平成29年度知的財産に関する日中共同研究報告書

表紙（PDF：36KB）

日中共同研究参加者一覧（PDF：45KB）

目次（PDF：105KB）

第1章 平成29年度 知的財産保護包括協力推進事業の概要（PDF：244KB）

• 第1節 共同研究の背景と目的
• 第2節 共同研究の概要
• 第3節 研究者会議、ワークショップ、意見交換の概要

第2章 知財専門裁判所の在り方に関する研究（PDF：651KB）

• 第1節 研究内容の要約
• 第2節 知的財産高等裁判所の設立以来
  1. 「知的財産高等裁判所の大合議制度の評価と課題」
     中山 一郎 教授（國學院大學）
  2. 「知的財産分野における近時の最高裁判決の傾向について」
     宮脇 正晴 教授（立命館大学）
• 第3節 知識産権専門法院の在り方
  1. 「中国における知識産権法院建設の理論と実践」
     呉 漢東 教授（中南財経政法大学）
  2. 「中国における知識産権法院の設置及び発展」
     李 明徳 教授（中国社会科学院）

第3章 悪意の商標に関する研究（PDF：799KB）

• 第1節 研究内容の要約
• 第2節 中国の制度現状から
1. 「商標の抜け駆け登録抑制問題における商品化権―中日の学説と制度の比較」
   彭 学龍 教授（中南財経政法大学）
2. 「商標の悪意ある冒認出願規制の日中比較研究」
   張 鵬 助理研究員（中国社会科学院）
• 第3節 日本の制度現状から
1. 「悪意の商標出願と商標法の基本理念」
   小塚 荘一郎 教授（学習院大学）
2. 「国内外の地名等を含む商標の商標登録出願の取扱いに関する研究」
   今村 哲也 准教授（明治大学）

第4章 部分意匠の保護に関する研究（PDF：1,264KB）

• 第1節 研究内容の要約
• 第2節 日本の制度現状
1. 「部分意匠の類否判断について」
   茶園 成樹 教授（大阪大学）
2. 「部分意匠と全体意匠―その関係について」
   青木 大也 准教授（大阪大学）
• 第3節 中国における部分外観設計の保護
1. 「中国における部分外観設計保護の追加に関する研究」
   曹 新明 教授（中南財経政法大学）
2. 「外観設計制度における「部分要素」が全体判断原則に及ぼす影響」
   顧 昕 助理研究員（国家知識産権局知識産権発展研究センター）
3. 「部分外観設計の侵害判断に関する研究」
   管 育鷹 教授（中国社会科学院）

第5章 基礎調査概要

1. 中国知的財産法院と非知的財産法院の比較調査（PDF：289KB）
   
2. 中国悪意の商標調査（PDF：438KB）
   
3. 中国商標侵害訴訟調査（PDF：321KB）
   

奥付（PDF：36KB）

全体版一括ダウンロード（PDF：2,544KB）

基礎資料　I. 中国知的財産法院と非知的財産法院の比較調査（PDF：485KB）

基礎資料　II. 中国悪意の商標調査（PDF：288KB）

基礎資料　III. 中国商標侵害訴訟調査（PDF：490KB）

［更新日　2018年4月13日］

お問い合わせ

特許庁総務部国際政策課  多国間政策第二班 電話：03-3581-1101  内線2564 FAX:03-3581-0762