第6回商標五庁会合（TM5）の結果について

日米欧中韓の商標五庁（TM5）は、2017年11月30日及び12月1日、スペイン・アリカンテにおいて、第6回TM5会合を開催しました。今回の会合では、日本国特許庁（JPO）がリードする「悪意の商標プロジェクト」、「イメージサーチプロジェクト」等を含む計13の協力プロジェクトについて各担当庁から進捗状況の報告及び今後の進め方に関する提案が行われ、新たに3つの協力プロジェクトを採択しました。

また、会合2日目には、各国の業界団体・代理人団体等のユーザー団体を招いたユーザーセッションを開催し、「悪意の商標」、「品質管理」等のテーマについて意見交換を行いました。

なお、次回TM5会合は韓国特許庁（KIPO）が主催することで合意しました。

今次会合の主な成果

（1）品質管理プロジェクト（新規）

JPO及び欧州連合知的財産庁（EUIPO）が共同提案した「品質管理プロジェクト」を、新規協力プロジェクトとして採択しました。

本プロジェクトは、TM5各庁における審査実施体制・品質管理体制やその取組について情報を交換することにより、TM5各庁が品質管理に関する相互理解・相互信頼を高めることを目的としています。また、本プロジェクトにより、TM5各庁において、それぞれの取組の相違点を把握することが可能となり、必要に応じて、自庁の品質管理に関する取組に自発的に反映するなど、相互間での品質管理の向上が期待されます。

（2）悪意の商標プロジェクト

2017年5月にTM5ジョイント・ワークショップ^※1で公表した「悪意の商標出願事例集」^※2の拡充方法について、JPOから、事例掲載のフォーマットの柔軟化、「悪意」のカテゴリーの見直し、TM5及びTM5 以外の他国事例の追加を提案し、合意しました。

※1：JPOがリードする「TM5ユーザー参画プロジェクト」の一環で、国際商標協会（INTA）と共催したワークショップ。

※2：JPOの主導の下作成した、TM5における悪意の商標出願事例を掲載したもの。TM5ウェブサイト（http://tmfive.org/）に掲載。

（3）共同声明

• 共同声明（原文）（PDF：192KB）
• 共同声明（特許庁作成の仮訳）（PDF：156KB）

［更新日　2018年3月2日］

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