フォーラムの活動、北京や上海で組織されている知的財産権問題検討グループの活動、普及啓発活動など、模倣品に対する取り組みを紹介するとともに、中国の関係機関による努力の成果が上がることへの期待を表明しました。これに対し、SIPOより、日本の取り組みに関心を示しつつ、知財の保護強化は中国自身を利するものであるため政府は力を入れている点、取締りについて2003年の保護白書中に具体的なデータがある点、中国の刑法が知財犯罪に最高懲役7年を設定しているのは世界的にみてハイレベルの保護である点、普及啓発活動にも力を入れている点について紹介がありました。

（以上）

［更新日　2004年12月27日］

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