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第11回意匠五庁(ID5)年次会合が開催されました

2025年10月30日

2025年10月23日、日米欧中韓による意匠五庁(ID5)年次会合がアメリカ合衆国アレクサンドリアで開催され、日本国特許庁(JPO)からは北村審査第一部長が出席しました。

会合では、10の協力プロジェクトの進捗状況及び今後の進め方について議論を行うとともに、国際意匠登録出願に関する2つの協力プロジェクトを新たに実施することで合意しました。また、2026年は、中国国家知識産権局(CNIPA)がホスト庁を務めることで決定しました。

翌24日には、各国・地域のユーザー団体の代表を交えたID5ユーザーセッションが開催されました。本年のホスト庁であるUSPTOからID5年次会合の結果概要が、各庁及びWIPOから最新動向が報告された後、「ID5の未来」をテーマとしてユーザー団体の代表から講演が行われ、各庁とユーザーとの意見交換が実施されました。

また、ID5年次会合の前日22日には、国際ラウンドテーブル「AIと意匠」が開催され、日米欧の各庁代表者及び米国の専門家が、生成AIを用いて創作された意匠の創作者性等について発表と議論を行いました。

JPOは、我が国の優れた意匠が世界でより適切に保護、活用されるための環境の整備に向けて、引き続きID5の取組を進めてまいります。

(写真)ID5各庁及びWIPO代表者の集合写真(北村審査第一部長(左から二番目))

ID5各庁及びWIPO代表者の集合写真
(北村審査第一部長(左から二番目))

(写真)国際ラウンドテーブル「AIと意匠」登壇者の集合写真(北村審査第一部長(右から三番目))

国際ラウンドテーブル「AIと意匠」登壇者の集合写真
(北村審査第一部長(右から三番目))

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[更新日 2025年10月30日]