第1回意匠審査基準ワーキンググループ 議事要旨

平成20年7月31日

特許庁

7月29日（火曜日）午後、産業構造審議会知的財産政策部会意匠制度小委員会第1回意匠審査基準ワーキンググループ(座長：水谷　直樹　水谷法律特許事務所　弁護士・弁理士)が開催された。

1.審議内容

事務局から、資料4「優先権認否における意匠の同一の判断(案)」、資料5「画像を含む意匠の審査運用案について(案)」について説明した後、それぞれ自由討議を行ったところ、委員からの意見・質問の概要は以下のとおり。

(1)優先権認否における意匠の同一の判断

• 改訂案の記載内容は明確にされており、評価できる。当該基準は、海外の企業だけでなく、我が国の企業にも恩恵を受けるものであるので、趣旨についても賛同する。
• 海外ユーザーが我が国の意匠制度の運用を十分に理解するための情報が不足している。日本の審査基準を英訳する等し、積極的に海外に情報発信する必要がある。
• 複数の意匠が含まれる一つの海外の出願に基づき優先権主張する場合、日本に出願後分割が可能と考えてよいか。
  →出願後分割が可能か否かは、我が国の審査基準等に基づいて判断される。すなわち、我が国への最初の出願に一つの意匠のみが含まれている場合分割はできず、複数の意匠が含まれている場合は、分割が可能である。
  なお、複数の意匠が含まれる海外の一件の出願を基礎として、我が国に優先権主張を伴う複数の意匠登録出願を行うことは可能である。
• 資料に「実質的に同一」という表現が用いられているが、従来から用いられている意匠法第3条第1項や第9条等で意匠の類否を行う際の「同一」という考え方も、これからは「実質的同一」まで含むものとなるのか。
  →優先権認否における意匠の同一の解釈の際に用いると考えており、直ちに意匠法の「同一」の考え方を変えるものではない。

(2)画像を含む意匠の審査運用案について

• 今回の審査基準の改訂案は、今まで不明確だった点が明確にされており評価できる一方、立法経緯を鑑みると、文言の解釈が限定的に感じられる。
• 変化する画像の保護範囲の拡大について、引き続き検討いただきたい。
• 画面の保護について、デザイナーが求める保護についてヒアリングを行い、デザイナーが重要だと考える創作を踏まえ、その創作を保護できるよう、今後の法改正や基準の改訂を行っていただきたい。
• 基準の中で、正確な表現をするために冗長な表現となっている部分が散見される。ユーザビリティを高める観点から、必要な点に絞って明記した分かりやすい基準にしていただきたい。
  

2.今後のスケジュール

基準改訂案等については、本日の意見を踏まえた修正を加えた後、パブリックコメントに諮ることとし、寄せられた意見も踏まえ、次回ワーキンググループにおいて、更に議論をした上で意匠審査基準に反映させる。

第2回意匠審査基準ワーキンググループは、10月上旬頃に開催予定。

［更新日　2008年8月4日］

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