第1回意匠五庁（ID5）会合の結果について

平成27年12月7日
特許庁

世界の意匠出願の約9割を占める日本国特許庁（JPO）、米国特許商標庁（USPTO）、欧州共同体商標意匠庁（OHIM）、中国国家知識産権局（SIPO）、韓国特許庁（KIPO）の五庁による初めての意匠五庁（ID5）会合を、12月3日から4日に、米国・アレクサンドリアで開催しました。本会合では、五庁間で意匠分野での国際協力を推進していくことに合意するとともに、今後五庁が取り組むべき意匠分野における課題の共有がなされました。

左から、欧州共同体商標意匠庁（OHIM）：ネグラオ 国際協力・法務部長、
日本国特許庁（JPO）：小林審査第一部長、米国特許商標庁（USPTO）：リー長官、
韓国特許庁（KIPO）：チェ商標デザイン審査局長、中国国家知識産権局（SIPO）：何副局長

本会合では、五庁間の意匠分野での国際的な協力を推進し、今後も定期的に会合を開催していくことについて合意するとともに、五庁が取り組むべき意匠の課題や情報の共有がなされ、各庁より協力プロジェクトの提案がなされました。本会合において、以下の主要な成果がありました。

• （1）各庁の実務および統計に関する最新情報の共有
  各国の統計、品質管理、審査・登録手続きに関する情報等を共有しました。日本国特許庁（JPO）は、今後、各庁の意匠出願やファーストアクション等の統計情報を取りまとめるプロジェクトを提案し、これを主導することになりました。
• （2）意匠分類に関する情報共有と整備
  国際意匠分類は、ユーザーにとって負担が少ない権利調査を行うために重要であることから、日本国特許庁（JPO）は、各国での意匠分類の運用を整理し情報共有するプロジェクトを韓国特許庁（KIPO）と共同で提案し、これを主導することになりました。
• （3）その他の今後の議論について
  ID5ウェブサイトの開発、優先権書類の電子的交換（DAS）、GUI（グラフィカル・ユーザー・インターフェイス）をはじめとする新技術の意匠の保護等について議論が行われました。

日本国特許庁（JPO）は、我が国企業の意匠が世界各国で適切に保護、活用される環境整備に向け、意匠五庁の枠組みでの国際協力等を引き続き推進していくことにより、我が国企業のグローバルな事業活動の支援に努めてまいります。

［更新日　2017年10月30日］

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