第18回日韓特許庁長官会合の結果概要

1.開催日

2006年11月27日（月曜日）

2.場所

日本国特許庁 特別会議室

3.出席者

• （JPO）　中嶋誠長官、守屋特許技監、小林国際課長、他
  
• （KIPO）　全湘雨庁長、崔圭浣国際協力課長、他

4.日韓特許庁長官会合とは

日本国特許庁（Japan Patent Office：JPO）と韓国特許庁（Korean Intellectual Property Office：KIPO）は、日韓両庁間の協力や両庁に共通する課題の解決に向けた意見交換を行うことを目的として、1983年の第1回会合以降、原則として毎年持ち回りで日韓特許庁長官会合を開催しています。

5.結果概要

左：KIPO全湘雨庁長　右：JPO中嶋長官

（1)日韓特許審査ハイウェイの開始

「日韓特許審査ハイウェイ（注）」について、韓国での大統領令の改正が完了し、両国の審査経過を相互に参照するシステムの開発完了の目処が立ったことから、開始日を2007年4月1日とすることで合意しました。

（2）特許審査官会合の開催

上記特許審査ハイウェイをはじめとしたサーチ・審査結果の相互利用の進展に向けて、両庁審査官の相互理解を醸成するべく、日韓両国の特許審査官どうしの意見交換を実施することで意見が一致しました。（日韓間では、これまで、商標審査官会合、意匠審査官会合、機械化専門家会合等を実施しております。）

（3）特許制度の国際調和への協力

先進国間で検討中の特許制度の国際調和に向けて、日韓で歩調を合わせて対応していくことで意見が一致しました。（11月21,22日に東京で開催された特許制度調和に関する先進国会合に、韓国は初めてオブザーバ参加しました。）

（注）「日韓特許審査ハイウェイ」とは、日韓の一方で特許になった出願については、他方において早期審査を簡略化された手続で受けることができるようにする仕組みです。出願人は複数国での特許付与が迅速に得られ、特許庁は第1国での特許に至るサーチ・審査結果を利用することで審査処理の負担を軽減できるメリットがあります。

［更新日　2006年12月7日］

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