第16回 日韓特許庁長官会合について

平成17年1月
特許庁

I.開催日・場所

2005年1月7日（金曜日）　韓国特許庁（韓国・テジョン）

II.出席者

• 日本国特許庁（JPO）：小川長官、米津国際課長他
• 韓国特許庁（KIPO）：金庁長、安国際協力課長他

III.結果概要

1.マルチの場での連携強化

これまで行われてきた両庁間協力の成果を確認し合うとともに、今後はWIPO （世界知的所有権機関）等マルチの会合の場における協力など、より戦略的な協力関係を構築していくことになりました。

2.先行技術調査・審査結果の相互利用の推進

特許審査官の相互派遣

1999年度よりプラズマ・ディスプレイ・パネルやオンラインビジネス手法を含む6つの技術分野で行ってきた先行技術の共同調査事業・審査を評価し、その運用のより一層の調和を目指して、特許審査官の両庁間における相互派遣を今後も継続し、調査結果・審査結果に対する信頼性を更に醸成していく必要があることを確認しました。

先行技術調査・審査結果の相互提供のためのシステム構築

JPOでは、外国特許庁に審査手続情報を提供するためのドシエ（審査手続書類）・アクセス・システムとして、昨年、高度産業財産ネットワークを開発・リリースしていますが、KIPOでも同様のシステムを開発中であり、両庁の審査情報相互利用のためJPOが協力し、より効率的なシステムの構築を目指すことになりました。

3.模倣品対策

昨年、韓国不正競争防止法にデッドコピー規制が導入されたことを、JPOは歓迎しつつ、KIPO側の更なる取組みを要請しました。また、エンフォースメントに関する国際シンポジウム・キャンペーンの開催をJPOが提案したところ、KIPO側から全面的な賛同が表明されました。

以上

［更新日　2005年2月8日］

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