途上国研修「商標実体審査コース」を実施しました

2026年4月7日

2026年1月29日から2月6日にかけて、「商標実体審査コース」を実施しました。各国知財庁の商標審査に従事する職員を対象とし、18か国1組織21名が参加しました。

本コースは、審査基準、審査実務の専門知識について理解を深め、商標審査官に必要な専門能力を高めることを目的としています。商標に関する法令、審査基準、品質管理、実体審査に係る日本の経験や知識に関する講義が行われ、実際の出願例を用いたケーススタディおよびディスカッションを通して理解を深めました。

研修生からは、「他国の知的財産庁の運営方法について貴重な洞察を得ることができ、自国への提案を作成することができた。」「法的原則、審査実務、実務演習のバランスが効果的で、理解が深まった。」といったコメントが寄せられました。

修了式の様子

［更新日　2026年4月7日］

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