第19回日韓特許庁長官会合の結果概要

1.日程

2007年11月27日（火曜日）

2.場所

韓国　大田（テジョン）

3.出席者

• 日本国特許庁：肥塚長官、小柳国際課長ほか
• 韓国特許庁：全湘雨　韓国特許庁長、崔 国際協力チーム長ほか

4.会合の概要

（1）日韓特許審査ハイウェイの活用促進

本年4月から開始した日韓特許審査ハイウェイの活用状況を確認し、両国ユーザーの更なる活用を呼びかけることに合意。

（2）日韓審査官協議

日韓間の審査・サーチ結果に対する日韓特許庁相互の信頼感をより高めていくべく、日韓審査官協議を継続していくことに合意。

（3）特許・意匠・商標・IT化に関する専門家会合の設置

日韓の協力を深化させるために、特許、商標、意匠、IT化の4分野において、これまで継続してきた審査官会合での議論をさらに深化させるべく、それぞれ専門家会合として新たに設置することに合意。特に、IT化分野については、審査データベース等に係る日米欧三極のネットワーク（三極ネット）にKIPOが参加し、三極とKIPOの間での優先権証明書の電子的交換を来年4月中に開始することに合意。

（4）中国における知財保護強化に向けた日韓協力の強化

日中韓三庁において検討中の「日中韓協力ロードマップ」の策定、日中韓三庁共催の中小企業セミナー開催等の中国を含む知財保護強化に向けて協力を推進。

（5）APEC、五大特許庁会合等における協力の推進

日米韓星の四カ国で提案し本年9月に合意された「特許取得手続きにおけるAPEC協力イニシアティブ」に基づき、日韓両国が取組みの具体化に向け共同していくことを確認。また本年5月より開始された日米欧中韓の五大特許庁の長官会合等、多国間での知財保護強化に向けた取組みにおいても、日韓両国が協力して推進役となっていくことに合意。

［更新日　2007年11月28日］

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