第7回日中韓特許庁長官会合の結果概要

1.日程

2007年12月10日（月曜日）

2.場所

東京

3.出席者

• 日本国特許庁：肥塚長官、守屋技監ほか
• 中国国家知識産権局：田局長ほか
• 韓国特許庁：全庁長ほか

4.会合の概要

（1）サーチ・審査結果の相互利用に向けた日中韓特許協力ロードマップの策定

日本国特許庁が審査の効率化、特許の質の向上を図っていく上で、日中韓三庁間でのワークロードの軽減を行うことが重要。「サーチ・審査結果の相互利用」を中期的目標としたIT化、審査実務、及び制度のそれぞれの側面における三庁間で段階的に実現すべき具体的なアクションを明示した日中韓特許協力ロードマップを三庁間で合意。

（2）中国訪問団を迎えての三庁間協力による中小企業支援

中国から中小企業担当者及び地方知財行政担当部署の訪問団を東京に初めて受け入れ、平成20年3月10日（月曜日）に、日本国特許庁で中小企業支援セミナーを開催予定。知的財産制度の重要性の理解を深め、中小企業のための知的財産権制度の整備を促し、中小企業の支援につなげるために、日中韓各国政府の中小企業支援施策を紹介した上、各国中小企業経営者等より、知的財産権の活用と管理に関する経験を紹介。加えて、中小企業の知財をめぐる状況について意見交換を行う。

（3）日中韓協力によるIT化支援

海外に進出している産業界のために、権利取得の早期化、審査の質の向上などを支えるITインフラの進展に各国特許庁で協力していくことが重要。これまで過去五回の日中韓機械化専門家会合において、日中韓三庁ウェッブサイトの構築、統計データの交換開始などの成果をあげ、協力を行ってきた。今後も更なる進展に向け、引き続き会合を継続することに合意。

［更新日　2007年12月11日］

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