令和7年度知的財産に関する日中共同研究調査報告書

表紙（PDF：779KB）

日中共同研究参加者一覧（PDF：781KB）

目次（PDF：102KB）

第1章 令和7年度 知的財産保護包括協力推進事業の概要（PDF：211KB）

• 第1節 事業の背景と目的
• 第2節 事業の概要
• 第3節 研究者会議、意見交換の概要

第2章 間接侵害に関する比較研究2（PDF：1,578KB）

• 第1節 研究内容の要約
• 第2節 中国における間接侵害
  • Ⅰ. オンライン取引プラットフォーム事業者の商標権侵害責任
    　　　中南財経政法大学 知識産権研究センター　呉 漢東 教授
  • Ⅱ. ネットワークシステム特許の越境実施に関する法的問題 ――侵害判定と管轄権の国際調和
    　　　中国社会科学院 知識産権センター　管 育鷹 教授
  • Ⅲ. 特許間接侵害の構成要件に関する分析
    　　　北京大学法学院　張 平 教授
• 第3節 日本における間接侵害
  • Ⅰ. 複数主体が関与する実施高位と属地主義の関係～日本法の現況と課題～
    　　　東京大学法学政治学研究科　田村 善之 教授
  • Ⅱ. 複数主体が関与する特許権侵害行為と間接侵害
    　　　早稲田大学法学学術院　鈴木 將文 教授
  • Ⅲ. 特許権の間接侵害：外国法を参照軸とした日本の課題と提言
    　　　福岡工業大学社会環境学部　橘 雄介 准教授

第3章 意匠の登録要件（新規性、創作非容易性）や同一性（補正、優先権）に関する比較研究（PDF：1,387KB）

• 第1節 研究内容の要約
• 第2節 中国の意匠の登録要件（新規性、創作非容易性）や同一性（補正、優先権）
  • Ⅰ. 外観設計専利権侵害判定基準についての研究
    　　　中南財経政法大学 知識産権研究センター　彭 学龍 教授
  • Ⅱ. インテリジェントデザインの普遍的な応用と意匠の進歩性判断
    　　　中国社会科学院 知識産権センター　李 菊丹 教授
  • Ⅲ. 「製品」要件の視点から見た仮想空間における中国の意匠規則の適用性及び著作権との境界
    　　　国家知識産権局知識産権発展研究センター　顧 昕 首席研究員
• 第3節 日本の意匠の登録要件（新規性、創作非容易性）や同一性（補正、優先権）
  • Ⅰ. 意匠法3条2項が定める創作非容易性要件の考察
    　　　大阪大学大学院高等司法研究科　茶園 成樹 教授
  • Ⅱ. 意匠法における新規性―新しいテクノロジーに備えて
    　　　大阪大学大学院法学研究科　青木 大也 准教授
  • Ⅲ. 意匠の同一性
    　　　慶應義塾大学大学院法務研究科　麻生 典 准教授

奥付（PDF：59KB）

全体版一括ダウンロード（PDF：2,926KB）

［更新日　2026年5月19日］

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