第3回商標五庁会合（TM5）の結果について

12月3日から5日にかけて、日米欧中韓による商標五庁（TM5）会合を東京で開催しました。今次会合では、有名な地名やブランドなどの商標が海外において無関係な第三者により無断で商標出願・登録される、いわゆる「悪意の商標出願」に対応するための各国の制度・運用や、商標の画像イメージ検索における課題と解決策等について、それぞれ報告書が取りまとめた他、計12のプロジェクトの成果を盛り込んだ共同声明を発出しました。
なお、次回TM5会合及びID5会合は米国が主催することで同意しました。

今次会合の主な成果

(1)商標分野

1.悪意の商標出願対策プロジェクト

有名な地名やブランドなどの商標が海外において無関係な第三者により無断で商標出願・登録される、いわゆる「悪意の商標出願」は、世界的な問題となっています。
今次会合では、我が国が取りまとめた「悪意の商標出願に関するTM5の制度・運用」報告書が、各国の制度・運用に関する情報の共有と提供を図るものとして高く評価されました。この報告書は、一般に公表する予定です。また、悪意の商標出願セミナーを定期的に開催し、今後も悪意の商標出願について研究を深め、対応策を検討していくことについて合意されました。

2.図形商標のイメージサーチプロジェクト

図形商標をイメージ検索する場合の課題及びその解決策、イメージサーチシステムを導入する場合の利用方法など、これまでの共同研究の成果を我が国が報告書に取りまとめ、今後の図形商標検索システムの発展に資するものとして高く評価されました。この報告書は一般に公表する予定です。また、この共同研究を今後も行っていくことが合意されました。

3.国際商標出願の利便性向上プロジェクト（新規）

一つの出願で複数国への出願が可能となる商標の国際出願制度については、権利を取得するための制度や手続が国ごとに異なっており、言語の違いもあることから、出願人が必要な情報を入手し難い状況となっています。今次会合では、国際商標出願制度の利用を促進するために、我が国の主導で、WIPOと協同して、各指定国（出願先）における制度や手続に関する情報を分かりやすいフォーマットで提供していくことが合意されました。

4.その他

また、今次会合中12月5日に、一般ユーザーを対象として、商標ユーザーセッションが開催されました。各国の最新の法改正等の商標施策が報告された他、来年春を目処に我が国でも出願の受付が開始される、音商標や動き商標などの「非伝統的商標」についての各庁の登録事例の紹介等に関するプレゼンテーション・パネルディスカッションが行われ、企業、弁理士、弁護士等、約250名の多数のユーザーの皆様にご参加いただきました。

第3回商標五庁会合（TM5）商標ユーザーセッション

(2)意匠分野（※）

各国におけるデザインの重要性の高まりを受け、これまで日米欧韓の4庁で開催してきたTM5意匠セッションにおいて、中国を加えた新たな多国間での意匠の議論の場を創設することについて、活発な意見交換を続けてきました。そして、本会合において、意匠セッションをTM5から分離し、意匠五庁会合（ID5）を創設することに合意しました。

新たなID5の枠組においては、各庁における国際意匠出願に関する運用、意匠分類の維持・管理・運用や、審査の品質管理といった各庁共通課題について、継続して情報交換を行っていくことを確認しました。

※意匠分野の専門家会合は、日米欧韓の四庁により開催。

共同声明

• 共同声明（特許庁作成の仮訳付き）（PDF：126KB）

［更新日　2014年12月22日］

お問い合わせ

意匠に関すること 特許庁総務部国際協力課意匠政策班 電話：03-3581-1101 内線2572   商標に関すること 特許庁総務部国際協力課商標政策班 電話：03-3581-1101 内線2572