第5回意匠五庁（ID5）会合を日本で開催しました

2019年12月12日から13日にかけて、日本国特許庁は日米欧中韓の知財庁により構成される意匠五庁（ID5）の第5回年次会合を、千葉県浦安市で開催しました。

今回の会合では、意匠保護に関する国際協力の強化、法制度と実務の国際調和、ユーザーの利便性の向上につながる、以下の成果を得ました。

1 制度比較から共通実務の探求へ

ID5は、これまで、五庁の意匠制度とその実務の比較を中心に協力活動を推進し、相互理解を深めてきました。活動開始から5年目を迎えた本年、これまで培った制度比較を基に、グローバルな意匠保護が目指すべき指針となる共通意匠実務の作成に向けて努力していくことを、今後の五庁協力の重要な活動方針と位置付ける「ID5共同声明2019」を採択しました。

また、五庁のユーザー代表を交えたユーザーセッションでは、JPOとUSPTOが共同リードし、共通意匠実務作成の先駆けともなる「推奨意匠実務に関する研究」をはじめとして、より効果的でユーザーフレンドリーな意匠保護をテーマに、五庁とユーザーとの間で活発な意見交換が行われました。

2 意匠制度の国際協調に向けた継続的な取組

「優先権書類の電子的交換に関する研究」では、五庁全てが、2020年中にWIPOを通じた優先権書類の電子的交換を開始する予定であることが確認されました。これにより、優先権書類の提出に関するユーザーの利便性向上が期待されます。

また、今次会合では、以下の協力プロジェクトについても、調査研究の結果を取りまとめました。

• 優先権の実務に関する研究
• 製品表示に関する実務の比較研究
• 潜在的な経済要因及び各知財庁の施策がグローバルな意匠出願に与える影響の分析
• 3Dプリンティングと意匠保護に関する研究
• 新規性審査におけるインターネット情報の証拠性に関する研究

さらに、これらの協力プロジェクトをはじめとしたID5の活動情報に対するユーザーアクセスを向上させるために、ID5公式ウェブサイトの刷新が図られました。

• 参考 ID5公式ウェブサイト（外部サイトへリンク）

松永特許庁長官（中央）、谷山審査第一部長（右端）と各庁代表者

松永特許庁長官による歓迎の挨拶

ID5年次会合ユーザーセッションの様子

［更新日　2021年3月17日］

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