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2019年6月27日
6月24日、日米欧中韓による意匠五庁(ID5)は、東京で、2019年のID5中間会合を開催しました。
今次会合では、冒頭、澤井審査第一部長が、我が国における今般の意匠制度改革とデザインが持つ価値への関心の高まりについて紹介し、五庁協力のさらなる深化への期待を述べました。
続いて、五庁の意匠担当者が、「ID5推奨意匠実務に関する研究」、「新規性審査におけるインターネット情報の証拠性に関する研究」、「非特許文献データ資源に関する研究」等、計12の協力プロジェクトについて、これまでの進捗及び年次会合に向けた具体的な取組の方向性とスケジュールについての確認を行いました。
また、我が国での開催となる本年のID5年次会合について、日本国特許庁から、ユーザーセッションの実施を含む開催概要の提案を行い、同提案が了承されました。
ID5会合創設から5年目の節目の年にあたる本年の年次会合は、2019年12月に、千葉県浦安市舞浜地区で開催する予定です。
澤井審査第一部長(右から3番目)、油科意匠課長(一番左)と各庁代表者
澤井審査第一部長による歓迎の挨拶
ID5中間会合参加者
[更新日 2021年3月17日]
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