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日シンガポール特許審査ハイウェイ試行プログラムについて

特許庁調整課

平成21年7月1日より試行プログラムを実施中

日本国特許庁とシンガポール知的財産庁は、平成21年6月16日にシンガポールで開催された日シンガポール特許庁長官会合での合意を受けて、特許審査ハイウェイ試行プログラムを平成21年7月1日より実施しています。

(平成21年6月の合意時の写真:リュー長官と鈴木長官)

(平成21年6月の合意時の写真:リュー長官と鈴木長官)

各庁における申出手続については、以下のページの資料を御参照下さい。

ガイドライン(要件と手続の詳細)・記入様式のページ

リンク

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[更新日 2013年2月13日]

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