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第6回日中韓商標専門家会合・ユーザーシンポジウムを開催しました

2024年9月19日

8月28日に、第6回日中韓商標専門家会合が韓国のソウルで開催され、日本国特許庁(JPO)は、中国国家知識産権局(CNIPA)及び韓国特許庁(KIPO)と各庁における最新施策及び近年の商標法改正内容について情報交換を行いました。

また、同日に各国のユーザーを対象にしたユーザーシンポジウムを開催しました。シンポジウムには約100名のユーザーがオンラインで参加し、各庁は最新施策及び周知商標保護をテーマにプレゼンテーションを行いました。

今後もJPOは、CNIPA及びKIPOとの協力関係を継続していくと共に、ユーザーへの情報発信を積極的に進めてまいります。

(写真1)各庁代表者の集合写真 (左から順にシュ商標局一級巡視員(CNIPA)、ナム商標審査政策課長(KIPO)、根岸商標課長(JPO))
各庁代表者の集合写真
(左から順にシュ商標局一級巡視員(CNIPA)、ナム商標審査政策課長(KIPO)、
根岸商標課長(JPO))

(写真2)各庁の参加者
各庁の参加者

(写真3)会合の様子
会合の様子

[更新日 2024年9月19日]