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第10回意匠五庁(ID5)年次会合を日本で開催しました
-生成AI等の新技術がもたらすデザイン保護の新たな課題への関心が高まっています-

2024年12月25日

12月12日、日本国特許庁(JPO)は日米欧中韓による意匠五庁(ID5)の第10回年次会合を、WIPOをオブザーバーに迎え、神奈川県箱根町にて開催しました。JPOからは小野長官及び野仲審査第一部長が出席しました。

本会合では、メタバースや生成AIなどの新技術の発展による、意匠についての新たな課題の重要性を認識し、各庁が引き続き協力を進めていくことを確認しました。

また、JPOが主導する2のプロジェクトを含む既存の10の協力プロジェクトについて、成果の確認と今後の進め方について議論を行うとともに、JPOが新規提案した「新技術がもたらす意匠制度の課題」プロジェクト及び、中国国家知識産権局(CNIPA)/欧州連合知的財産庁(EUIPO)が新規提案した「デジタルデザイン出願のためのユーザーガイド」プロジェクトが採択されました。

翌13日には、国内外の業界団体・代理人団体等の意匠制度ユーザーを対象とした、ID5ユーザーセッションを対面・オンライン形式で開催しました。各庁から最新の施策状況等を報告したほか、「デザインを巡る今日的諸相 ~生成AI、インターネット上の侵害等~」をテーマとして各国ユーザー代表者等が講演を行い、意見交換を実施しました。

そして、2025年におけるID5の会合は、米国特許商標庁(USPTO)が主催することで合意しました。

JPOは、我が国の優れた意匠が世界でより適切に保護、活用されるための環境の整備に向けて、引き続きID5の取組を進めて参ります。

(写真)各庁及びWIPO代表者の集合写真(小野長官(中央)、野仲審査第一部長(右端))
各庁及びWIPO代表者の集合写真
(小野長官(中央)、野仲審査第一部長(右端))

(写真)小野長官による歓迎の挨拶
小野長官による歓迎の挨拶

(写真)各庁及びWIPOの参加者
各庁及びWIPOの参加者

(写真)会合の様子
会合の様子

(写真)尾曲意匠審査企画官によるプレゼンの様子
尾曲意匠審査企画官によるプレゼンの様子

(写真)ユーザーセッションにおける日本のユーザー代表者のプレゼンの様子 左側、日本知的財産協会(JIPA) 意匠委員会 柿木 智宏、右側、同会 髙比良 春平氏
ユーザーセッションにおける日本のユーザー代表者のプレゼンの様子
左側、日本知的財産協会(JIPA) 意匠委員会 柿木 智宏、右側、同会 髙比良 春平氏

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[更新日 2024年12月25日]

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