第3回意匠五庁（ID5）会合開催
～意匠分野の国際協力が前進しています～

2017年12月6日

12月4日から5日、意匠分野における日米欧中韓の国際協力を推進する意匠五庁（ID5）の第3回年次会合が、スペイン・アリカンテで開催され、JPOから澤井審査第一部長が出席しました。

澤井審査第一部長と各庁代表者

今回の会合では、意匠の保護要件（保護対象となり得るデザイン創作物の範囲）、意匠出願のための図面開示要件、外国優先権の実務、意匠検索のための意匠分類、意匠出願や審査に関する統計について、五庁の制度比較調査の結果を取りまとめました。これらは今後の制度や運用の国際調和の議論に資するものとなります。あわせて、これらを今後ユーザーにも公表すること、及び、これらID5の協力活動に関する情報をユーザーと共有するためのプラットフォームとして、ID5公式ウェブサイトを設置することに合意しました。（ID5公式ウェブサイト（外部サイトへリンク））

また、今後のID5における協力として、新技術意匠（GUIに代表されるデジタル技術由来の新しいデザイン等）の保護、部分意匠やグレースピリオドの取扱いについての研究を、引き続き進めていくことを確認しました。会合2日目にはID5ユーザーセッションが開催され、新技術意匠の保護をテーマに、五庁担当者とユーザーを交えた活発な議論が行われました。

さらに、日本国特許庁は、世界54の知財庁が有する登録意匠情報をワンストップで検索可能とする「DesignView」に参加することを発表しました。これにより、我が国のユーザーは、1,300万件以上にのぼる世界の登録意匠情報を、日本語で検索することが可能となります（※）。また、世界各国のユーザーは、我が国の登録意匠情報を、日本語を含む36の言語で検索することが可能となります。
（DesignView（外部サイトへリンク））
※ 照会可能な登録意匠の蓄積数は、2017年12月現在。

我が国からは、ID5の中で唯一未加盟国である中国のハーグ協定（意匠の国際登録制度）への早期加盟に向けた期待を述べるとともに、ID5としての協力を積極的に行う用意がある旨を表明しました。

［更新日　2021年3月17日］

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